技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及一種可用于生長(zhǎng)二維材料的多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)?，F(xiàn)有技術(shù)的薄膜生長(zhǎng)裝置并不適于低溫外延生長(zhǎng)二維材料，而且結(jié)構(gòu)復(fù)雜，功能單一，操作和維護(hù)不便，價(jià)格昂貴。本實(shí)用新型的系統(tǒng)利用石英管體來(lái)形成生長(zhǎng)腔室，并且通過將等離子體生成裝置在生長(zhǎng)腔室的上游，并且與沉積襯底間隔開一距離，能夠有效的控制等離子體的強(qiáng)度和密度，增強(qiáng)沉積過程的可控性，實(shí)現(xiàn)生長(zhǎng)高質(zhì)量的二維材料薄膜。而且，通過使用等離子體裝置，不僅能夠生長(zhǎng)二維材料，而且還能夠修飾或蝕刻二維材料，以及利用等離子體對(duì)管體進(jìn)行清潔，實(shí)現(xiàn)了多種功能，并且操作和維護(hù)都十分方便。本實(shí)用新型的沉積系統(tǒng)成本節(jié)省，能廣泛用于工廠和實(shí)驗(yàn)室的二維材料制備。

技術(shù)研發(fā)人員：張廣宇;楊蓉;時(shí)東霞;成蒙;謝貴柏
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院物理研究所
文檔號(hào)碼：201720416429
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.19
技術(shù)公布日：2017.11.03