技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種(V1?xAlx)N/氮化硅納米多層涂層及其制備方法，屬于硬質(zhì)陶瓷涂層領(lǐng)域；(V1?xAlx)N/Si3N4納米多層涂層由(V1?xAlx)N納米薄層和Si3N4納米薄層反復(fù)交替疊加構(gòu)成，其制備方法是，將基體表面拋光處理后，在真空室內(nèi)通入Ar氣和N2氣，其中反應(yīng)氣體N2氣壓強(qiáng)為0.01～0.5Pa，濺射氣體Ar壓強(qiáng)為0.3～0.9Pa，采用雙靶射頻反應(yīng)濺射方法在所述基體表面反復(fù)交替沉積(V1?xAlx)N納米薄層和Si3N4納米薄層，即得；制備的(V1?xAlx)N/Si3N4納米多層涂層不但具有優(yōu)良的摩擦性能和高溫穩(wěn)定性，而且具有高于40GPa的硬度和低于0.4的摩擦系數(shù)，可以廣泛作為高速切削刀具及其它在高溫條件下服役耐磨工件的涂層。

技術(shù)研發(fā)人員：岳建嶺;李淼磊;黃小忠;王恩青
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中南大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.30
技術(shù)公布日：2017.07.25