所述透鏡塑形構(gòu)件11垂直)，其中線圈400包括圍繞線圈400的內(nèi)部第二部分402的外部第一部分401，其中導(dǎo)體圍繞所述線圈軸纏繞，以便線圈400的所述兩個(gè)部分401、402沿磁鐵300延伸且面對(duì)磁鐵300的第二側(cè)300b?，F(xiàn)在，如在圖28中所指示的，在左手側(cè)下方，在所述第一部分401中，導(dǎo)體具有與線圈400的第二部分402中的導(dǎo)體的纏繞方向相反的纏繞方向，以便當(dāng)向線圈400施加電流時(shí)，電流在第一部分401中在一方向流動(dòng)(出投影平面)以及在線圈400的第二部分402中在相反的方向(流入投影平面)流動(dòng)。根據(jù)在線圈400的所述部分401、402中電流的方向，這生成了導(dǎo)致磁鐵300和線圈400以如在圖27的右手側(cè)指示的非常有效的方式彼此吸引或彼此排斥。通過(guò)這樣的磁線圈配置，光學(xué)元件20可以在軸向A移向透鏡塑形構(gòu)件11和移離透鏡塑形構(gòu)件11，即用于增加薄膜10的彎曲，以如圖28中所指示的例如在中上面板中改變焦點(diǎn)。
[0135]在圖28的右手側(cè)下方示出了磁線圈配置的修改。除了根據(jù)需要例如當(dāng)透鏡設(shè)備I被用作自動(dòng)對(duì)焦透鏡時(shí)在軸向移動(dòng)光學(xué)元件之外，該修改還允許相對(duì)于平面傾斜光學(xué)元件20(S卩，透鏡塑形構(gòu)件11)。在該修改中，代替單個(gè)磁鐵300透鏡設(shè)備I的致動(dòng)器裝置40包括多個(gè)磁鐵303，例如三個(gè)磁鐵303，如在圖28的右手側(cè)下方上示出的，其沿環(huán)形返回結(jié)構(gòu)305布置，即圍繞容積V，以便其例如沿返回結(jié)構(gòu)305或容積V的外圍均衡間隔開(kāi)(或換句話說(shuō)，圍繞光學(xué)設(shè)備I的中央軸A布置)。所有的三個(gè)磁鐵303在軸向A上被磁化。在此，每一磁鐵303包括第一和第二側(cè)303a、303b，其中第二側(cè)303b背對(duì)第一側(cè)303a，其中返回結(jié)構(gòu)305連接到第一側(cè)300a，同時(shí)薄膜10附接到磁鐵303的第二側(cè)303b。磁鐵303植入到返回結(jié)構(gòu)305中或者后者可以簡(jiǎn)單地連接到磁鐵303的第一側(cè)303a。磁鐵303形成圍繞透鏡的填滿容積V的流體的壁狀構(gòu)件300的部分。如在圖28的右手側(cè)下方上所指示的，磁鐵303的第二側(cè)303b還可以各自包括特定輪廓，例如細(xì)長(zhǎng)的彎曲的輪廓，其順著各個(gè)磁鐵303所附接的環(huán)形(圓形)返回結(jié)構(gòu)305的一部分的輪廓。
[0136]現(xiàn)在，代替單個(gè)線圈400，透鏡設(shè)備I包括與磁鐵303的數(shù)量對(duì)應(yīng)的多個(gè)線圈403(在此，例如3個(gè)線圈403)，其中多個(gè)線圈的每一個(gè)線圈403與不同的磁鐵303關(guān)聯(lián)，其中各個(gè)線圈403在軸向A上面對(duì)關(guān)聯(lián)的磁鐵303。
