固接有一個頂端收口的壓緊塊305，壓緊塊305頂部安裝有一個壓緊輪306，該壓緊輪306的頂端頂在上料輸送帶311內側。通過電機301帶動上料輸送帶311轉動，將其上的基片輸送至真空吸附輸送系統(tǒng)Al下端左側，并通過壓緊單元將基片逐一壓在輸送帶105上，實現(xiàn)自動上料的要求。
[0037]如圖3所示，所述毛刺清掃機構4包括安裝架401，安裝架401內滑動安裝有至少一個滑架404，滑架404內安裝有滾筒形的毛刷402，滑架404側壁固接有用于驅動毛刷402轉動的驅動單元405，滑架404內還鉸接有一塊三角形的壓塊406，該壓塊406 —邊與毛刷402相切，滑架404上還安裝有調節(jié)螺栓403。通過驅動單元405帶動滾筒形的毛刷402轉動，毛刷402即可對輸送帶105上吸附的基片進行毛刺清掃。
[0038]為了保證毛刺能徹底清掃干凈，所述毛刺清掃機構4至少有4個，且分別兩兩布置在真空吸附輸送系統(tǒng)Al和真空吸附輸送系統(tǒng)B5上。
[0039]為了對應不同厚度的基片的毛刺清掃要求，所述真空吸附輸送系統(tǒng)Al比真空吸附輸送系統(tǒng)B5高1mm0
[0040]為了保證真空度實現(xiàn)真空吸附的要求，所述吸風孔104的直徑為1.5mm。
[0041]為了保證吸附的穩(wěn)定性，所述吸附孔109的直徑為4.5mm。
[0042]實施例:
[0043]使用時，從沖片工序沖裁下來的基片落入自動接料輸送機構3內的上料輸送帶311上，電機301帶動驅動輪302轉動，驅動輪302通過鏈條303帶動從動輪313轉動，由于主動輪314與從動輪313是同軸布置的，所以從動輪313即可帶動主動輪314轉動，主動輪314即可驅動上料輸送帶311進行轉動，基片即可從上料輸送帶311左端向右端移動，當基片被輸送至壓緊塊305處時，壓緊塊305將基片壓緊在真空吸附輸送系統(tǒng)Al內的輸送帶105上端左側，不同厚度的基片的壓緊可通過調整安裝板309上的頂桿307實現(xiàn)壓緊塊305和壓緊輪306的高度實現(xiàn)；此時，真空泵(圖中未示出)工作，其與吸風嘴103相連，真空泵將由上面板101、下面板107和側框106組成的方體形的真空吸附架內的空氣抽出，真空吸附架內形成負壓狀態(tài)，外部的空氣通過上面板101上開設的吸風孔104進入真空吸附架內，使得真空吸附架內形成空氣流動，輸送帶105是套在上面板101和下面板107外壁的且也開有吸附孔109，空氣是先通過吸附孔109再通過吸風孔104進入真空吸附架內的，通過真空吸附架的負壓狀態(tài)即可將基片緊緊地吸附在真空吸附輸送系統(tǒng)Al的底端面，中板205上安裝的電機總成6通過皮帶或鏈條帶動輸送帶105作輸送動作，輸送帶105即可將基片向右輸送，基片進入真空吸附輸送系統(tǒng)Al內的第一個毛刺清掃機構4，驅動單元405帶動滾筒形的毛刷402轉動，對基片的下端面進行毛刺清理，然后進入第二個毛刺清掃機構4進行二次毛刺清掃，即完成了基片下端面的毛刺清除?；S著真空吸附輸送系統(tǒng)Al內的輸送帶105繼續(xù)向右移動，當基片移動至真空吸附輸送系統(tǒng)Al右端時，基片落下并落在真空吸附輸送系統(tǒng)B5內的輸送帶105頂端左側，安裝在中板205上的電機總成6通過皮帶或鏈條帶真空吸附輸送系統(tǒng)B5內的動輸送帶105作輸送動作，輸送帶105即可將基片向右輸送，基片進入真空吸附輸送系統(tǒng)B5內的第一個毛刺清掃機構4，驅動單元405帶動滾筒形的毛刷402轉動，對基片的下端面進行毛刺清理，然后進入第二個毛刺清掃機構4進行二次毛刺清掃，即完成了基片上端面的毛刺清除，不同厚度的基片毛刺清理可以通過毛刺清掃機構4內的調節(jié)螺栓403調整滑架404和毛刷402與輸送帶105之間的間距實現(xiàn)；經(jīng)過上述操作后，基片已經(jīng)徹底完成了毛刺的清除，真空吸附輸送系統(tǒng)B5將基片向右輸送至右端，在真空吸附輸送系統(tǒng)B5右端安裝的自動翻轉機構實現(xiàn)基片的隔一翻轉，即相鄰兩塊基片需要分為正反兩種狀態(tài)，自動翻轉機構內的感應器測定基片位置，自動將基片按每隔一片翻轉一次，并將基片堆成垛，堆成100塊的垛后即可將基片垛輸送至燒結工序。
[0044]上述實施例僅為本發(fā)明的一個較佳實施例，并不用于限定本發(fā)明的保護范圍，比如左、右、上、下等方向描述僅僅是為了便于本領域的技術人員理解技術方案；此外，凡在本發(fā)明的技術方案基礎上所作出的變形、修飾或等同替換等均應落入本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:包括機架(2)，機架(2)頂端安裝有高度不同的真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)和真空吸附輸送系統(tǒng)B (5)，所述機架(2)頂端還安裝有若干毛刺清掃機構(4)，毛刺清掃機構(4)均勻分布并架設在真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)和真空吸附輸送系統(tǒng)B(5)上，真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)高度高于真空吸附輸送系統(tǒng)B(5)，真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)底端前部安裝有自動接料輸送機構(3)，機架(2)上還安裝有若干電機總成(6)，真空吸附輸送系統(tǒng)B(5)末端安裝有自動翻轉機構。