避位置時包含了第三組透鏡2、第三組保持件3和第三組框架8的一側(cè)的在光軸方向上的厚度必須大于設(shè)置了永磁體8d的一側(cè)的厚度。于是，當(dāng)圖像穩(wěn)定裝置I被制得與第三組保持件3的厚度近乎一樣薄時，第三組框架8的在處于退避位置時配置有第三組透鏡2和第三組保持件3的一側(cè)不會在光軸方向上與霍爾傳感器保持件12重疊。
[0092]g卩，由沖擊引起的第三組框架8的在光軸方向上不與霍爾傳感器保持件12重疊的一側(cè)的光軸方向上的移動不會受到霍爾傳感器保持件12限制。
[0093]如果如圖23所示第三組保持件3沿光軸方向在離開第三組基板9的方向上移動，則第三組桿6的退避接觸銷6b脫出第三組保持件3的干涉避免空間3d。于是，當(dāng)?shù)谌M桿6樞轉(zhuǎn)時，退避接觸銷6b不與退避接觸部3c接觸，并且第三組保持件3的退避操作變得不可能。
[0094]在該實(shí)施方式中，如圖11、圖12和圖24所示，由于設(shè)置于第三組基板9的第三組基板銷16與第三組框架8的位置限制壁8f2接觸，所以第三組框架8的在光軸方向上的移動受到限制，這使得能夠進(jìn)行第三組保持件3的退避操作。
[0095]如圖11和圖12所示，第三組基板銷16在與磁體8d相反的位置處、即在沿光軸方向不與霍爾傳感器保持件12重疊的位置處被插入可動空間Sfl內(nèi)。這是因?yàn)榈谌M基板銷16限制第三組框架8的不與霍爾傳感器保持件12重疊的一側(cè)的在光軸方向上的移動。
[0096]由于第三組基板銷16以該方式配置在沿光軸方向不與霍爾傳感器保持件12重疊的位置處，所以第三組框架8的在光軸方向上的移動受到限制，甚至當(dāng)施加了沖擊時這也防止了第三組桿6的退避接觸銷6b從第三組保持件3的干涉避免空間3d脫出。
[0097]將參照圖25和圖26說明第三組基板銷16的配置。
[0098]第三組基板銷16被配置成使得處于進(jìn)入位置時從第三組保持件3與第三組桿6的接合位置(退避接觸銷6b的位置)到第三組基板銷16的距離LI (見圖25)長于處于退避位置時從第三組保持件3與第三組桿6的接合位置到第三組基板銷16的距離L2(見圖26)。此外，第三組基板銷16被配置在處于退避位置時的第三組透鏡2與第三組保持件3的樞轉(zhuǎn)中心(保持件軸5)之間。
[0099]由于第三組基板銷16被配置在處于退避位置時的第三組透鏡2與第三組保持件3的樞轉(zhuǎn)中心之間，所以防止了第三組基板銷16、第三組桿6以及處于退避位置時的第三組保持件3之間的相互干涉。
[0100]此外，由于第三組基板銷16被配置成使得距離LI長于距離L2，所以與第三組桿6處于拍攝狀態(tài)時相比，當(dāng)?shù)谌M桿6位于退避位置時第三組基板銷16更加靠近退避接觸銷6bο第三組基板銷16的這種配置改善了防止當(dāng)在退避位置被施加沖擊時退避接觸銷6b從第三組保持件3的干涉避免空間3d脫出的效果。
[0101]此外，由于第三組桿6獨(dú)立于第三組基板9，所以第三組框架8能夠在沿著光軸移動的狀態(tài)下被組裝至第三組基板9，這改善了組裝作業(yè)性。此外，由于如圖11和圖24所示第三組基板銷16被配置在設(shè)置于第三組框架8中的可動空間Sfl內(nèi)，所以防止了被配置在快門單元32與第二組保持件26之間的圖像穩(wěn)定裝置I的在光軸方向上的厚度增加。
[0102]如上所述，因?yàn)榈谌M基板銷16被配置成使得距離LI長于距離L2，所以本實(shí)施方式防止了退避接觸銷6b從第三組保持件3的干涉避免空間3d脫出。于是，提供了具有高的耐沖擊性的圖像穩(wěn)定裝置I。
[0103]應(yīng)該注意的是，本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式中已經(jīng)描述的那些，如果不脫離本發(fā)明的范圍，則可以對材質(zhì)、形狀、尺寸、形式、元件數(shù)量、配置部位等等進(jìn)行適當(dāng)?shù)馗淖儭?br>[0104]例如，盡管上述實(shí)施方式示出了使保持第三組透鏡2的第三組保持件3在用于校正圖像模糊的方向上在與光軸垂直交叉的平面內(nèi)移動的示例，但是第三組保持件3可以在用于校正圖像模糊的方向上圍繞與光軸垂直交叉的軸線轉(zhuǎn)動。
[0105]此外，盡管上述實(shí)施方式示出了作為光學(xué)裝置的示例的數(shù)字照相機(jī)，但是本發(fā)明不限于此。光學(xué)設(shè)備可以例如是像數(shù)字?jǐn)z像機(jī)一樣的攝像設(shè)備、用于數(shù)字單鏡頭反光照相機(jī)的可更換鏡頭、或者像雙目鏡、望遠(yuǎn)鏡或觀鳥鏡等的觀察設(shè)備。
[0106]雖然參照示例性實(shí)施方式說明了本發(fā)明，但是應(yīng)該理解的是，本發(fā)明不限于所公開的示例性實(shí)施方式。權(quán)利要求書的范圍應(yīng)符合最寬泛的解釋，以包含所有的這樣的變型、等同結(jié)構(gòu)及功能。
[0107]本申請要求2013年12月17日提交的日本專利申請N0.2013-260199和2014年11月12日提交日本專利申請N0.2014-229615的優(yōu)先權(quán)，這些申請的全部內(nèi)容通過引用合并于此。
【主權(quán)項】