[0137]特別地，所述線圈403中的每一個(gè)包括模仿關(guān)聯(lián)的磁鐵303的第二側(cè)303b的輪廓的夕卜部輪廓，例如，每一線圈可以包括細(xì)長(zhǎng)的、彎曲的輪廓，以便在各個(gè)線圈403的外部的一半403a中，電流在沿關(guān)聯(lián)的磁鐵303的第一方向上流動(dòng)，而其在各個(gè)線圈403的內(nèi)部的另一半中在相反的方向流動(dòng)。從而，當(dāng)向線圈403中的一個(gè)施加電流時(shí)，根據(jù)在所述線圈403中電流的方向，生成使得關(guān)聯(lián)的磁鐵303與所述線圈403彼此吸引或彼此排斥的洛倫磁力。這允許相對(duì)于由透鏡塑形構(gòu)件11跨越的平面或相對(duì)于透鏡塑形構(gòu)件11自身傾斜光學(xué)元件20，其允許人們?cè)诠鈱W(xué)元件20下給予棱鏡形式的容積V，使得通過(guò)容積V的光如圖28中所指示的在右手上方的面板中轉(zhuǎn)向。這可以例如用于圖像穩(wěn)定，如上文所描述的。當(dāng)然，如果所有的線圈403以對(duì)稱(chēng)的方式致動(dòng)，則薄膜10的彎曲可以被改變，此外，由于光學(xué)元件20相對(duì)于透鏡塑形構(gòu)件11軸向移動(dòng)，使得自動(dòng)對(duì)焦功能可以與圖像穩(wěn)定結(jié)合。
[0138]除非另有說(shuō)明，否則上文描述的磁線圈配置(單個(gè)線圈和單個(gè)磁鐵以及多個(gè)線圈和磁鐵)兩者都可以應(yīng)用到下文將描述的實(shí)施例。此外，擁有具有單個(gè)磁鐵和多個(gè)線圈的配置也是可能的。
[0139]圖29示出了圖27和28中示出的實(shí)施例的修改，其中除了這些實(shí)施例之外，根據(jù)圖29的透鏡設(shè)備I包括環(huán)形場(chǎng)引導(dǎo)板407，其在背對(duì)磁鐵300的線圈框架406的一側(cè)上相對(duì)于線圈框架406同軸設(shè)置。當(dāng)由于由通過(guò)線圈400的電流產(chǎn)生的洛倫茲力導(dǎo)致了磁鐵300朝線圈400向下移動(dòng)時(shí)，磁鐵300開(kāi)始越來(lái)越被場(chǎng)引導(dǎo)板407吸引。該吸引力有助于使薄膜10變形，支持洛倫茲力且從而使得透鏡設(shè)備I更有效。此外，場(chǎng)引導(dǎo)板407還有助于磁屏蔽設(shè)備I。
[0140]圖30示出了根據(jù)本發(fā)明的另外的透鏡設(shè)備I。在此，與圖27至29相對(duì)比，返回結(jié)構(gòu)305的第一側(cè)300a連接的環(huán)形磁鐵300連接到透鏡塑形構(gòu)件11，其從磁鐵300向薄膜10向下突出且從上面與薄膜10接觸，該薄膜10繼而連接到圓周壁狀構(gòu)件406，其也承載面對(duì)磁鐵300的第二側(cè)300b的線圈400(或線圈403)。在此，環(huán)形壁狀構(gòu)件406與薄膜10和光學(xué)構(gòu)件20一起形成了針對(duì)流體F的容積V的容器，其中光學(xué)元件20在背對(duì)薄膜10連接到的壁狀構(gòu)件406的該側(cè)的一側(cè)上連接到壁狀構(gòu)件406或?yàn)楸跔顦?gòu)件406的組成部分(例如，多層印刷電路板)。為了檢測(cè)可以如上文描述的可以用于控制致動(dòng)器裝置40的磁鐵300的移動(dòng)，設(shè)置了霍爾傳感器408，其可以布置在壁狀構(gòu)件406上。在圖29中示出的實(shí)施例中，磁鐵300和連接到其的透鏡塑形構(gòu)件11如上文所描述的被致動(dòng)器裝置相對(duì)于光學(xué)元件20在軸向移動(dòng)和/或傾斜，而在圖27到29中，其是其他的方式。
