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一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置、方法及計(jì)算機(jī)設(shè)備與流程

文檔序號(hào):40647943發(fā)布日期:2025-01-10 18:54閱讀:6來(lái)源:國(guó)知局
一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置、方法及計(jì)算機(jī)設(shè)備與流程

本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積,具體涉及一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置、方法及計(jì)算機(jī)設(shè)備。


背景技術(shù):

1、現(xiàn)有的cvd設(shè)備(chemical?vapor?deposition,化學(xué)氣相沉積設(shè)備)的運(yùn)維體系中,清潔工藝作為維護(hù)設(shè)備性能、保障生產(chǎn)質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其執(zhí)行效果直接影響著后續(xù)工藝的穩(wěn)定性和產(chǎn)品的良率。然而,當(dāng)前廣泛采用的基于經(jīng)驗(yàn)配置清潔菜單與固定清潔時(shí)間的方法,雖然在一定程度上能夠滿足日常清潔需求,但也暴露出了諸多局限性和潛在問(wèn)題。

2、首先,清潔菜單不匹配,無(wú)法有效清潔腔體生成物,這主要源于不同cvd工藝過(guò)程中,腔體內(nèi)會(huì)生成種類繁多、性質(zhì)各異的沉積物。如果清潔菜單未能針對(duì)特定工藝產(chǎn)生的特定污染物進(jìn)行定制化設(shè)計(jì),就可能導(dǎo)致清潔效果大打折扣;其次,清潔時(shí)間設(shè)置過(guò)短,導(dǎo)致腔體清潔不干凈,若僅憑經(jīng)驗(yàn)設(shè)定的清潔時(shí)間不足以充分暴露并溶解或剝離腔體內(nèi)的所有沉積物,那么未被有效清除的殘留物在后續(xù)工藝中可能影響產(chǎn)品質(zhì)量,甚至可能加速設(shè)備老化,縮短設(shè)備使用壽命;最后,傳統(tǒng)方法還存在清潔時(shí)間過(guò)長(zhǎng),影響腔體備件壽命的問(wèn)題,過(guò)度清潔不僅浪費(fèi)資源,還可能對(duì)腔體內(nèi)部的精密部件,如加熱元件、噴嘴、密封件等造成不必要的磨損或腐蝕。長(zhǎng)時(shí)間暴露在清潔介質(zhì)中,會(huì)加速這些備件的材質(zhì)老化,降低其機(jī)械性能和密封性,最終導(dǎo)致設(shè)備性能下降,增加維修成本和停機(jī)時(shí)間。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本發(fā)明提供了一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置、方法及計(jì)算機(jī)設(shè)備,以解決傳統(tǒng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備清潔工藝菜單不匹配,清潔不干凈和清潔過(guò)刻的問(wèn)題。

2、第一方面,本發(fā)明提供了一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置,裝置包括:

3、化學(xué)氣相沉積設(shè)備,化學(xué)氣相沉積設(shè)備的尾氣管路上設(shè)置濃度儀,使得由化學(xué)氣相沉積設(shè)備產(chǎn)生的反應(yīng)氣體流至濃度儀;

4、濃度儀,包括出氣口與進(jìn)氣口,濃度儀連接至上位機(jī),用于檢測(cè)反應(yīng)氣體中sif4氣體的濃度;

5、第一手閥,與濃度儀的進(jìn)氣口連接,第一手閥,用于控制反應(yīng)氣體是否流至濃度儀;

6、第二手閥,與濃度儀的出氣口連接,用于排出反應(yīng)氣體;

7、控制單元,用于當(dāng)sif4氣體的濃度低于預(yù)設(shè)值,并持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),發(fā)出清潔終點(diǎn)指令。

8、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置,通過(guò)在化學(xué)氣相沉積(cvd)設(shè)備的尾氣管路上設(shè)置濃度儀裝置,可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)反應(yīng)氣體中sif4(四氟化硅)氣體的濃度。通過(guò)偵測(cè)sif4的濃度變化,可以準(zhǔn)確判斷清潔過(guò)程的終點(diǎn),從而避免不必要的過(guò)度清潔或清潔不足,不僅可以節(jié)省時(shí)間和資源,還能提高生產(chǎn)效率和設(shè)備利用率。

9、在一種可選的實(shí)施方式中,濃度儀,設(shè)置于化學(xué)氣相沉積設(shè)備的尾氣管路的支路上。

10、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置,通過(guò)將濃度儀安裝在尾氣管路的支路上,可以確保主工藝流程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。支路設(shè)計(jì)也使得濃度儀的安裝、調(diào)試和維護(hù)更加靈活方便。當(dāng)需要對(duì)濃度儀進(jìn)行校準(zhǔn)、更換部件或進(jìn)行其他維護(hù)工作時(shí),可以僅關(guān)閉支路而不影響整個(gè)cvd設(shè)備的運(yùn)行。

11、第二方面,本發(fā)明提供了一種化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,應(yīng)用于權(quán)上述化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)裝置,方法包括:

12、將預(yù)設(shè)氣體通入化學(xué)氣相沉積設(shè)備的腔室進(jìn)行清潔,產(chǎn)生反應(yīng)氣體;

13、打開(kāi)第一手閥,關(guān)閉第二手閥,以使得反應(yīng)氣體流入濃度儀;

14、獲取濃度儀中反應(yīng)氣體中sif4氣體的濃度;

15、當(dāng)sif4氣體的濃度低于預(yù)設(shè)值,并持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),發(fā)出清潔終點(diǎn)指令。

