技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及掩膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種下壓裝置及對掩膜板的下垂量進(jìn)行調(diào)節(jié)的方法，用以改善現(xiàn)有技術(shù)中由于掩膜板在張網(wǎng)過程中會出現(xiàn)下垂而導(dǎo)致在蒸鍍工藝中出現(xiàn)蒸鍍不良的問題。本申請中下壓裝置主要包括：控制部件和連接所述控制部件的至少一個接觸部件，其中，控制部件用于控制接觸部件與待調(diào)節(jié)下垂量的掩膜板的預(yù)設(shè)區(qū)域的表面接觸，并通過為接觸部件施加預(yù)設(shè)壓力以減小掩膜板的下垂量；預(yù)設(shè)區(qū)域包括：掩膜板中對應(yīng)框架結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域或掩膜板中對應(yīng)框架結(jié)構(gòu)和夾爪之間區(qū)域的第二區(qū)域。由此，該方案中的下壓裝置進(jìn)行下壓處理能夠減小或改善掩膜板的下垂量，從而，改善掩膜板在蒸鍍過程中所可能產(chǎn)生的蒸鍍不良問題，提升工藝良率。

技術(shù)研發(fā)人員：劉明星;歐凌濤;甘帥燕;王徐亮
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山國顯光電有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.28
技術(shù)公布日：2017.07.28