1.一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一：鍍銀鋁合金表面多孔結構的構筑
采用HF/HNO3/H2O的刻蝕體系對鍍銀鋁合金進行刻蝕，刻蝕溫度為25-30℃，刻蝕時間為2-4min，清洗后干燥；然后采用Fe(NO3)3水溶液對刻蝕后的鍍銀鋁合金進行刻蝕，刻蝕溫度為45-55℃，刻蝕時間為35-45s，清洗后干燥；
步驟二：鍍銀鋁合金表面多孔TiO2薄膜的制備
將經步驟一干燥后的鍍銀鋁合金浸漬于TBT溶膠中，提拉，然后干燥，重復浸漬、提拉及干燥，最后煅燒；
步驟三：鍍銀鋁合金表面多孔Au涂層的制備
將步驟二煅燒后的鍍銀鋁合金浸漬鍍金液中在25-35℃下反應0.5-1.5h，清洗后干燥，得到抑制微放電效應的多孔Au涂層。
2.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，所述鍍銀鋁合金的長為20mm，寬為12mm，高為1mm。
3.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟一中HF/HNO3/H2O刻蝕體系是通過以下方法制得：將氫氟酸、硝酸與水混合均勻制得HF/HNO3/H2O刻蝕體系，其中，每50mL中氫氟酸、硝酸與水的體積比為(2-3.5)：12.5：(34-35.5)。
4.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟一中Fe(NO3)3水溶液的質量分數為20％-40％。
5.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，TBT溶膠是通過以下方法制得：將質量比為(0.05-0.2)：10:0.4的TBT、乙醇、濃鹽酸混合制得；其中，濃鹽酸的質量濃度為37％。
6.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，浸漬于TBT溶膠的時間為1-3min。
7.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，煅燒的溫度為100-400℃，時間為1h。
8.根據權利要求1所述的一種抑制微放電效應的多孔Au涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟三中鍍金液通過以下方法制得：所述鍍金液通過以下步驟制備：將HAuCl4、葡萄糖、無水碳酸鈉加入到水中，混合均勻，得到pH值為10.5-11.5的鍍金液；其中，HAuCl4的濃度為2-6mmol/L，葡萄糖的濃度為4-12mmol/L。