本發(fā)明涉及有機(jī)材料蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種加熱裝置。

背景技術(shù)：

目前，現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜時(shí)，是通過電阻加熱裝置對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行加熱蒸發(fā)?，F(xiàn)有技術(shù)中在通過電阻加熱裝置進(jìn)行加熱時(shí)，其加熱溫度控制精度低，并且有機(jī)膜料受熱不均勻，如此會(huì)導(dǎo)致蒸發(fā)速率不穩(wěn)定，進(jìn)而導(dǎo)致鍍膜效果差，影響鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種加熱裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中溫度控制精度低、有機(jī)膜料受熱不均勻的問題。

根據(jù)本發(fā)明提供的一種加熱裝置，用于蒸發(fā)有機(jī)膜料，加熱裝置包括第一坩堝，第一坩堝用于盛放有機(jī)膜料；第二坩堝，第二坩堝用于承載第一坩堝；電子束加熱器，電子束加熱器用于向第二坩堝發(fā)射均勻的電子束并對(duì)第二坩堝進(jìn)行加熱，第二坩堝用于向第一坩堝導(dǎo)熱。

進(jìn)一步地，第一坩堝為圓柱體。

進(jìn)一步地，第一坩堝包括鍋體；蓋體，蓋體可拆卸地設(shè)置在鍋體上，蓋體上設(shè)置有多個(gè)通孔。

進(jìn)一步地，多個(gè)通孔在蓋體上的分布密度由中心向四周逐漸變大。

進(jìn)一步地，電子束加熱器為電子槍。

進(jìn)一步地，電子束加熱器設(shè)置在第二坩堝的上方。

進(jìn)一步地，電子束加熱器對(duì)第二坩堝加熱時(shí)的加熱軌跡為圓環(huán)形。

進(jìn)一步地，圓環(huán)形加熱軌跡位于第一坩堝的外側(cè)。

進(jìn)一步地，第一坩堝內(nèi)放有金屬顆粒。

進(jìn)一步地，加熱裝置還包括掩板，掩板用于遮蓋第一坩堝或第二坩堝。

應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，通過電子束加熱器對(duì)第二坩堝進(jìn)行加熱，能夠?qū)﹄娮邮訜崞鞯募訜釡囟冗M(jìn)行精確控制，通過第二坩堝對(duì)第一坩堝導(dǎo)熱，使第一坩堝加熱均勻，進(jìn)而能夠使第一坩堝內(nèi)的有機(jī)膜料均勻蒸發(fā)，如此可提高鍍膜質(zhì)量。

附圖說明

構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的說明書附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例提供的加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例提供的掩板的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，上述附圖包括以下附圖標(biāo)記：

10、第一坩堝；11、鍋體；12、蓋體；13、通孔；20、第二坩堝；30、掩板；a、加熱軌跡。

具體實(shí)施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。

如圖1和圖2所示，在本發(fā)明實(shí)施例中，提供了一種加熱裝置，用于蒸發(fā)有機(jī)膜料，加熱裝置包括第一坩堝10、電子束加熱器以及第二坩堝20。其中，為了避免在利用電子束對(duì)第一坩堝10進(jìn)行加熱時(shí)，溫度過高使有機(jī)膜料分解。在本實(shí)施例中，該加熱裝置還包括第二坩堝20，第二坩堝20用于承載第一坩堝10，電子束加熱器先對(duì)第二坩堝20進(jìn)行加熱，第二坩堝20加熱后將熱量傳遞至第一坩堝10，以對(duì)第一坩堝10進(jìn)行加熱。電子束加熱器用于向第二坩堝20發(fā)射均勻的電子束并對(duì)第二坩堝20進(jìn)行加熱，第二坩堝20通過導(dǎo)熱將熱量傳遞至第一坩堝10。如此便于電子束對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行加熱，并能夠使有機(jī)膜料加熱均勻。在對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行蒸發(fā)加熱時(shí)，通過電子束加熱器均勻、持續(xù)地對(duì)第二坩堝20加熱，第二坩堝20將熱量均勻傳遞至第一坩堝10后，第一坩堝10對(duì)盛放在第一坩堝10內(nèi)的有機(jī)膜料進(jìn)行加熱，當(dāng)有機(jī)膜料加熱至預(yù)設(shè)溫度后開始蒸發(fā)，以進(jìn)行后續(xù)鍍膜工序。其中，第一坩堝10可以為敞口坩堝或帶有蓋體的坩堝，第二坩堝20為敞口坩堝或設(shè)置為不帶側(cè)壁的盤式坩堝，如此便于承載第一坩堝10以及對(duì)第二坩堝20進(jìn)行加熱。

