1.一種基于飛秒激光的菲涅爾波帶片陣列的制作方法，其特征在于該方法的制作步驟如下：飛秒激光(1)經(jīng)緊聚焦后在透明介質(zhì)材料表面上直接燒蝕孔結(jié)構(gòu)，同時利用三維移動平臺(4)移動透明介質(zhì)材料，使得燒蝕的位置沿菲涅爾波帶片的奇數(shù)或偶數(shù)環(huán)帶結(jié)構(gòu)內(nèi)的同心圓軌跡移動，從而在透明介質(zhì)材料表面燒蝕單個菲涅爾波帶片結(jié)構(gòu)；然后通過二維電控平移臺(5)對透明介質(zhì)材料進(jìn)行移動，根據(jù)給定的空間排列方式加工出菲涅爾波帶片陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于所述的透明介質(zhì)材料為兩面拋光的透明介質(zhì)薄片。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作方法，其特征在于所述的透明介質(zhì)薄片為熔融石英玻璃、BK7玻璃或鈮酸鋰晶體，但不僅限于這幾種材料。
4.權(quán)利要求1至3任一項所述的菲涅爾波帶片陣列在直接加工微納結(jié)構(gòu)中的應(yīng)用，其特征在于包括：飛秒激光(1)經(jīng)權(quán)利要求1至3任一項所述的菲涅爾波帶片陣列(2)后聚焦成多焦斑陣列，該多焦斑陣列在待加工樣品表面上直接燒蝕多孔結(jié)構(gòu)，通過三維移動平臺控制待加工樣品(3)按預(yù)定軌跡移動得到所需圖形的微納結(jié)構(gòu)陣列。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的應(yīng)用，其特征在于所述的待加工樣品包括金屬膜、半導(dǎo)體、透明介質(zhì)或金屬材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的應(yīng)用，其特征在于所加工的微納結(jié)構(gòu)陳列為各種圖形的陣列結(jié)構(gòu)，包括長方形陣列結(jié)構(gòu)、圓形陣列結(jié)構(gòu)或橢圓形陣列結(jié)構(gòu)，但不僅限于這些結(jié)構(gòu)。