1.一種無(wú)毒鍍鉻塑料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）對(duì)塑料基材表面進(jìn)行清理，在其表面鍍厚度為0.35-0.45μm的化學(xué)鎳層，然后在其表面噴涂厚度為6-8μm的甲基丙烯酸縮水甘油酯改性馬來(lái)化桐油，涂層用紫外光照射固化；
（2）將上述處理后的塑料基材采用中頻孿生靶磁控濺射方法，在涂層表面鍍覆厚度為4-6nm的鈦氧化合物底鍍層，然后采用陰極電弧離子和離子轟擊方法，將塑料基材放置在陰極電弧離子鍍膜機(jī)內(nèi)，在鈦氧化物底鍍層表面鍍覆厚度為600-800nm的金屬鉻鍍層；
（3）在中頻磁控濺射鍍膜機(jī)內(nèi)，在金屬鉻鍍層表面鍍覆厚度為10-12nm的鈦氧化合物面層鍍層，檢驗(yàn)合格后包裝即可。
2.如權(quán)利要求1所述一種無(wú)毒鍍鉻塑料的制備方法，其特征在于，所述鍍鉻塑料由內(nèi)到外依次包括塑料基材、化學(xué)鎳層、涂層、鈦氧化合物底鍍層、金屬鉻鍍層合鈦氧化合物面鍍層。
3.如權(quán)利要求1所述一種無(wú)毒鍍鉻塑料的制備方法，其特征在于，所述金屬鉻鍍層的鍍制條件為：抽空至真空度為6×10-3Pa，然后充入氬氣至真空度為1.5×10-1Pa，靶電源電流為72A，鍍膜5分鐘后，關(guān)閉氬氣，在真空條件下轟擊鍍鉻1分鐘，即得。
4.如權(quán)利要求3所述一種無(wú)毒鍍鉻塑料的制備方法，其特征在于，所述金屬鉻鍍層的鍍制時(shí)鉻的沉積速率為200-800nm/s。
5.如權(quán)利要求1、2、4所述任意一種無(wú)毒鍍鉻塑料的制備方法，其特征在于，所述塑料基材為ABS塑料或PC+ABS塑料。