相應的通量引導結(jié)構(gòu)。由于系統(tǒng)想要減小磁阻，所以各個的磁通量引導結(jié)構(gòu)將被附接到關(guān)聯(lián)的返回結(jié)構(gòu)以減小兩個軟磁結(jié)構(gòu)之間的間隙以及減小針對磁通量的阻抗。從而，移動了壁狀構(gòu)件和光學構(gòu)件。根據(jù)各個線圈中的電流，這允許人們沿著所述軸向軸向地移動壁狀構(gòu)件和/或相對于由透鏡塑形構(gòu)件跨越的平面傾斜壁狀構(gòu)件。這樣的致動器裝置也被稱為磁阻致動器。
[0044]根據(jù)另外的實施例，致動器裝置可以包括多個第一電極，特別地，兩個、三個或四個，布置在壁狀構(gòu)件中或上，以及相應的多個第二電極連接到承載架，其中各第一電極關(guān)聯(lián)到不同的第二電極且面對或背對各個的第二電極，以在各個關(guān)聯(lián)電極之間存在間隙。通過在各個的第一和第二電極之間施加電壓，光學元件可以軸向移動和或相對于所述平面傾斜。
[0045]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，透鏡設(shè)備包括位置傳感器裝置，用于檢測光學元件或諸如壁狀構(gòu)件之類的連接到光學元件的組件的空間位置，例如，相對于諸如透鏡塑形構(gòu)件的位置之類的參考位置。通過將光學元件的空間位置調(diào)整到定義的狀態(tài)，可以定義光學設(shè)備的光學屬性。這包括由可變形薄膜形成的透鏡的光學功率，和可變棱鏡的角度。
[0046]當使用磁阻致動器形式的致動器裝置時，位置傳感器裝置可以有利地被設(shè)計成使用高頻電流信號以通過線圈測量壁狀構(gòu)件/光學元件的空間位置。換句話說，在本發(fā)明的一實施例中，致動器裝置用于檢測壁狀構(gòu)件/光學元件的空間位置，特別地通過被設(shè)計成直接檢測與通量引導結(jié)構(gòu)740和返回結(jié)構(gòu)700之間的間隙關(guān)聯(lián)的磁阻致動器的磁阻。
[0047]當壁狀構(gòu)件由于移動更靠近線圈時，在線圈/返回結(jié)構(gòu)和壁狀構(gòu)件之間的間隙變得更小導致磁場的磁阻減小且從而線圈電感增加，從而其是對所述間隙的寬度以及從而對壁狀構(gòu)件/光學元件的空間位置的測量。該方法的最大優(yōu)點在于其示出了在輸出信號與壁狀構(gòu)件/光學元件的位移(間隙寬度)之間的線性關(guān)系。
[0048]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，光學元件是透明的。在該情況下，透鏡設(shè)備可以是照相機的一部分或其自身可以形成照相機，例如移動電話的照相機。
[0049]根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，光學元件被形成為具有面向例如朝向所述容積的反射表面的鏡子。例如，所述鏡子可以適配成反射通過薄膜進入透鏡的光，行經(jīng)所述容積，撞擊鏡子且然后朝薄膜反射。
[0050]在該情況下，透鏡設(shè)備可以是掃描儀的一部分或其自身可以形成掃描儀。
[0051]此外，光學元件可以包括涂層。
[0052]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，當所述光學元件被形成為鏡子時，壁狀構(gòu)件通過接合點連接到滑動布置在套管中的細長的銷，其中特別地，所述套管連接到透鏡設(shè)備和/或所述承載架的殼體。以此方式，光學構(gòu)件/壁狀構(gòu)件的移動/傾斜可以被安全引導。
[0053]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，透鏡設(shè)備還包括移動傳感器裝置，其用于檢測例如要抵消的透鏡設(shè)備的意外迅速移動。移動傳感器裝置可以被設(shè)計成檢查偏航移動和/或俯仰運動，即圍繞兩個正交的軸線旋轉(zhuǎn)，上述軸線各自與光軸/軸向正交。