應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，通過電子束加熱器對(duì)第二坩堝20進(jìn)行加熱，能夠?qū)﹄娮邮訜崞鞯募訜釡囟冗M(jìn)行精確控制，通過第二坩堝20對(duì)第一坩堝10導(dǎo)熱，使第一坩堝10加熱均勻，進(jìn)而能夠使第一坩堝10內(nèi)的有機(jī)膜料均勻蒸發(fā)，如此可提高鍍膜質(zhì)量。

其中，電子束加熱器通過電子束轟擊第二坩堝20的底面以對(duì)第二坩堝20進(jìn)行加熱。為了使第二坩堝20加熱均勻，可選地，將電子束加熱器對(duì)第二坩堝20加熱時(shí)的加熱軌跡設(shè)置為圓環(huán)形。

在本實(shí)施例中，該第一坩堝10為殼體結(jié)構(gòu)，且該殼體結(jié)構(gòu)的上端設(shè)置有多個(gè)通孔13，以使有機(jī)膜料蒸發(fā)的蒸發(fā)束流從多個(gè)通孔13中流出。其中，第一坩堝10可以為一體結(jié)構(gòu)，也可以是可拆裝的結(jié)構(gòu)，只要能滿足盛放有機(jī)膜料，并使有機(jī)膜料蒸發(fā)的蒸發(fā)束流從通孔13內(nèi) 流出即可。通過設(shè)置多個(gè)通孔13，可以控制蒸發(fā)束流的流速和密度，并能通過通孔13控制蒸發(fā)束流的流動(dòng)方向。具體地，可通過調(diào)節(jié)通孔13的數(shù)量、孔徑大小、以及通孔13的排布方式來對(duì)蒸發(fā)束流進(jìn)行控制，從而能夠按照鍍膜要求控制蒸發(fā)束流，以獲取所需的膜層。

具體地，該第一坩堝10為圓柱體，如此可便于對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行加熱，使有機(jī)膜料加熱更加均勻。

可選地，該第一坩堝10為可拆分結(jié)構(gòu)，以便于有機(jī)膜料的添加，具體地，該第一坩堝10包括鍋體11和蓋體12。其中，蓋體12可拆卸地設(shè)置在鍋體11上，且蓋體12上設(shè)置有多個(gè)通孔13。蓋體12蓋在鍋體11上時(shí)，第一坩堝10整體形成圓柱體結(jié)構(gòu)。

可選地，在本實(shí)施例中，多個(gè)通孔13在蓋體12上的分布密度由中心向四周逐漸變大，以進(jìn)一步提升蒸發(fā)鍍膜的均勻性。

可選地，該電子束加熱器為電子槍。

可選地，電子束加熱器設(shè)置在第二坩堝20的上方，為了提供加熱效率，電子束加熱器的加熱軌跡與第一坩堝10的底面同心，且加熱軌跡的直徑大于第一坩堝10的直徑。具體地，加熱軌跡直徑與第一坩堝10的直徑之差在2mm至15mm內(nèi)。

可選地，第二坩堝20為敞口坩堝，以避免對(duì)蒸發(fā)流束進(jìn)行干擾。且為了使第一坩堝10固定在第二坩堝20內(nèi)，將第一坩堝10嵌套在第二坩堝20內(nèi)。

為了保證有機(jī)膜料整體溫度的均勻性，在第一坩堝10內(nèi)放入具有高熔點(diǎn)、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的金屬顆粒，并使其與有機(jī)膜料混合均勻。由于金屬的導(dǎo)熱性能較好，金屬顆粒能夠在加熱過程中快速進(jìn)行溫度傳遞，使第一坩堝10內(nèi)的膜料整體溫度趨于均勻一致。

其中，在本發(fā)明實(shí)施例中，該加熱裝置還包括掩板30，通過掩板30遮蓋第一坩堝10或第二坩堝20，具體地，該掩板30遮蓋在第二坩堝20上，如此可方便操作。

在對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行加熱時(shí)，膜料在預(yù)融期間，將掩板30遮蓋在第二坩堝20上，以避免在蒸發(fā)初期由于蒸發(fā)速率不穩(wěn)定導(dǎo)致膜層質(zhì)量差、表面雜質(zhì)沉積多的現(xiàn)象發(fā)生。當(dāng)有機(jī)膜料完全加熱后，再打開掩板30進(jìn)行鍍膜?？蛇x地，掩板30上還設(shè)置有把手，以便于工作人員對(duì)掩板30進(jìn)行操作。

通過本發(fā)明提供的加熱裝置對(duì)有機(jī)膜料進(jìn)行加熱，提高了坩堝內(nèi)有機(jī)膜料加熱溫度控制的準(zhǔn)確性與均勻性。同時(shí)，使用頂端有小孔的坩堝來盛放膜料，能夠?qū)φ舭l(fā)束流進(jìn)行控制，使得蒸發(fā)束流從小孔中流出，以獲得束流方向好以及蒸發(fā)速率可控的蒸發(fā)束流，進(jìn)而能夠提高鍍膜質(zhì)量。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。