本實(shí)用新型涉及化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備。

背景技術(shù)：

化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備是通過(guò)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵(lì)或光輻射等各種能源，在鍍膜設(shè)備內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在固界面上經(jīng)反應(yīng)形成一層膜。目前，現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備在刀具上制備金剛石涂層過(guò)程中，刀具表面金剛石涂層生成周期長(zhǎng)，生產(chǎn)效率低，而且，發(fā)熱絲熱場(chǎng)不均勻，反應(yīng)氣體熱解效率低，導(dǎo)致金剛石涂層生成速度慢，金剛石涂層的一致性不能很好保障。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型揭示了一種熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備,其包括第一機(jī)殼；

內(nèi)置于第一機(jī)殼的第二機(jī)殼，第二機(jī)殼與第一機(jī)殼的頂部相連接，第二機(jī)殼與第一機(jī)殼之間形成冷卻空間；

設(shè)置于第一機(jī)殼及第二機(jī)殼頂部的第三機(jī)殼，第一機(jī)殼、第二機(jī)殼及第三機(jī)殼形成一密封的反應(yīng)腔室，第三機(jī)殼具有至少一反應(yīng)氣體入口，至少一反應(yīng)氣體入口連通反應(yīng)腔室；

設(shè)置于反應(yīng)腔室的水冷基臺(tái)，水冷基臺(tái)包括第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)，第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)的頂部相連接，第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)間具有一夾角A；

設(shè)置于反應(yīng)腔室的發(fā)熱裝置，發(fā)熱裝置位于水冷基臺(tái)的上方，發(fā)熱裝置包括兩組接線(xiàn)柱、發(fā)熱絲組及連接機(jī)構(gòu)，兩組接線(xiàn)柱設(shè)置于反應(yīng)腔室，并分別位于水冷基臺(tái)的兩側(cè)，兩組接線(xiàn)柱分別連接直流電源的正極及負(fù)極，發(fā)熱絲組的兩端分別連接兩組接線(xiàn)柱，連接機(jī)構(gòu)設(shè)置于反應(yīng)腔室，并位于兩組接線(xiàn)柱間，連接機(jī)構(gòu)分隔發(fā)熱絲組成第一部分及第二部分，第一部分及第二部分分別平行第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)；以及

位于第一機(jī)殼一側(cè)的冷水機(jī)，冷水機(jī)的進(jìn)口分別連接冷卻空間及水冷基臺(tái)，冷水機(jī)的出口分別連接冷卻空間及水冷基臺(tái)。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述至少一反應(yīng)氣體入口的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)反應(yīng)氣體入口分別與第一部分及第二部分垂直。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述夾角A介于100度至160度之間。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述連接機(jī)構(gòu)包括支撐桿及折彎桿，支撐桿設(shè)置于反應(yīng)腔室，并位于兩組接線(xiàn)柱間，折彎桿設(shè)置于支撐桿，并分割發(fā)熱絲組。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備還包括排氣孔，排氣孔連通所述反應(yīng)腔室及外界。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備還包括維持泵，維持泵連接排氣孔。

根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式，上述維持泵為真空機(jī)械泵。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型可以獲得包括以下技術(shù)效果：

本實(shí)用新型的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造成本低廉，加快企業(yè)的生產(chǎn)效率，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本；并且，生成的金剛石涂層牢固，生成金剛石涂層快速，在刀具使用過(guò)程中，金剛石涂層不易脫落，生產(chǎn)的刀具質(zhì)量一致性好。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施方式的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備的示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：

1、第一機(jī)殼；2、第二機(jī)殼；3、第三機(jī)殼；31、至少一反應(yīng)氣體入口；4、水冷基臺(tái)；41、第一工作平臺(tái)；42、第二工作平臺(tái)；5、發(fā)熱裝置；51、兩組接線(xiàn)柱；52、發(fā)熱絲組；521、第一部分；522、第二部分；53、連接機(jī)構(gòu)；531、支撐桿；532、折彎桿；6、冷水機(jī)；7、冷卻空間；8、反應(yīng)腔室；9、直流電源；10、刀具；11、排氣孔；12、維持泵。

具體實(shí)施方式

以下將以圖式揭露本實(shí)用新型的多個(gè)實(shí)施方式，為明確說(shuō)明起見(jiàn)，許多實(shí)務(wù)上的細(xì)節(jié)將在以下敘述中一并說(shuō)明。然而，應(yīng)了解到，這些實(shí)務(wù)上的細(xì)節(jié)不應(yīng)用以限制本實(shí)用新型。也就是說(shuō)，在本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，這些實(shí)務(wù)上的細(xì)節(jié)是非必要的。此外，為簡(jiǎn)化圖式起見(jiàn)，一些習(xí)知慣用的結(jié)構(gòu)與組件在圖式中將以簡(jiǎn)單的示意的方式繪示之。

關(guān)于本文中所使用之“第一”、“第二”等，并非特別指稱(chēng)次序或順位的意思，亦非用以限定本實(shí)用新型，其僅僅是為了區(qū)別以相同技術(shù)用語(yǔ)描述的組件或操作而已。

