1.一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，包括放電處理模塊、氣動脫離模塊、散熱模塊和智能化操作模塊，放電處理模塊由至少兩組用于加工處理金屬膜(23)的放電輥(1)和對應(yīng)包覆在放電輥(1)外表面的電極(2)構(gòu)成，放電處理模塊的一端設(shè)置有氣動脫離模塊，放電處理模塊的另一端設(shè)置有智能化操作模塊，用于脫開和閉合放電輥(1)和電極(2)的氣動脫離模塊由分割端板(3)和連接分割端板(3)的電極離合氣缸(4)構(gòu)成，散熱模塊包括放電輥散熱模塊和電極散熱模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述放電輥(1)采用輕質(zhì)鋁輥，兩個放電輥(1)上下交錯設(shè)置，且對應(yīng)的電極(2)通過電極固定板(5)固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述放電輥(1)的一端設(shè)有放電輥前端進風(fēng)口(6)，另一端設(shè)有未放電部位排風(fēng)口(8)和放電部位排風(fēng)口(7)，構(gòu)成放電輥散熱模塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述電極(2)的一端設(shè)有進氣口(9)，另一端設(shè)有出氣口(10)，構(gòu)成電極散熱模塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述放電處理模塊還包括有放電間隙大小調(diào)節(jié)螺紋口(11)，放電間隙大小調(diào)節(jié)螺紋口(11)兩端均設(shè)有放電間隙平衡一致螺紋口(12)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述放電輥(1)端部設(shè)有停輥保護裝置(13)，停輥保護裝置(13)由套設(shè)在放電輥(1)轉(zhuǎn)軸端部的感應(yīng)花盤(14)和架設(shè)在感應(yīng)花盤(14)上方的U型傳感器(15)構(gòu)成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述分割端板(3)由上端板(31)和下端板(32)構(gòu)成，上端板(31)固定連接有上電極和下放電輥，下端板(32)固定連接有上放電輥和下電極，且上端板(31)和下端板(32)的拼合面為V型。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述智能化操作模塊為智能化操縱柜，智能化操縱柜從上到下依次設(shè)置有三色工作燈(16)、觸摸屏(17)、啟動按鈕(18)、停止按鈕(19)、斷電急停按鈕(20)、氣缸開合按鈕(21)和低溫等離子體電源(22)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述電極(2)材料為陶瓷。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種常壓大氣準(zhǔn)輝光低溫等離子處理金屬膜的裝置，其特征是，所述電極固定板(5)為絕緣聚四氟乙烯板。