光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率；
[0037]步驟S12:將經(jīng)過激光處理后的掩膜版置于光刻機中，以使所述經(jīng)過激光處理后的掩膜版用于光刻工藝。
[0038]在本申請實施例中，所述具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法中，首先需要對具有缺陷圖案的掩膜版進行處理，然后再利用處理后的具有缺陷圖案的掩膜版進行光刻工藝。
[0039]進一步的，請參考圖3，其為本發(fā)明實施例中的掩膜版及晶圓的狀態(tài)示意圖。如圖3所示，所述掩膜版20包括多個圖案，在此示意性地示出了 4個掩膜版圖案，其中，圖案200為具有缺陷的圖案，例如圖案200發(fā)生了剝離問題；圖案201為符合光刻要求的圖案，相應的稱為沒有缺陷的圖案。在本申請實施例中，所述具有缺陷的圖案200為小于設計規(guī)則的線條或島型圖案，所述沒有缺陷的圖案201可以為小于設計規(guī)則的線條或島型圖案、器件圖案、測試圖案等中的一種或多種。在本申請的其他實施例中，所述具有缺陷的圖案200也可以為其他種類的圖案。
[0040]在本申請實施例中，通過激光處理后，具有缺陷的圖案200處的石英玻璃中將形成陰影22，從而降低了具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率。具體的，利用脈沖激光器產(chǎn)生脈沖激光，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案200處的石英玻璃中形成陰影。具體的，請參考圖4，其為本發(fā)明實施例中所使用的激光脈沖系統(tǒng)的結構示意圖。通過所述激光脈沖系統(tǒng)可精確、可靠地在具有缺陷的圖案200處的石英玻璃中形成陰影。
[0041]如圖4所示，所述激光脈沖系統(tǒng)包括脈沖激光器31、光束轉(zhuǎn)向器32以及聚光器33，其中，所述脈沖激光器31用以產(chǎn)生脈沖激光，所述光束轉(zhuǎn)向器32用以使得脈沖激光器31產(chǎn)生的脈沖激光專項，所述聚光器33用以使得經(jīng)過光束轉(zhuǎn)向器32的脈沖激光聚集。在此，通過脈沖激光器31產(chǎn)生脈沖激光可實現(xiàn)反復在具有缺陷的圖案上投下陰影，從而降低控制/工藝要求；而通過所述光束轉(zhuǎn)向器32及聚光器33能夠使得所述脈沖激光器31產(chǎn)生的脈沖激光具有更大的靈活性，即能夠改變脈沖激光器31產(chǎn)生的脈沖激光的方向及能夠使得脈沖激光器31產(chǎn)生的激光更聚集，從而更好地實現(xiàn)在具有缺陷的圖案上投下陰影以降低具有缺陷的圖案的透光率，提高生產(chǎn)良率。
[0042]在本申請實施例中，所述具有缺陷的圖案200為小于設計規(guī)則的線條或島型圖案。經(jīng)過激光處理后，所述具有缺陷的圖案處的石英玻璃的透光率小于50%。優(yōu)選的，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影的用時為Ims?1000s。由此，既能夠在具有缺陷的圖案200處的石英玻璃中形成陰影，降低了具有缺陷圖案200處的石英玻璃的透光率；又能夠保證生產(chǎn)效率。
[0043]在本申請實施例中，在對具有缺陷圖案的掩膜版20處理后，將繼續(xù)正常使用所述具有缺陷圖案的掩膜版20。即，將經(jīng)過激光處理后的掩膜版20置于光刻機中，以使所述經(jīng)過激光處理后的掩膜版用于光刻工藝。
[0044]請繼續(xù)參考圖3，通過對掩膜版20進行光照，可將掩膜版20上的圖案轉(zhuǎn)移到晶圓21上，使得晶圓21上形成了光刻圖案210。在此，晶圓21上只形成了三個光刻圖案210，該三個光刻圖案210對應掩膜版20上的圖案201，即該三個光刻圖案210是通過掩膜版20上的圖案201光刻轉(zhuǎn)移而得到。而掩膜版20上的具有缺陷的圖案200，由于陰影22的作用，將不發(fā)生光刻轉(zhuǎn)移，從而避免了將其缺陷帶到晶圓21上，從而降低了光刻工藝后的晶圓21發(fā)生缺陷的風險，提聞了生廣良率。
[0045]綜上可見，在本申請實施例提供的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法中，通過激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的透光率，從而在利用具有缺陷圖案的掩膜版進行曝光的過程中，避免了缺陷圖案在晶圓上的形成，降低了光刻工藝后的晶圓發(fā)生缺陷的風險，由此再利用了具有缺陷的掩膜版，避免了修復具有缺陷的掩膜版或者重新制作掩膜版所帶來的高制造成本的問題，即降低了制造成本；同時，又提高了生產(chǎn)良率。
[0046]上述描述僅是對本發(fā)明較佳實施例的描述，并非對本發(fā)明范圍的任何限定，本發(fā)明領域的普通技術人員根據(jù)上述揭示內(nèi)容做的任何變更、修飾，均屬于權利要求書的保護范圍。
【主權項】
1.一種具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，其特征在于，包括: 提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個圖案，其中一個或者多個圖案具有缺陷； 通過激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率。2.如權利要求1所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，其特征在于，經(jīng)過激光處理后，所述具有缺陷的圖案處的石英玻璃的透光率小于50%。3.如權利要求1所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，其特征在于，所述具有缺陷的圖案為小于設計規(guī)則的線條或島型圖案。4.如權利要求1所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，其特征在于，利用脈沖激光器產(chǎn)生脈沖激光，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影。5.如權利要求4所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，其特征在于，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影的用時為Ims?1000s。6.一種具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，其特征在于，包括: 提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個圖案，其中一個或者多個圖案具有缺陷； 通過激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率； 將經(jīng)過激光處理后的掩膜版置于光刻機中，以使所述經(jīng)過激光處理后的掩膜版用于光刻工藝。7.如權利要求6所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，其特征在于，所述具有缺陷的圖案將不發(fā)生轉(zhuǎn)移。8.如權利要求6所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，其特征在于，經(jīng)過激光處理后，所述具有缺陷的圖案處的石英玻璃的透光率小于50%。9.如權利要求6所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，其特征在于，所述具有缺陷的圖案為小于設計規(guī)則的線條或島型圖案。10.如權利要求6所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，其特征在于，利用脈沖激光器產(chǎn)生脈沖激光，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，通過激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的透光率，在利用具有缺陷圖案的掩膜版進行曝光的過程中，避免了缺陷圖案在晶圓上的形成，從而降低了光刻工藝后的晶圓發(fā)生缺陷的風險，由此再利用了具有缺陷的掩膜版，從而避免了修復具有缺陷的掩膜版或者重新制作掩膜版所帶來的高制造成本的問題，即降低了制造成本；同時，又提高了生產(chǎn)良率。
【IPC分類】G03F1/80
【公開號】CN104898370
【申請?zhí)枴緾N201410083024
【發(fā)明人】胡華勇
【申請人】中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2014年3月7日