請(qǐng)參閱圖1，其為本實(shí)用新型一實(shí)施方式的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備的示意圖。如圖所示，本實(shí)用新型揭示了一種熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備，熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備用于化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，將金剛石涂層涂覆于刀具的指定位置。熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備包括第一機(jī)殼1、第二機(jī)殼2、第三機(jī)殼3、水冷基臺(tái)4、發(fā)熱裝置5及冷水機(jī)6。第二機(jī)殼2內(nèi)置于第一機(jī)殼1，第二機(jī)殼2與第一機(jī)殼1的頂部相連接，第二機(jī)殼1與第一機(jī)殼2之間形成冷卻空間7。第三機(jī)殼3設(shè)置于第一機(jī)殼1及第二機(jī)殼2的頂部，第一機(jī)殼1、第二機(jī)殼2及第三機(jī)殼3形成一密封的反應(yīng)腔室8。第三機(jī)殼3具有至少一反應(yīng)氣體入口31，至少一反應(yīng)氣體入口31連通反應(yīng)腔室8。水冷基臺(tái)4設(shè)置于反應(yīng)腔室8，水冷基臺(tái)4包括第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42，第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42的頂部相連接，第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42間具有一夾角A。發(fā)熱裝置5設(shè)置于反應(yīng)腔室8，發(fā)熱裝置5位于水冷基臺(tái)4的上方。發(fā)熱裝置5包括兩組接線(xiàn)柱51、發(fā)熱絲組52及連接機(jī)構(gòu)53。兩組接線(xiàn)柱51設(shè)置于反應(yīng)腔室8，兩組接線(xiàn)柱51分別位于水冷基臺(tái)4的兩側(cè)，兩組接線(xiàn)柱51分別連接直流電源9的正極及負(fù)極。發(fā)熱絲組52的兩端分別連接兩組接線(xiàn)柱51，連接機(jī)構(gòu)53設(shè)置于反應(yīng)腔室8，連接機(jī)構(gòu)53位于兩組接線(xiàn)柱51間，連接機(jī)構(gòu)53分隔發(fā)熱絲組52成第一部分521及第二部分522，第一部分521及第二部分522分別平行第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42。冷水機(jī)6位于第一機(jī)殼1的一側(cè)，冷水機(jī)6的進(jìn)口分別連接冷卻空間7及水冷基臺(tái)4，冷水機(jī)6的出口分別連接冷卻空間7及水冷基臺(tái)4。多個(gè)刀具10分別置于第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42，于此同時(shí)，直流電源9通入電源，使得發(fā)熱絲組52發(fā)熱，充分加熱反應(yīng)腔室8及多個(gè)刀具10；爾后，至少一反應(yīng)氣體入口31通入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體與多個(gè)刀具10產(chǎn)生反應(yīng)，多個(gè)刀具10的指定位置生成金剛石涂層。在多個(gè)刀具10的指定位置生成金剛石涂層過(guò)程中，冷水機(jī)6開(kāi)始工作，使得反應(yīng)腔室8及多個(gè)刀具10其余位置保持一定溫度，防止多個(gè)刀具10其余位置生成金剛石涂層。

具體應(yīng)用時(shí)，上述的至少一反應(yīng)氣體入口31的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)反應(yīng)氣體入口31分別與第一部分521及第二部分522垂直。兩個(gè)反應(yīng)氣體入口31分別與第一部分521及第二部分522垂直，有利于反應(yīng)氣體熱解效率，提升反應(yīng)氣體活性基團(tuán)的能量和自由程，減少反應(yīng)氣體的使用，生成的金剛石涂層一致性好，金剛石涂層生成效率高，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。

具體應(yīng)用時(shí)，上述的夾角A介于100度至160度之間。水冷基臺(tái)4包括第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42，第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42的夾角A介于100度至160度之間，使得水冷基臺(tái)4能放置更多的刀具10，增加一次反應(yīng)的刀具10數(shù)量，提升企業(yè)的生產(chǎn)效率。

具體應(yīng)用時(shí)，上述的連接機(jī)構(gòu)53包括支撐桿531及折彎桿532。支撐桿531設(shè)置于反應(yīng)腔室8，支撐桿531位于兩組接線(xiàn)柱51間，折彎桿532設(shè)置于支撐桿531，折彎桿532分割發(fā)熱絲組52成第一部分521及第二部分522，第一部分521及第二部分522分別平行第一工作平臺(tái)41及第二工作平臺(tái)42。使得多個(gè)刀具10與發(fā)熱絲組52的距離均勻一致，多個(gè)刀具10生成的金剛石涂層一致性好，金剛石涂層生成效率高，反應(yīng)氣體利用率高，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。

具體應(yīng)用時(shí)，上述的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備1還包括排氣孔11及維持泵12，排氣孔11連通反應(yīng)腔室8，維持泵12連接排氣孔11。維持泵12及排氣孔11使得反應(yīng)腔室8的氣壓穩(wěn)定，放置反應(yīng)腔室8內(nèi)的氣壓過(guò)高，發(fā)生危險(xiǎn)，或者造成多個(gè)刀具10生成金剛石涂層失敗。具體應(yīng)用時(shí)，上述的維持泵12為真空機(jī)械泵，當(dāng)然，維持泵12也可根據(jù)實(shí)際使用情況選用，于此不再贅述。

綜上所述，本實(shí)用新型的一或多個(gè)實(shí)施方式中，本實(shí)用新型的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造成本低廉，加快企業(yè)的生產(chǎn)效率，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本；并且，生成的金剛石涂層牢固，生成金剛石涂層快速，在刀具使用過(guò)程中，金剛石涂層不易脫落，生產(chǎn)的刀具質(zhì)量一致性好。

上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施方式而已，并不用于限制本實(shí)用新型。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原理的內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。