技術(shù)特征：

1.一種化學沉積臺的清潔終點偵測裝置，其特征在于，所述裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述濃度儀，設(shè)置于所述化學氣相沉積設(shè)備的尾氣管路的支路上。

3.一種化學沉積臺的清潔終點偵測方法，其特征在于，應用于權(quán)利要求1或2所述的裝置，所述方法包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述濃度儀中所述反應氣體中sif4氣體的濃度，包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述當所述sif4氣體的濃度低于預設(shè)值，并持續(xù)預設(shè)時間時，發(fā)出清潔終點指令，包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述將緊接于所述第一采樣點后的預設(shè)個數(shù)的采樣點確定為若干觀察采樣點包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

8.一種計算機設(shè)備，其特征在于，包括：

9.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質(zhì)上存儲有計算機指令，所述計算機指令用于使計算機執(zhí)行權(quán)利要求3至7中任一項所述的化學沉積臺的清潔終點偵測方法。

10.一種計算機程序產(chǎn)品，其特征在于，包括計算機指令，所述計算機指令用于使計算機執(zhí)行權(quán)利要求3至7中任一項所述的化學沉積臺的清潔終點偵測方法。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及化學氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種化學沉積臺的清潔終點偵測裝置、方法及計算機設(shè)備，其中，方法包括：將預設(shè)氣體通入化學氣相沉積設(shè)備的腔室進行清潔，產(chǎn)生反應氣體；打開第一手閥，關(guān)閉第二手閥，使得反應氣體流入濃度儀，獲取濃度儀中反應氣體中SiF<subgt;4</subgt;氣體的濃度，當SiF<subgt;4</subgt;氣體的濃度低于預設(shè)值，并持續(xù)預設(shè)時間時，發(fā)出清潔終點指令。本發(fā)明通過檢測清潔工藝過程中產(chǎn)生的反應氣體中的SiF<subgt;4</subgt;氣體的濃度，以確保清潔工藝的精度，避免清潔不到位以及清潔過刻的問題，提高了清潔效率和清潔效果。

技術(shù)研發(fā)人員：馬留強,劉丹,耿超,姚鑫磊
受保護的技術(shù)使用者：無錫邑文微電子科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9