16、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,通過(guò)控制手閥,使得反應(yīng)氣體流入濃度儀,以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)反應(yīng)氣體中的sif4氣體的濃度,當(dāng)氣體濃度低于預(yù)設(shè)下限并保持預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),將其確定為清潔過(guò)程的終點(diǎn),發(fā)出清潔終點(diǎn)指令,既能減少不必要的清潔時(shí)間,提高生產(chǎn)效率,又避免了傳統(tǒng)方法可能存在的清潔不足的問(wèn)題,既確保了清潔效果又提高了清潔效率。

17、在一種可選的實(shí)施方式中,獲取濃度儀中反應(yīng)氣體中sif4氣體的濃度,包括:

18、按照預(yù)設(shè)時(shí)間間隔對(duì)sif4氣體的濃度進(jìn)行采樣,得到若干采樣點(diǎn);

19、基于若干采樣點(diǎn)形成濃度響應(yīng)曲線,濃度響應(yīng)曲線用于表征sif4氣體的濃度與時(shí)間之間的映射關(guān)系。

20、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,通過(guò)連續(xù)采樣并形成濃度響應(yīng)曲線,可以更準(zhǔn)確地捕捉到sif4氣體濃度的變化趨勢(shì),濃度響應(yīng)曲線也能夠?qū)崟r(shí)展示sif4氣體濃度的動(dòng)態(tài)變化,便于或自動(dòng)控制系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控和分析,及時(shí)調(diào)整清潔過(guò)程,確保清潔效果,也更便于實(shí)現(xiàn)清潔終點(diǎn)的自動(dòng)判斷。

21、在一種可選的實(shí)施方式中,當(dāng)sif4氣體的濃度低于預(yù)設(shè)值,并持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),發(fā)出清潔終點(diǎn)指令,包括:

22、基于濃度響應(yīng)曲線,將sif4氣體的濃度首次低于預(yù)設(shè)值的采樣點(diǎn)確定為第一采樣點(diǎn);

23、將緊接于第一采樣點(diǎn)后的預(yù)設(shè)個(gè)數(shù)的采樣點(diǎn)確定為若干觀察采樣點(diǎn);

24、當(dāng)若干觀察采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的sif4氣體的濃度均低于預(yù)設(shè)值時(shí),發(fā)出清潔終點(diǎn)指令。

25、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,不是僅僅基于單個(gè)采樣點(diǎn)的濃度數(shù)據(jù)來(lái)判斷清潔終點(diǎn),而是基于濃度響應(yīng)曲線上的多個(gè)采樣點(diǎn)。這樣可以更全面地評(píng)估sif4氣體濃度的變化趨勢(shì),從而提高了判斷清潔終點(diǎn)的準(zhǔn)確性,避免因?yàn)閿?shù)據(jù)的偶然波動(dòng)而導(dǎo)致誤判,同時(shí),本發(fā)明使得清潔過(guò)程的控制更加精細(xì)和準(zhǔn)確,以確保清潔效果的同時(shí),最大限度地減少不必要的清潔時(shí)間,從而提高了生產(chǎn)效率和設(shè)備利用率。

26、在一種可選的實(shí)施方式中,將緊接于第一采樣點(diǎn)后的預(yù)設(shè)個(gè)數(shù)的采樣點(diǎn)確定為若干觀察采樣點(diǎn)包括:

27、將緊接于第一采樣點(diǎn)后的三個(gè)點(diǎn)確定為觀察采樣點(diǎn)。

28、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,將觀察采樣點(diǎn)確定為三個(gè)連續(xù)的采樣點(diǎn),避免測(cè)量誤差或短暫的濃度波動(dòng),而三個(gè)連續(xù)采樣點(diǎn)均低于預(yù)設(shè)值則更能說(shuō)明sif4氣體的濃度已經(jīng)穩(wěn)定下降,這樣可以更有效地過(guò)濾掉偶然的數(shù)據(jù)波動(dòng)或噪聲,從而提高判斷的穩(wěn)定性和可靠性,另一方面,選取連續(xù)三個(gè)采樣點(diǎn)作為觀察采樣點(diǎn)也避免觀察采樣點(diǎn)太多,導(dǎo)致因過(guò)于保守而延長(zhǎng)不必要的清潔時(shí)間。

29、在一種可選的實(shí)施方式中,方法還包括:

30、當(dāng)接收到清潔終點(diǎn)指令時(shí),停止對(duì)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的清洗。

31、本發(fā)明實(shí)施例提供的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法,確保了當(dāng)清潔終點(diǎn)被準(zhǔn)確判斷并發(fā)出指令時(shí),化學(xué)氣相沉積設(shè)備的清洗過(guò)程能夠立即停止,這種即時(shí)響應(yīng)機(jī)制避免了不必要的清潔時(shí)間延長(zhǎng),提高了生產(chǎn)效率和設(shè)備利用率。通過(guò)精確控制清洗時(shí)間,可以避免因清洗不足導(dǎo)致的雜質(zhì)殘留問(wèn)題以及過(guò)度清洗對(duì)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的某些部件造成不必要的磨損或損壞的問(wèn)題。

32、第三方面,本發(fā)明提供了一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括:存儲(chǔ)器和處理器,存儲(chǔ)器和處理器之間互相通信連接,存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)指令,處理器通過(guò)執(zhí)行計(jì)算機(jī)指令,從而執(zhí)行上述第二方面或其對(duì)應(yīng)的任一實(shí)施方式的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法。

33、第四方面,本發(fā)明提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),該計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)指令,計(jì)算機(jī)指令用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行上述第二方面或其對(duì)應(yīng)的任一實(shí)施方式的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法。

34、第五方面,本發(fā)明提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品,包括計(jì)算機(jī)指令,計(jì)算機(jī)指令用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行上述第二方面或其對(duì)應(yīng)的任一實(shí)施方式的化學(xué)沉積臺(tái)的清潔終點(diǎn)偵測(cè)方法。

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