層604可通過一次構圖工藝同時形成。
[0167]還需要說明的是，在步驟S12中，也可以在襯底基板的第四表面104上直接依次形成不透光的第三電極601、第二發(fā)光層603、與所述第三電極601相對的可透光的第四電極602以及設置于所述第三電極601和所述第四電極602之間并圍設在所述第二發(fā)光層603四周的第二遮光層604。
[0168]此外，還需說明的是，在顯示面板的制作過程中，陣列基板20上需要貼第二偏光片800，因此，考慮到貼第二偏光片800對于步驟S12中轉印工藝的影響，在本發(fā)明所提供的方法中，步驟S12可以是在陣列基板20的襯底基板上先進行轉印形成光源結構200，再進行基板切割之后，貼第二偏光片800 ;或者，也可以是，在陣列基板20的襯底基板進行基板切割之后，在襯底基板上進行轉印，再貼第二偏光片800。其中如圖7至圖8所示，貼第二偏光片800的步驟可根據需要調整其順序。
[0169]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種顯示基板，其特征在于，包括: 襯底基板，包括顯示區(qū)域和周邊區(qū)域； 形成于所述襯底基板的周邊區(qū)域的光源結構； 以及，用于限定所述光源結構發(fā)出的光出射方向，以使得所述光源結構所發(fā)出的光朝預定方向出射的遮光結構。
2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于， 所述顯示基板為彩膜基板，所述襯底基板包括相對的第一表面和第二表面； 其中，所述襯底基板的第一表面的顯示區(qū)域設置有黑矩陣， 所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域設置有所述光源結構，且所述光源結構的發(fā)光面面對所述襯底基板的第二表面。
3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于， 所述遮光結構包括: 形成于所述襯底基板的第一表面的周邊區(qū)域的第一遮光部，所述第一遮光部包括一由不透光材料制成的框架結構，所述框架結構具有一中空區(qū)，且所述中空區(qū)正對所述光源結構。
4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于， 所述第一遮光部與所述黑矩陣材質相同，并與所述黑矩陣同層設置。
5.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于， 所述遮光結構還包括: 形成于所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域的第二遮光部，所述第二遮光部包括第一遮光罩結構，所述第一遮光罩結構具有一開口，且所述第一遮光罩結構的開口朝向所述襯底基板的第二表面而罩設于所述光源結構上。
6.根據權利要求5所述的顯示基板，其特征在于， 所述光源結構包括電致發(fā)光組件，所述電致發(fā)光組件包括: 形成于所述襯底基板的第二表面上的可透光的第一電極； 形成于所述第一電極的遠離所述襯底基板的一側，并與所述第一電極相對的不透光的第二電極； 以及形成于所述第一電極和所述第二電極之間的第一發(fā)光層； 其中在所述第一電極和所述第二電極之間設置有圍設在所述第一發(fā)光層四周的第一遮光層，且所述第一遮光層與所述第二電極配合，形成所述第一遮光罩結構。
7.根據權利要求6所述的顯示基板，其特征在于， 所述第一遮光層和/或所述第二電極采用反射率大于預設值的金屬制成，用于將所述第一發(fā)光層發(fā)出的光反射至所述第一遮光罩結構的開口。
8.根據權利要求6所述的顯示基板，其特征在于， 所述第一遮光層與所述第二電極連接為一體，且所述第一遮光層與所述第一電極之間設置有第一絕緣層。
9.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于， 所述顯示基板為陣列基板，所述襯底基板包括相對的第三表面和第四表面； 其中，所述第三表面的顯示區(qū)域設置有薄膜晶體管， 所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域設置有所述光源結構，且所述光源結構的發(fā)光面背向所述襯底基板的第四表面。
10.根據權利要求9所述的顯示基板，其特征在于， 所述遮光結構包括: 形成于所述襯底基板的第四表面上的第三遮光部，所述第三遮光部包括第二遮光罩結構，所述第二遮光罩結構具有一開口，所述光源結構設于所述第二遮光罩內，且所述第二遮光罩結構的開口背向所述襯底基板的第四表面。
11.根據權利要求9所述的顯示基板，其特征在于， 所述光源結構包括電致發(fā)光組件，所述電致發(fā)光組件包括: 形成于所述襯底基板的第四表面上的不透光的第三電極； 形成于所述第三電極的遠離所述襯底基板的一側，并與所述第三電極相對的可透光的第四電極； 以及形成于所述第三電極和所述第四電極之間的第二發(fā)光層； 其中在所述第三電極和所述第四電極之間設置有圍設在所述第二發(fā)光層四周的第二遮光層，且所述第二遮光層與所述第三電極配合，形成所述第二遮光罩結構。
