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一種球面靶材模壓微調(diào)裝置的制作方法

文檔序號:12786823閱讀:293來源:國知局
一種球面靶材模壓微調(diào)裝置的制作方法

本實(shí)用新型屬于金屬材料加工和微電子材料制造領(lǐng)域,具體涉及一種球面靶材模壓微調(diào)裝置。



背景技術(shù):

目前濺射靶材在電子、信息、耐磨、耐蝕及裝飾等領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。以鎳鉑合金靶材為代表的金屬靶材的特點(diǎn)為材料硬度低、延展性強(qiáng)、厚度薄,形狀尺寸變化大。一般采用模壓成形的方法制備表面為球形弧度的鎳鉑合金靶材,模壓加工后靶材表面弧度不允許存在任何偏差,但是需要數(shù)次模壓的靶材一旦出現(xiàn)第一次模壓未成形,后續(xù)需多次修改模具方能成形,影響工作效率同時(shí)大大降低了模具壽命。為解決上述問題,急需開發(fā)一種裝置,對模壓未成形的球面靶材進(jìn)行弧度微調(diào),使靶材形狀尺寸達(dá)到設(shè)定的要求,減少模壓次數(shù)和模具修改次數(shù),提高效率節(jié)約成本。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是針對模壓未成形的球面靶材需要多次模壓的技術(shù)問題,提供一種球面靶材模壓微調(diào)裝置,

其特征在于,所述球面靶材模壓微調(diào)裝置,由上壓塊、下壓塊、固定工裝和橫梁組成,其特征在于,上壓塊背面裝有螺紋桿,螺紋桿通過橫梁上的螺孔與橫梁相連,上壓塊和下壓塊均為弧面。

所述上壓塊與下壓塊的弧度相同。

用于微調(diào)球模壓過量的球面靶材時(shí),所述的上壓塊正面是凹形弧面,下壓塊正面是凸形弧面。

用于微調(diào)模壓不足的球面靶材時(shí),所述的上壓塊正面是凸形弧面,下壓塊正面是凹形弧面。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:

1、減少了模具修改次數(shù),模具被車除的量少,模具幾乎可無限期使用,成本大為降低;

2、避免了靶材多次重復(fù)模壓,直接采用本裝置一次性調(diào)整至最終尺寸,生產(chǎn)效率大幅提高,操作簡單;

3、上壓塊通過螺桿的旋轉(zhuǎn)向固定工裝上的靶材施加壓力,可以設(shè)置任意壓下量,能夠微調(diào)球面半徑偏差小于2mm的球面靶材。

附圖說明

圖1為微調(diào)球模壓過量的球面靶材的模壓微調(diào)裝置剖面示意圖;

圖2為微調(diào)球模壓不足的球面靶材的模壓微調(diào)裝置剖面示意圖;

圖3為球面靶材模壓微調(diào)裝置微調(diào)模壓不足的球面靶材的原理示意圖;

圖4為球面靶材模壓微調(diào)裝置微調(diào)模壓過量的球面靶材的原理示意圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型提供了一種球面靶材模壓微調(diào)裝置,下面通過附圖和具體實(shí)施方式對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

圖1所示為本實(shí)用新型用于微調(diào)球模壓過量的球面靶材模壓微調(diào)裝置,由橫梁1、上壓塊2、下壓塊3和固定工裝4組成,上壓塊2背面裝有螺紋桿,螺紋桿通過橫梁上的螺孔與橫梁1相連,其中,上壓塊2的正面是凸形弧面,下壓塊3正面是凹形弧面。

圖2所示為本實(shí)用新型用于微調(diào)球模壓不足的球面靶材模壓微調(diào)裝置,由橫梁1、上壓塊2、下壓塊3和固定工裝4組成,上壓塊)背面裝有螺紋桿,螺紋桿通過橫梁上的螺孔與橫梁1相連,其中,上壓塊2的正面是凹形弧面,下壓塊3正面是凸形弧面。

實(shí)施例1

微調(diào)RMX12型8寸鎳釩靶,該靶標(biāo)準(zhǔn)直徑為290~300mm,球面半徑為2250~2280mm,模壓未成形的靶材未采取弧面微調(diào)時(shí),靶面弧度大于標(biāo)尺,弧面半徑比標(biāo)準(zhǔn)半徑小0.1~0.2mm。使用常規(guī)工藝調(diào)整,需要對模具表面進(jìn)行車削,并在420℃對靶材保溫15-20min,后進(jìn)行熱壓調(diào)整,增加模具球面半徑,以上步驟重復(fù)7-8次直至弧面尺寸滿足要求,加工流程耗時(shí)約5小時(shí);使用本實(shí)用新型的球面靶材模壓微調(diào)裝置(圖1)微調(diào)靶材5弧面,耗時(shí)30分鐘就能獲得達(dá)到使用要求的靶材球面,圖3為該實(shí)施例的原理示意圖。

實(shí)施例2

微調(diào)RMX10型鎳鉑靶,該靶標(biāo)準(zhǔn)直徑為250~260mm,球面半徑為1650~1700mm。模壓未成形的靶材未采取弧面微調(diào)時(shí),靶面弧度大于標(biāo)尺,弧面半徑比標(biāo)準(zhǔn)半徑小0.8~1.0mm。使用原工藝需要對模具表面進(jìn)行車削,增大模具球面半徑,然后重新壓制和熱處理,耗時(shí)約4小時(shí);使用本新型的球面靶材模壓微調(diào)裝置(圖1)微調(diào)靶材弧面,約20分鐘就能獲得達(dá)到使用要求的靶材球面。

實(shí)施例3

微調(diào)RMA12型8寸鎳鉑靶,該靶標(biāo)準(zhǔn)直徑為290~300mm,球面半徑為2270~2300mm,模壓未成形的靶材未采取弧面微調(diào)時(shí),靶面弧度小于標(biāo)尺,弧面半徑比標(biāo)準(zhǔn)半徑大0.8~1.0mm。使用原工藝需要對模具表面進(jìn)行車削,降低模具球面半徑,然后重新壓制和熱處理,耗時(shí)約7小時(shí);使用本新型球面靶材模壓微調(diào)裝置(圖2)微調(diào)靶材5弧面,約40分鐘就能獲得達(dá)到使用要求的靶材球面,圖4為該實(shí)施例的原理示意圖。

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