[0054]根據(jù)本發(fā)明另外的優(yōu)選實施例，為了提供圖像穩(wěn)定，透鏡設(shè)備包括與所述移動傳感器裝置交互的控制單元，該控制單元被設(shè)計成根據(jù)移動傳感器裝置檢測的要抵消的移動來控制致動器裝置，以便光學元件被致動器裝置相對于由透鏡塑形構(gòu)件跨越的平面傾斜，以便以抵消所述檢測到的意外的迅速移動的方式改變經(jīng)過透鏡設(shè)備的入射光的方向。由于意外的移動導致特定圖像點的位移，例如在圖像傳感器的表面上，所以其實可能的，其可以通過傾斜光學元件來補償且從而改變?nèi)肷涔馔ㄟ^透鏡設(shè)備的光路，使得相同的對象點與在不想要的移動和傾斜透鏡設(shè)備之前的圖像傳感器位置相同的圖像傳感器位置上結(jié)束。
[0055]優(yōu)選地，控制單元被設(shè)計成控制致動器裝置，以便致動器裝置改變由位置傳感器裝置檢測的光學元件的實際的空間位置，以便實際的空間位置接近光學元件的參考空間位置，其中光學元件(且從而入射光束的方向)相對于抵消或補償(參考上文)意外的快速移動的透鏡塑形構(gòu)件傾斜。在此，或者，致動器裝置可以改變由位置傳感器裝置(例如，余下的光學元件)檢測的透鏡塑形構(gòu)件的實際的空間位置。
[0056]本發(fā)明的另一方面涉及一種用于調(diào)整具有權(quán)利要求28的特征的透鏡設(shè)備的方法，其中特別地，該方法使用根據(jù)本發(fā)明的透鏡設(shè)備。
[0057]根據(jù)權(quán)利要求28，透鏡設(shè)備包括透明且彈性可擴展的薄膜、面對或背對薄膜的光學元件、壁狀構(gòu)件，其中光學元件和薄膜連接到壁狀構(gòu)件以便形成容積，流體駐留在所述容積中，且透鏡塑形構(gòu)件來連接到薄膜的外部，其外側(cè)背對所述容積，且其中光學元件(或透鏡塑形構(gòu)件)相對于透鏡塑形構(gòu)件跨越的平面傾斜(或在透鏡塑形構(gòu)件傾斜的情況下，相對于光學元件)，以在棱鏡內(nèi)形成容積以使通過容積的光轉(zhuǎn)向。
[0058]該方法可以用于照相機以及掃描儀等。
[0059]優(yōu)選地，也相對于透鏡塑形構(gòu)件在軸向上移動光學元件(反之亦然)，例如，朝向和遠離透鏡塑形構(gòu)件)，以調(diào)整駐留在容積中的流體的壓力以及隨后所述薄膜的彎曲(特別地，以自動調(diào)整透鏡的對焦)，其中所述軸向與所述平面(或，根據(jù)具體情況，與光學元件)垂直。
[0060]優(yōu)選地，通過沿所述軸向地移動壁狀構(gòu)件或板來移動光學元件。優(yōu)選地，通過相對于所述平面傾斜所述壁狀構(gòu)件或板來傾斜光學元件。
[0061]然而，本發(fā)明的另外的方面涉及一種用于提供具有權(quán)利要求29的圖像穩(wěn)定的方法，其中特別地，該方法使用根據(jù)本發(fā)明的透鏡設(shè)備。
[0062]根據(jù)權(quán)利要求29，透鏡設(shè)備包括透明且彈性可擴展的薄膜、面對或背對薄膜的光學元件、壁狀元件，其中光學元件和薄膜連接到壁狀構(gòu)件以便形成容積，流體駐留在所述容積，且透鏡塑形構(gòu)件連接到薄膜的外部，該外部背對所述容積，其中檢測到(例如，通過運動檢測裝置)要抵消的透鏡設(shè)備的意外快速移動，且其中根據(jù)所述檢測到的要被抵消的運動控制致動器裝置(例如，通過控制單元)，以便由致動器裝置相對于由透鏡塑形構(gòu)件跨越的平面傾斜光學構(gòu)件(或以便致動器裝置相對于光學元件沿其延伸的平面傾斜透鏡塑形器)以便以抵消所述檢測的運動的方式(也參照上文)改變?nèi)肷涔馐?jīng)過透鏡設(shè)備的方向。當傾斜時，致動器裝置優(yōu)選地被設(shè)計成(控制成)使得流體中的壓力保持不變，以便薄膜的彎曲保持不變。
[0063]根據(jù)本方法的優(yōu)選實施例，特別地，用于并行地提供透鏡設(shè)備的自動對焦，特別地，同時，由致動器裝置相對于透鏡塑形構(gòu)件在軸向上移動光學元件(或反之亦然)，例如，朝向或偏離透鏡塑形構(gòu)件，以便調(diào)整駐留在容積內(nèi)的流體的壓力以及隨后所述薄膜的彎曲，其中所述軸線與由透鏡塑形構(gòu)件跨越的所述平面垂直。
[0064]優(yōu)選地，通過沿所述軸向軸向地移動壁狀構(gòu)件或板在軸向移動光學元件。優(yōu)選地，通過相對于所述平面傾斜壁狀構(gòu)件或板來使光學元件傾斜。
[0065]根據(jù)本發(fā)明的又一優(yōu)選實施例，致動器裝置包括至少一個磁鐵。該至少一個磁鐵可以包括第一側(cè)和背離第一側(cè)的第二側(cè)。特別地，至少一個磁鐵包括圓周形狀或環(huán)形，以便至少一個磁鐵包括從至少一個磁鐵的第一側(cè)延伸到所述第二側(cè)的連續(xù)凹處。