12.根據權利要求11所述的顯示基板，其特征在于， 所述第二遮光層和/或所述第三電極采用反射率大于預設值的金屬制成，用于將所述第二發(fā)光層發(fā)出的光反射至所述第二遮光罩結構的開口。
13.根據權利要求11所述的顯示基板，其特征在于， 所述第二遮光層與所述第三電極連接為一體，且所述第二遮光層與所述第四電極之間設置有第二絕緣層。
14.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，所述的方法包括: 在襯底基板的周邊區(qū)域形成光源結構； 在襯底基板上形成用于對所述光源結構發(fā)出的光進行遮擋，以使得所述光源結構所發(fā)出的光朝預定方向出射的遮光結構。
15.根據權利要求14所述的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 在所述襯底基板的第一表面的顯示區(qū)域形成黑矩陣； 在所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，其中所述光源結構的發(fā)光面面對所述襯底基板的第二表面。
16.根據權利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述方法中，采用轉印方式在所述襯底基板的第二表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，具體包括: 在轉印版上形成所述光源結構，包括:在轉印版上依次形成不透光的第二電極、第一發(fā)光層、與所述第二電極相對的可透光的第一電極以及設置于所述第一電極和所述第二電極之間并圍設在所述第一發(fā)光層四周的第一遮光層； 在所述襯底基板的第一表面的周邊區(qū)域涂布第一粘結樹脂層； 將轉印版上的光源結構的第一電極面對所述第一粘結樹脂層； 熔融所述第一粘結樹脂層，利用所述第一粘結樹脂層的黏結性將所述第二電極、第一發(fā)光層、第一電極及第一遮光層轉印至所述襯底基板上。
17.根據權利要求14所述的制作方法，其特征在于， 在所述襯底基板的第三表面的顯示區(qū)域形成薄膜晶體管； 在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，其中所述光源結構的發(fā)光面背對所述襯底基板的第四表面。
18.根據權利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述方法中，采用轉印方式在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域形成所述光源結構，具體包括: 在轉印版上形成所述光源結構，包括:在轉印版上依次形成可透光的第四電極、第二發(fā)光層、與所述第四電極相對的不透光的第三電極以及設置于所述第三電極和所述第四電極之間并圍設在所述第二發(fā)光層四周的第二遮光層； 在所述襯底基板的第四表面的周邊區(qū)域涂布第三粘結樹脂層； 將轉印版上的所述第三電極正對所述第三粘結樹脂層； 熔融所述第三粘結樹脂層，利用所述第三粘結樹脂層的黏結性將所述第四電極、第二發(fā)光層、第三電極及所述第二遮光層轉印至所述襯底基板上。
19.一種顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1至13任一項所述的顯示基板。
20.—種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求19所述的顯示面板及背光模組，所述背光模組包括設置于所述顯示面板的一側的導光板，其中，所述導光板至少包括與顯示面板的周邊區(qū)域上的光源結構位置相對應的入光部分，所述光源結構所發(fā)出的光通過所述遮擋結構朝預定方向出射至所述導光板的入光部分。
【專利摘要】本發(fā)明的目的在于提供一種顯示基板、顯示面板、顯示裝置及顯示基板的制造方法，所述顯示基板包括：襯底基板，包括顯示區(qū)域和周邊區(qū)域；形成于所述襯底基板的周邊區(qū)域的光源結構；以及，用于限定所述光源結構發(fā)出的光出射方向，以使得所述光源結構所發(fā)出的光朝預定方向出射的遮光結構。通過上述方案，能夠在基板上進行背光集成，從而達到了將背光和基板集成一起的技術效果，解決了顯示裝置的顯示面板與光源無法集成的問題。
【IPC分類】G02F1-1333, G02F1-13357
【公開號】CN104765197
【申請?zhí)枴緾N201510184186
【發(fā)明人】曲連杰, 郭建
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年4月17日