1.一種光學(xué)設(shè)備，其包括: 光學(xué)元件； 保持構(gòu)件，其構(gòu)造成保持所述光學(xué)元件； 第一構(gòu)件，所述保持構(gòu)件被以可移動的方式安裝于所述第一構(gòu)件，使得所述光學(xué)元件能夠在所述光學(xué)元件進(jìn)入光路內(nèi)的進(jìn)入位置與所述光學(xué)元件從所述光路退避的退避位置之間移動； 第二構(gòu)件，所述第一構(gòu)件被以可移動的方式安裝于所述第二構(gòu)件； 驅(qū)動構(gòu)件，其構(gòu)造成與所述保持構(gòu)件接合，并且在所述進(jìn)入位置與所述退避位置之間驅(qū)動所述保持構(gòu)件；和 限制構(gòu)件，其構(gòu)造成限制所述第一構(gòu)件的相對于所述第二構(gòu)件的移動量， 其中，所述限制構(gòu)件配置成使得從處于所述進(jìn)入位置時的所述保持構(gòu)件與所述驅(qū)動構(gòu)件的接合位置到所述限制構(gòu)件的距離長于從處于所述退避位置時的所述保持構(gòu)件與所述驅(qū)動構(gòu)件的接合位置到所述限制構(gòu)件的距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述驅(qū)動構(gòu)件被以可移動的方式安裝于所述第二構(gòu)件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一構(gòu)件被安裝于所述第二構(gòu)件使得所述第一構(gòu)件能夠在與所述光學(xué)元件的光軸交叉的方向上移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述限制構(gòu)件在所述第一構(gòu)件在所述光學(xué)元件的光軸的方向上移動時限制所述第一構(gòu)件的移動量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述限制構(gòu)件形成為從所述第二構(gòu)件朝向所述第一構(gòu)件突出。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)設(shè)備，其中，在所述第一構(gòu)件中形成有孔，并且， 所述限制構(gòu)件被安裝于所述第二構(gòu)件并被插入到所述孔內(nèi)。
7.一種光學(xué)設(shè)備，其包括: 光學(xué)元件； 保持構(gòu)件，其構(gòu)造成保持所述光學(xué)元件； 第一構(gòu)件，所述保持構(gòu)件被以可轉(zhuǎn)動的方式安裝于所述第一構(gòu)件，使得所述光學(xué)元件能夠在所述光學(xué)元件進(jìn)入光路內(nèi)的進(jìn)入位置與所述光學(xué)元件從所述光路退避的退避位置之間轉(zhuǎn)動； 第二構(gòu)件，所述第一構(gòu)件被以可移動的方式安裝于所述第二構(gòu)件； 驅(qū)動構(gòu)件，其構(gòu)造成與所述保持構(gòu)件接合，并且在所述進(jìn)入位置與所述退避位置之間驅(qū)動所述保持構(gòu)件；和 限制構(gòu)件，其構(gòu)造成限制所述第一構(gòu)件的相對于所述第二構(gòu)件的移動量， 其中，所述限制構(gòu)件配置在處于所述退避位置的所述光學(xué)元件與所述保持構(gòu)件的轉(zhuǎn)動中心之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述驅(qū)動構(gòu)件被以可移動的方式安裝于所述第二構(gòu)件。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一構(gòu)件被安裝于所述第二構(gòu)件使得所述第一構(gòu)件能夠在與所述光學(xué)元件的光軸交叉的方向上移動。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述限制構(gòu)件在所述第一構(gòu)件在所述光學(xué)元件的光軸的方向上移動時限制所述第一構(gòu)件的移動量。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述限制構(gòu)件形成為從所述第二構(gòu)件朝向所述第一構(gòu)件突出。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)設(shè)備，其中，在所述第一構(gòu)件中形成有孔，并且， 所述限制構(gòu)件被安裝于所述第二構(gòu)件并被插入到所述孔內(nèi)。
【專利摘要】能夠使光學(xué)元件從光路退避的光學(xué)設(shè)備。能夠改善其耐沖擊性的光學(xué)設(shè)備。保持光學(xué)元件的保持構(gòu)件被以可移動的方式安裝于第一構(gòu)件，使得光學(xué)元件可以在光學(xué)元件進(jìn)入光路內(nèi)的進(jìn)入位置與光學(xué)元件從光路退避的退避位置之間移動。第一構(gòu)件被以可移動的方式安裝于第二構(gòu)件。驅(qū)動構(gòu)件與保持構(gòu)件接合并且驅(qū)動保持構(gòu)件。限制構(gòu)件限制第一構(gòu)件的相對于第二構(gòu)件的移動量。限制構(gòu)件配置成使得從處于進(jìn)入位置時的保持構(gòu)件與驅(qū)動構(gòu)件的接合位置到限制構(gòu)件的距離長于從處于退避位置時的接合位置到限制構(gòu)件的距離。
【IPC分類】G03B5-00, H04N5-225, G03B17-04
【公開號】CN104714352
【申請?zhí)枴緾N201410781825
【發(fā)明人】寺田修一
【申請人】佳能株式會社
【公開日】2015年6月17日
【申請日】2014年12月16日
【公告號】US20150168683