1.一種合金涂層，其特征在于，所述合金涂層含有cr-zr-n合金材料，所述合金涂層滿足如下兩個(gè)特征：
2.如權(quán)利要求1所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的x射線衍射圖滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
3.如權(quán)利要求1或2所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的選區(qū)電子衍射花樣圖對(duì)應(yīng)的徑向強(qiáng)度剖面圖滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，所述cr-zr-n合金材料的化學(xué)式為(crxzrynz)ma，m為摻雜元素，其中，x、y、z和a各自獨(dú)立地為原子比，15≤x≤81.6，12.1≤y≤78.8，4.7≤z≤35.9，且0≤a/(x+y+z+a)≤0.05。
5.如權(quán)利要求4所述的合金涂層，其特征在于，x、y和z三者之和為100。
6.如權(quán)利要求4所述的合金涂層，其特征在于，0≤a/(x+y+z+a)≤0.02。
7.如權(quán)利要求4所述的合金涂層，其特征在于，所述摻雜元素為非金屬元素、金屬元素或者其組合；
8.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的合金涂層，其特征在于，所述合金涂層的厚度為dminnm～6μm，其中，dmin選自10nm～50nm。
9.如權(quán)利要求8所述的合金涂層，其特征在于，dmin為10nm、20nm、25nm、30nm、40nm或50nm；可選地，所述合金涂層的厚度為1μm～2.5μm。
10.一種鍍膜制品，其特征在于，包括基體以及權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述合金涂層；其中，所述合金涂層位于所述基體的至少一側(cè)。
11.如權(quán)利要求10所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為合金、單質(zhì)型金屬和無機(jī)非金屬材料中的一種；
12.如權(quán)利要求11所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為輕合金中的一種或不銹鋼合金中的一種；其中，所述輕合金包括鈦合金、鋁合金和鎂合金中的一種或多種。
13.如權(quán)利要求10所述的鍍膜制品，其特征在于，滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
14.如權(quán)利要求10所述的鍍膜制品，其特征在于，所述鍍膜制品為3c數(shù)碼產(chǎn)品、汽車領(lǐng)域產(chǎn)品、航空航天領(lǐng)域產(chǎn)品、可穿戴產(chǎn)品和運(yùn)動(dòng)產(chǎn)品中的一種。
15.一種合金涂層組合物，其特征在于，所述合金涂層組合物含有cr-zr-n合金材料，所述cr-zr-n合金材料如權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)中所定義。
16.權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述合金涂層作為鍍膜制品的防護(hù)涂層至少一部分的應(yīng)用，或者，權(quán)利要求15所述合金涂層組合物在制備鍍膜制品的防護(hù)涂層至少一部分中的應(yīng)用。
17.如權(quán)利要求16所述的應(yīng)用，其特征在于，所述鍍膜制品的防護(hù)涂層為耐腐蝕防護(hù)涂層。
18.一種合金涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：采用氣相沉積技術(shù)將所述合金涂層的組成元素按照預(yù)設(shè)原子比沉積于基體的至少一部分表面，形成權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述合金涂層。
19.如權(quán)利要求18所述的制備方法，其特征在于，所述合金涂層的制備方法包括如下步驟：在通入包含氬氣和含氮?dú)怏w的混合氣體的條件下，使用包括鉻和鋯的一種或多種靶材，在所述基體的至少一部分表面上濺射沉積所述合金涂層的組成元素，形成所述合金涂層。
20.如權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，滿足如下特征中的任一項(xiàng)或其中的多項(xiàng)：