1.一種艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，包括主工作臺、第一物料導(dǎo)入臺和第二物料導(dǎo)入臺；
所述主工作臺包括多個工位，每個所述工位均能夠在豎直方向上分別定位艾管和底座，每個所述工位上方均設(shè)有下壓裝置，能夠?qū)⑺霭軌喝胨龅鬃?/p>
所述第一物料導(dǎo)入臺將所述艾管依次導(dǎo)入每個所述工位；
所述第二物料導(dǎo)入臺將所述底座依次導(dǎo)入每個所述工位。
2.如權(quán)利要求1所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，所述主工作臺包括主軸及以所述主軸為中心的三個轉(zhuǎn)臺，三個所述轉(zhuǎn)臺從上到下依次為第一轉(zhuǎn)臺、第二轉(zhuǎn)臺和第三轉(zhuǎn)臺；
所述第一轉(zhuǎn)臺的邊緣設(shè)有多個所述下壓裝置；
所述第二轉(zhuǎn)臺的邊緣設(shè)有多個定位所述艾管的第一定位槽；
所述第三轉(zhuǎn)臺的邊緣設(shè)有多個定位所述底座的第二定位槽。
3.如權(quán)利要求2所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，所述下壓裝置包括沖頭及驅(qū)動機構(gòu)，所述沖頭在豎直方向上位于所述第一定位槽和所述第二定位槽的正上方，所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述沖頭在豎直方向上下移動。
4.如權(quán)利要求3所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，各所述下壓裝置由一個總驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動，所述總驅(qū)動機構(gòu)具有圓周軌道，所述圓周軌道包括下壓沖程段和上升沖程段；各所述下壓裝置的上端設(shè)有凸塊，各所述凸塊均位于所述圓周軌道內(nèi)并沿所述圓周軌道移動。
5.如權(quán)利要求1至4任一項所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，所述安裝設(shè)備還包括產(chǎn)品導(dǎo)出工作臺，所述產(chǎn)品導(dǎo)出工作臺依次導(dǎo)出安裝后的所述艾管和所述底座；
所述第一物料導(dǎo)入臺、所述第二物料導(dǎo)入臺和所述產(chǎn)品導(dǎo)出工作臺均位于所述主工作臺的圓周外部，并按所述主工作臺的轉(zhuǎn)動方向依次分布。
6.如權(quán)利要求5所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，所述第一物料導(dǎo)入臺包括第一轉(zhuǎn)盤及其周部的第一通道，所述第一轉(zhuǎn)盤的邊緣設(shè)有多個定位凹槽，以便所述第一轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時將所述艾管沿所述第一通道依次送入各所述工位；
所述第二物料導(dǎo)入臺包括第二轉(zhuǎn)盤及其周部的第二通道，所述第二轉(zhuǎn)盤的邊緣設(shè)有多個定位凹槽，以便所述第二轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時將所述底座沿所述第二通道依次送入各所述工位。
7.如權(quán)利要求5所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，還包括涂膠工作臺，所述涂膠工作臺位于所述第二物料導(dǎo)入臺和所述產(chǎn)品導(dǎo)出工作臺之間，所述涂膠工作臺向位于各所述工位處的所述艾管的底部涂膠。
8.如權(quán)利要求7所述的艾管底座的安裝設(shè)備，其特征在于，所述涂膠工作臺包括打膠池、皮帶和至少兩個設(shè)有凹槽的皮帶輪，所述打膠池向所述皮帶的外圈涂膠，所述皮帶套裝在所述凹槽上，所述主工作臺轉(zhuǎn)動時各所述工位的所述艾管的底部依次與所述皮帶接觸。
9.一種艾灸產(chǎn)品的生產(chǎn)線，其特征在于，包括貼紙設(shè)備和上述1至8任一項所述的艾管底座的安裝設(shè)備；所述貼紙設(shè)備包括輸送帶、感應(yīng)機構(gòu)和貼簽機構(gòu)，所述輸送帶向所述安裝設(shè)備的第一物料導(dǎo)入臺傳送艾管；
所述輸送帶傳送所述艾管的過程中，所述感應(yīng)機構(gòu)用于感應(yīng)所述艾管，以便所述貼簽機構(gòu)將標(biāo)簽粘貼在所述艾管上。
10.如權(quán)利要求9所述的艾灸產(chǎn)品的生產(chǎn)線，其特征在于，還包括旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)用于將水平放置的所述艾管旋轉(zhuǎn)至豎直放置。