[0141]圖31示出了在圖30中示出的實(shí)施例的修改，其中與圖30相對(duì)比，線圈400是統(tǒng)一的繞線方向的線圈，其布置在環(huán)形磁鐵300的第一側(cè)300a上，而返回結(jié)構(gòu)布置在磁鐵300的第二側(cè)300b上。在此，線圈400通過(guò)圍繞磁鐵300的軸向延伸墊片409連接到返回結(jié)構(gòu)305。
[0142]此外，圖32示出了在圖31中示出的實(shí)施例的修改，其中省略了返回結(jié)構(gòu)305且透鏡塑形構(gòu)件11由環(huán)形磁鐵300自身形成。
[0143]圖33示出了在具有一個(gè)可變形薄膜10和兩個(gè)液體容積V、V’的配置中，四種相對(duì)于薄膜10布置磁鐵300和線圈400的不同方式。通過(guò)選擇兩種具有不同折射率但是相同密度的液體F、F’，可以構(gòu)造對(duì)重力不敏感的透鏡。
[0144]圖34詳細(xì)示出了圖33中示出的在左手側(cè)下方上的配置。在此，薄膜10布置在從上面接觸薄膜10的環(huán)形頂部透鏡塑形構(gòu)件Ila與從下面接觸薄膜10的(相同的)底部透鏡塑形構(gòu)件Ilb之間。薄膜10進(jìn)一步支撐在圓周頂部墊片410與圓周底部墊片411之間，其中透明頂部玻璃20形式的光學(xué)元件20連接到頂部墊片410，以便頂部墊片410、頂部玻璃20和薄膜10形成利用(頂部)流體F填充的(頂部)容積V，且其中透明底部玻璃21形式的另外的光學(xué)元件21連接到底部墊片411，以便底部墊片411、底部玻璃21和薄膜10形成利用(底部)液體？’填充的(底部)容積V?，F(xiàn)在，為了根據(jù)上文所描述的原理使薄膜10變形，頂部透鏡塑形構(gòu)件Ila連接到駐留在容積V中的環(huán)形頂部磁鐵300，且底部透鏡塑形構(gòu)件Ilb連接到在軸向A面對(duì)頂部磁鐵300的環(huán)形底部磁鐵300’且其相對(duì)于頂部磁鐵300同軸布置，其中兩個(gè)透鏡塑形構(gòu)件11a、I Ib在軸向A布置在兩個(gè)磁鐵300、300 ’之間。此外，兩個(gè)磁鐵300、300，在軸向(在軸向A上)磁化。在此，磁鐵300、300’中的每一個(gè)可以利用關(guān)聯(lián)的線圈即頂部線圈400、以及底部線圈400’致動(dòng)，其可以各自布置在印刷電路板(PCB)上或嵌入到印刷電路板(PCB)中，其中關(guān)聯(lián)到頂部磁鐵300的頂部線圈400可以布置在頂部玻璃20上，以便其面對(duì)頂部磁鐵300，且其中與底部磁鐵300’關(guān)聯(lián)的底部線圈400’可以布置在底部玻璃21上，以便其面對(duì)底部磁鐵300’。特別地，磁鐵300、300’和關(guān)聯(lián)的線圈400、400’可以如上文針對(duì)圖27和28所描述的來(lái)配置。如果頂部和底部線圈400、400’連接以便兩個(gè)線圈400、400’導(dǎo)致磁鐵300、300’向上或向下移動(dòng)，則可以實(shí)現(xiàn)非常有效率的磁鐵的致動(dòng)。
[0145]此外，圖35示出了圖34中示出的實(shí)施例的修改，其中與圖34相對(duì)比，頂部磁鐵300、頂部透鏡塑形構(gòu)件Ila和頂部線圈400被省略。
