1.一種MOCVD真空烤盤爐，包括烤盤爐殼體(1)、真空系統(tǒng)(2)、冷卻系統(tǒng)(3)、氣源系統(tǒng)(4)和上蓋(5)，所述真空系統(tǒng)(2)、冷卻系統(tǒng)(3)和氣源系統(tǒng)(4)分別與烤盤爐殼體(1)內(nèi)部相連接，所述上蓋(5)固定連接在烤盤爐殼體(1)頂部，其特征在于：還包括輔助加熱器一(6)、側(cè)蓋體(7)、輔助加熱器二(8)、基盤(9)、加熱裝置(10)、隔熱座(11)、隔熱層(12)、旋轉(zhuǎn)座(13)、外錐面(14)、內(nèi)錐面(15)、連接軸(16)、防護層(17)和電機(18)；
所述輔助加熱器一(6)位于烤盤爐殼體(1)內(nèi)部頂部，所述輔助加熱器一(6)固定連接在上蓋(5)底面上；
所述輔助加熱器二(8)固定連接在烤盤爐殼體(1)內(nèi)部側(cè)壁上；
所述側(cè)蓋體(7)設(shè)在烤盤爐殼體(1)側(cè)面；
所述隔熱層(12)固定連接在烤盤爐殼體(1)下側(cè)內(nèi)部頂面上，所述隔熱層(12)底面中央固定連接有電機(18)；
所述電機(18)上側(cè)輸出軸與旋轉(zhuǎn)座(13)下側(cè)中央固定連接；
所述旋轉(zhuǎn)座(13)活動連接在烤盤爐殼體(1)內(nèi)部下側(cè)中央，所述旋轉(zhuǎn)座(13)頂部固定連接有連接軸(16)，所述旋轉(zhuǎn)座(13)下側(cè)外部設(shè)有外錐面(14)；
所述外錐面(14)與內(nèi)錐面(15)相連接；
所述內(nèi)錐面(15)設(shè)在烤盤爐殼體(1)下側(cè)內(nèi)部頂面中央；
所述基盤(9)位于烤盤爐殼體(1)內(nèi)部下側(cè)，所述基盤(9)底部中央固定連接在連接軸(16)頂部；
所述加熱裝置(10)位于基盤(9)下側(cè)，所述加熱裝置(10)底部固定連接在隔熱座(11)上面；
所述隔熱座(11)固定連接在烤盤爐殼體(1)內(nèi)部底面上；
所述防護層(17)設(shè)在烤盤爐殼體(1)外部表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD真空烤盤爐，其特征在于：所述加熱裝置(10)具體包括電熱絲一(101)、電極柱一(102)、電熱絲二(103)、電極柱二(104)和殼體(105)；
所述殼體(105)內(nèi)部呈扇形設(shè)有電熱絲一(101)和電熱絲二(103)；
所述電熱絲一(101)兩端分別固定連接有電極柱一(102)；
所述電熱絲二(103)兩端分別固定連接有電極柱二(104)；
所述電極柱一(102)和電極柱二(104)均固定連接在殼體(105)側(cè)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD真空烤盤爐，其特征在于：所述電機(18)為直流減速電機。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種MOCVD真空烤盤爐，其特征在于：所述防護層(17)由隔熱防火材料制成。