[0066]特別地，至少一個磁鐵(或多個磁鐵，參看下文)垂直于在軸向的所述平面被磁化。
[0067]此外，特別地，透鏡設(shè)備包括用于將磁通量向所述磁鐵引導的磁通量返回結(jié)構(gòu)。特別地，所述返回結(jié)構(gòu)(同樣參照上文可能的材料)沿至少一個磁鐵延伸。
[0068]在該方面，特別地，返回結(jié)構(gòu)包括圓周形狀或環(huán)形形狀的且特別地沿至少一個磁鐵的第一側(cè)或第二側(cè)或面對上述第一側(cè)或第二側(cè)延伸。
[0069]此外，特別地，所述致動器裝置包括與所述至少一個磁鐵關(guān)聯(lián)的至少一個線圈，其中至少一個線圈包括圍繞與所述平面或所述光學元件垂直的線圈軸纏繞的導線。特別地，線圈軸與至少一個磁鐵的圓柱軸一致或與至少一個磁鐵的所述圓柱軸平行。特別地，此外，至少一個磁鐵的磁化與所述線圈軸和/或圓柱軸平行。
[0070]此外，根據(jù)一實施例，所述線圈沿至少一個磁鐵延伸且面向至少一個磁鐵(其中特別地，所述至少一個線圈面對至少一個磁鐵的第一側(cè)或第二側(cè))，以便當向線圈施加電流時，生成了洛倫茲力，根據(jù)在至少一個線圈中的電流方向，導致了至少一個磁鐵和至少一個線圈彼此吸引或彼此排斥，特別地，以便相對于透鏡塑形構(gòu)件在軸向上移動光學元件(或反之亦然:以便相對于光學元件在軸向上移動透鏡塑形構(gòu)件，同樣參考上文)，以便調(diào)整駐留在容積內(nèi)的流體的壓力以及隨后所述薄膜的彎曲(所述軸向與透鏡塑形構(gòu)件沿其延伸或光學元件沿其延伸的平面垂直，參照上文)，和/或以相對于所述平面傾斜光學元件，例如，透鏡塑形構(gòu)件(或反之亦然:以相對于光學元件傾斜透鏡塑形構(gòu)件，參見上文)，特別地，以便在棱鏡內(nèi)形成容積以使通過容積的光轉(zhuǎn)向。
[0071 ]在上文中，所述至少一個線圈可以自始至終僅具有一個纏繞方向。在一實施例中，可能僅存在一個這樣的線圈。然后，特別地，線圈沿關(guān)聯(lián)的(例如，單個)磁鐵延伸，跟隨著所述磁鐵的圓周或環(huán)形的路線且面對磁鐵的一個或另一側(cè)。
[0072]此外，在另一實施例中，為了增加磁力及其效率，至少一個線圈包括圍繞線圈的內(nèi)部第二部分的外部第一部分(其中，第二部分以導電的方式連接到第一部分)，其中圍繞與所述平面或所述光學元件垂直的所述線圈軸纏繞導線，以便線圈的各部分沿著至少一個磁鐵(其中，在該實施例中，可以是單個磁鐵)延伸且面向至少一個磁鐵，其中在第一部分導體具有與線圈的第二部分中的導體的纏繞方向相反的纏繞方向，使得當向線圈施加電流時，電流在第一方向流入第一部分且在相反的方向流入線圈的第二部分，且根據(jù)在所述線圈的所述部分中的電流方向生成將線圈或磁鐵朝透鏡塑形構(gòu)件吸引或?qū)⒕€圈或磁鐵從透鏡塑形構(gòu)件推開的洛倫茲力。特別地，這允許在上文描述的光學元件和透鏡塑形構(gòu)件之間產(chǎn)生所述軸向移動。
[0073]在此，可以不具有電連接的(單個)線圈部分而還可以設(shè)置具有相反纏繞方向或相反方向的電流的兩個分離的線圈。
[0074]根據(jù)另外的實施例，特別地，為了相對于光學元件傾斜透鏡塑形構(gòu)件或反之亦然，設(shè)置了多個磁鐵，然后，特別地，將這些磁鐵圍繞透鏡設(shè)備的軸線布置(即，圍繞透鏡設(shè)備的容積或沿所述圓周的返回結(jié)構(gòu))。然后，特別地，優(yōu)選地多個線圈中的不同線圈關(guān)聯(lián)到各個磁鐵，其面對各個的磁鐵(例如，其第一或第二側(cè))。
[0075]在這樣的多個磁鐵的情況下，線圈無需具有上文描述的所述第一和第二部分。特別地，每一線圈具有特別細長的和/或彎曲的輪廓，跟隨著關(guān)聯(lián)的磁鐵的(特別細長和/或彎曲)的輪廓(例如，各個磁鐵的第一或第二側(cè)的輪廓)，以便在線圈的一(例如，外部)半(該一半特別地沿線圈的細長的維度延伸)電流沿關(guān)聯(lián)磁鐵在第一方向上流動，而同時其在線圈的另一(例如內(nèi)部)半(該另一半特別地也在線圈的細長的維度上延伸)在相反的方向上流動。
[0076]在上文中，根據(jù)一實施例，壁狀構(gòu)件或壁狀構(gòu)件的至少一部分可以由至少一個磁鐵形成。至少一個磁鐵(或多個磁鐵