技術特征：
1.一種高硬度TiAlZrN/CrN納米多層涂層的制備方法，其特征在于，所述納米多層涂層由多個TiAlZrN層和CrN層構成，各TiAlZrN層和CrN層交替沉積在基體上形成納米量級多層結構，所述基體為金屬、硬質合金或陶瓷；所述制備方法包括如下步驟：1)清洗基體首先將經拋光處理的基體送入超聲波清洗機，在分析純的無水酒精和丙酮中利用15～30kHz的超聲波進行清洗10～15min；然后進行離子清洗，將基體裝進真空室，抽真空到6×10-4Pa后通入Ar氣，維持真空度在2-4Pa，用中頻對基體進行30min的離子轟擊，功率為80-100W；2)交替濺射TiAlZrN層和CrN層將清洗后的基體置入多靶磁控濺射儀并交替停留在TiAlZr靶和Cr靶之前，通過濺射獲得由多個TiAlZrN層和CrN層交替疊加的納米量級多層涂層，過程中調整靶功率和沉積時間以控制每一涂層的厚度，最終獲得所述高硬度TiAlZrN/CrN納米多層涂層；濺射過程的工藝控制參數如下：TiAlZr合金靶和Cr靶的直徑為75mm，TiAlZr合金靶中Ti：Al：Zr的原子比為45atom％：45atom％：10atom％，Cr靶中Cr的純度為99.99％；Ar氣流量：30～50sccm，N2氣流量：10～30sccm；TiAlZrN層濺射功率為120W，時間為12s；CrN層濺射功率為100W，時間為2～12s；靶基距為70mm；總氣壓為0.2-0.6Pa；基體溫度為100-300℃。2.如權利要求1所述的高硬度TiAlZrN/CrN納米多層涂層的制備方法，其特征在于，所述納米多層涂層的總厚度為2.4～5.8μm。3.如權利要求1或2所述的高硬度TiAlZrN/CrN納米多層涂層的制備方法，其特征在于，每一TiAlZrN層的厚度為6.0nm，每一CrN層的厚度為0.5～3.6nm。4.如權利要求1或2所述的高硬度TiAlZrN/CrN納米多層涂層的制備方法，其特征在于，所述CrN層的厚度小于3.0nm時，該CrN層在所述TiAlZrN層的作用下與該TiAlZrN層保持共格外延生長結構。