技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及化工反應(yīng)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種化學(xué)氣相沉積陶瓷保護(hù)膜反應(yīng)裝置，包括CH4儲(chǔ)存罐、H2儲(chǔ)存罐、蒸發(fā)器、CVD反應(yīng)室和真空抽氣泵,CH4儲(chǔ)存罐和H2儲(chǔ)存罐上均連接有支管，支管上且位于閥門的上方均設(shè)有流量計(jì)，支管另一端均連接有主管道，主管道上設(shè)有壓力表和氣體檢測(cè)儀，主管道另一端連接有蒸發(fā)器，述蒸發(fā)器上通過(guò)設(shè)有的出氣管道連接有CVD反應(yīng)室，CVD反應(yīng)室兩側(cè)均設(shè)有高溫爐，CVD反應(yīng)室底端通過(guò)抽氣管道連接有真空抽氣泵，有益效果在于：通過(guò)氣相化學(xué)反應(yīng)形成固體物質(zhì)沉積，不易受到外部環(huán)境影響；真空條件下進(jìn)行沉積，提高獲得沉積物效率，通過(guò)控制反應(yīng)氣體流量，從而控制涂層的密度，通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)室內(nèi)的真空壓力從而有效控制涂層純度。

技術(shù)研發(fā)人員：張忠帆
受保護(hù)的技術(shù)使用者：張忠帆
文檔號(hào)碼：201720321784
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.30
技術(shù)公布日：2017.11.03