技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種化學(xué)氣相沉積裝置及清潔其排氣口的方法。其中的化學(xué)氣相沉積裝置，包括：具有內(nèi)部處理空間的反應(yīng)室；與所述反應(yīng)室的所述內(nèi)部處理空間連通的進(jìn)氣裝置，用于允許處理氣體進(jìn)入；具有排氣通道的排氣裝置，所述排氣裝置包括一排氣板，所述排氣板上設(shè)置多個(gè)排氣口；設(shè)置在所述排氣口內(nèi)、可轉(zhuǎn)動(dòng)的清潔片。利用上述裝置或方法，可較簡便地對(duì)排氣口進(jìn)行清潔，進(jìn)而保證沉積過程的均勻性。

技術(shù)研發(fā)人員：幸沛錦
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
文檔號(hào)碼：201510225450
技術(shù)研發(fā)日：2015.05.05
技術(shù)公布日：2016.12.07