[0146]圖36詳細(xì)示出了在圖33的左手側(cè)下方上示出的配置。在此，從上面接觸薄膜10的環(huán)形透鏡塑形構(gòu)件11也用作用于承載線圈400的線圈框架，線圈400嵌入到透鏡塑形構(gòu)件11中。為了向線圈400提供電氣連接，透鏡塑形構(gòu)件11連接到接觸彈簧412，通過(guò)接觸彈簧，透鏡塑形構(gòu)件連接到圓周頂部墊片410和圓周底部墊片411。此外，在軸向A上，透鏡塑形構(gòu)件/線圈框架11布置在環(huán)形頂部磁鐵300和環(huán)形底部磁鐵300’之間，其中頂部磁鐵300連接到頂部返回結(jié)構(gòu)305，其繼而連接到頂部玻璃20，該頂部玻璃20連接到頂部墊片410，且其中底部磁鐵300’連接到底部返回結(jié)構(gòu)305’，其繼而連接到底部玻璃21，其連接到底部墊片411。頂部磁鐵300和底部磁鐵300 ’這兩者可以在軸向A被磁化?，F(xiàn)在，圓周可變形頂部壁(例如，以頂部波紋管的形式)413從頂部磁鐵300向透鏡塑形構(gòu)件11延伸，以便形成利用頂部液體F填充的頂部容積V，且其由頂部玻璃21、頂部波紋管413和薄膜10限定。同樣地，圓周可變形底部壁(例如，底部波紋管的形式)414從底部磁鐵300’向透鏡彈簧構(gòu)件11延伸，以便形成利用底部流體F’填充的底部容積V’，且其利用底部玻璃21、底部波紋管414和薄膜10限定。
[0147]在具有兩個(gè)容積V、V’和在其內(nèi)的流體F、F’的實(shí)施例中，流體在折射率方面可能不同但是在密度上類(lèi)似。特別地，另外的(底部)流體F’可以是上文描述的流體中的一個(gè)。具有兩個(gè)充滿流體的容積和在其之間的薄膜10的特別的優(yōu)點(diǎn)在于可以幾乎完全地移除重力感應(yīng)的昏迷且透鏡對(duì)震動(dòng)更不敏感。
[0148]此外，在此，根據(jù)上文描述的原理，可以移除透鏡塑形構(gòu)件11以使用線圈400和磁鐵300、300’將薄膜11變形。
[0149]最后，所示出的圖33的左手側(cè)上方和右手側(cè)上方的實(shí)施例是圖34中示出的實(shí)施例的修改，其中在圖33的左手側(cè)上方示出的實(shí)施例與圖34的實(shí)施例對(duì)應(yīng)，其區(qū)別在于頂部線圈400設(shè)置在鄰近頂部玻璃200的頂部容積V內(nèi)，且底部線圈400’設(shè)置在鄰近底部玻璃21的底部容積內(nèi)。此外，圖33中在右手側(cè)上方示出的實(shí)施例與在左手側(cè)上方示出的實(shí)施例對(duì)應(yīng)，但是現(xiàn)在頂部線圈已經(jīng)利用頂部磁鐵改變了位置，同時(shí)底部線圈已經(jīng)利用底部磁鐵改變了位置。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種透鏡設(shè)備，包括: -透明且彈性可擴(kuò)展的薄膜(10)， -面對(duì)薄膜(10)的光學(xué)元件， -壁狀構(gòu)件(300)，其中光學(xué)元件(10)和薄膜(10)連接到壁狀構(gòu)件(300)，使得形成容積(V)， -駐留在所述容積(V)的流體(F)，以及 -透鏡塑形構(gòu)件(11)，附接到薄膜(10)， 其特征在于， 透鏡設(shè)備(I)包括致動(dòng)器裝置(40)，其被設(shè)計(jì)成使光學(xué)元件(20)相對(duì)于透鏡塑形構(gòu)件(11)在軸向(A)移動(dòng)，以調(diào)整駐留在容積(V)內(nèi)的流體(F)的壓力以及隨后薄膜(10)的彎曲，其中所述軸向(A)與透鏡塑形構(gòu)件(11)在其中延伸的平面垂直，且其中所述致動(dòng)器裝置(40)被