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用于化學機械拋光的經(jīng)涂覆的壓縮性副墊的制作方法

文檔序號:11282459閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
描述了用于拋光墊層疊體的經(jīng)涂覆的壓縮性副墊及制造用于拋光墊層疊體的經(jīng)涂覆的壓縮性副墊的方法。在實例中,用于拋光基板的拋光墊層疊體包括具有拋光表面及后表面的拋光墊。該拋光墊層疊體還包括壓縮性副墊,該壓縮性副墊的第一表面具有涂覆于其上的第一壓敏粘著劑層。該壓縮性副墊的該第一表面通過該第一壓敏粘著劑層直接耦接至該拋光墊的該后表面。

技術研發(fā)人員:D.斯科特;P.A.勒費夫爾
受保護的技術使用者:嘉柏微電子材料股份公司
技術研發(fā)日:2015.11.12
技術公布日:2017.09.26
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