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)和真空吸附輸送系統(tǒng)B(5)的結構相同，均包括由上面板(101)、下面板(107)和側框(106)組成的方體形真空吸附架，后方真空吸附架后端的側框(106)上固接有吸風通道(102)，吸風通道(102)末端固接有豎直布置的負壓吸風嘴(103)，上面板(101)中部開設有若干陣列布置的吸風孔(104);還包括輸送帶(105)，該輸送帶(105)上下兩側分別置于上面板(101)和下面板(107)外壁，且輸送帶(105)中部通體開設有若干陣列布置的吸附孔(109)。
3.根據(jù)權利要求2所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述上面板(101)和下面板(107)與側框(108)的連接處均卡裝有密封圈(108)。
4.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述機架(2)包括底板(201)，底板(201)上固接有若干立柱(203)，立柱(203)頂端固接有頂板(202)，頂板(202)底端面固接有若干支桿(206)，支桿(206)底端固接有中板(205)，底板(201)四角處均安裝有支腳(204)。
5.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述自動接料輸送機構(3)包括左右兩個間隔布置在頂板(202)頂端前部的支座(312)，兩個支座(312)中部均安裝有導輪(304)，右側的支座(312)正下方設有電機(301)，電機(301)輸出端為驅動輪(302)，驅動輪(302)通過鏈條(303)與右側的支座(312)頂端的從動輪(313)相連，從動輪(313)帶動一個同軸的主動輪(314)轉動，左側的支座(312)頂端安裝有滾輪(310)，主動輪(314)、滾輪(310)和兩個導輪(304)上套接有上料輸送帶(311);還包括設置在兩個支座(312)之間的壓緊單元，該壓緊單元包括通過支桿(308)固定在頂板(202)上的安裝板(309)，安裝板(309)中部插裝有可上下滑動并鎖緊的頂桿(307)，頂桿(307)頂端固接有一個頂端收口的壓緊塊(305)，壓緊塊(305)頂部安裝有一個壓緊輪(306)，該壓緊輪(306)的頂端頂在上料輸送帶(311)內側。
6.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述毛刺清掃機構(4)包括安裝架(401)，安裝架(401)內滑動安裝有至少一個滑架(404)，滑架(404)內安裝有滾筒形的毛刷(402)，滑架(404)側壁固接有用于驅動毛刷(402)轉動的驅動單元(405)，滑架(404)內還鉸接有一塊三角形的壓塊(406)，該壓塊(406) —邊與毛刷(402)相切，滑架(404)上還安裝有調節(jié)螺栓(403)。
7.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述毛刺清掃機構(4)至少有4個，且分別兩兩布置在真空吸附輸送系統(tǒng)A (I)和真空吸附輸送系統(tǒng)B (5)上。
8.根據(jù)權利要求1所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述真空吸附輸送系統(tǒng)A(I)比真空吸附輸送系統(tǒng)B(5)高10mm。
9.根據(jù)權利要求2所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述吸風孔(104)的直徑為1.5mmο
10.根據(jù)權利要求2所述的用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，其特征在于:所述吸附孔(109)的直徑為4.5mmο
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于電子陶瓷基片的雙面除毛刺機，包括機架，機架頂端安裝有高度不同的真空吸附輸送系統(tǒng)A和真空吸附輸送系統(tǒng)B，機架頂端還安裝有若干毛刺清掃機構，毛刺清掃機構均勻分布并架設在真空吸附輸送系統(tǒng)A和真空吸附輸送系統(tǒng)B上，真空吸附輸送系統(tǒng)A高度高于真空吸附輸送系統(tǒng)B，真空吸附輸送系統(tǒng)A底端前部安裝有自動接料輸送機構，機架上安裝有若干電機總成，真空吸附輸送系統(tǒng)B末端安裝有自動翻轉機構。本發(fā)明具有結構簡單、操作便捷、清理速度快、清理潔凈度高、自動化程度高、效率高等優(yōu)點；無需人工手動清理，不會存在基片污損的情況，并能大幅降低人工勞動強度，能提高生產(chǎn)效率并降低成本。
【IPC分類】B24B41-00, B24B9-06
【公開號】CN104551913
【申請?zhí)枴緾N201410812204
【發(fā)明人】陳光明, 岑剛, 楊芳
【申請人】都勻雙成機械設備有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年12月23日