1.一種蝕刻裝置，包括輸送單元和噴淋單元，所述輸送單元用于輸送基板，所述噴淋單元用于向所述輸送單元輸送的所述基板噴淋蝕刻液，其特征在于，所述輸送單元包括平行間隔設置的上輸送組件和下輸送組件，所述上輸送組件和所述下輸送組件配合驅(qū)動所述基板沿斜線運動。
2.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述基板的運動軌跡的傾斜角度不小于5度，且不大于8度。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述上輸送組件和所述下輸送組件的結構相同，且中心對稱設置。
4.根據(jù)權利要求3所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述上輸送組件包括多個行轆，多個所述行轆平行間隔設置并與所述基板所在的平面相切。
5.根據(jù)權利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于，多個所述行轆的尺寸沿所述基板的運動方向依次增大。
6.一種蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟：
提供輸送單元，所述輸送單元包括平行間隔設置的上輸送組件和下輸送組件；
提供待蝕刻的基板，所述基板包括第一表面及與所述第一表面相對的第二表面，所述上輸送組件和所述下輸送組件配合驅(qū)動所述基板沿斜線運動；
提供蝕刻液，利用所述蝕刻液蝕刻所述第一表面和所述第二表面上非預制線路處的鍍銅層。
7.根據(jù)權利要求6所述的蝕刻方法，其特征在于，所述基板運動軌跡的傾斜角度不小于5度，且不大于8度。
8.根據(jù)權利要求6或7所述的蝕刻方法，其特征在于，所述上輸送組件和所述下輸送組件的結構相同，且中心對稱設置。
9.根據(jù)權利要求8所述的蝕刻方法，其特征在于，所述上輸送組件包括多個行轆，多個所述行轆平行間隔設置并與所述基板所在的平面相切。
10.根據(jù)權利要求9所述的蝕刻方法，其特征在于，多個所述行轆的尺寸沿所述基板的運動方向依次增大。