提供的方法克服了現(xiàn)有制備裂變徑跡薄片過(guò)程中的多種問(wèn)題，并且可方便地應(yīng)用于實(shí)際工作中，因此，對(duì)于裂變徑跡技術(shù)在地質(zhì)學(xué)領(lǐng)域的快速發(fā)展具有積極作用。
【附圖說(shuō)明】
[0027]圖1為實(shí)施例1中制備裂變徑跡薄片的流程圖；
[0028]圖2為磷灰石顆粒掃描電子顯微鏡下的磷灰石圖像；
[0029]圖3為磷灰石顆粒最大面示意圖；
[0030]圖4為實(shí)施例1中制備的薄片初品的示意圖；
[0031]圖5為實(shí)施例1中制備的薄片經(jīng)蝕刻得到的裂變徑跡蝕刻象。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和有益效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行以下詳細(xì)說(shuō)明，但不能理解為對(duì)本發(fā)明的可實(shí)施范圍的限定。
[0033]實(shí)施例1
[0034]本實(shí)施例提供了一種裂變徑跡薄片的制備方法(圖1為該方法的流程圖)，其包括以下步驟:
[0035]第一步:利用150目的細(xì)胞篩篩選得到直徑介于60-200 μπι的磷灰石顆粒1000-2000顆；根據(jù)晶體光學(xué)分類(lèi)，自然界中的磷灰石屬于六方柱體，圖2為掃描電子顯微鏡下觀(guān)察到的磷灰石圖像，圖3為磷灰石顆粒最大面示意圖；
[0036]第二步:以1:3的體積比調(diào)配Epothin Epoxy Resin(環(huán)氧樹(shù)脂)和EpothinHardener (凝固劑)，攪拌5分鐘，使他們混合均勾，用細(xì)小攪拌棒蘸2_3ml滴在載玻片上，然后緩慢注入已挑選好的磷灰石顆粒，再用牙簽緩慢攪拌樹(shù)脂和磷灰石顆粒，待磷灰石顆粒沉入樹(shù)脂底部且分散展布，靜置2天，待樹(shù)脂完全凝固，制得薄片初品(圖4為制備的薄片初品的不意圖)；
[0037]第三步:利用雙面膠將載玻片固定在Leica EM TXP精磨一體機(jī)的載物臺(tái)上，然后將粒度為15 ym的金剛石砂紙固定在磨盤(pán)上；在以純凈水為潤(rùn)滑劑，壓力參數(shù)設(shè)置為18N，磨盤(pán)轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm的研磨條件下進(jìn)行粗磨(研磨前的狀態(tài)見(jiàn)圖4);在研磨過(guò)程中，通過(guò)雙目鏡時(shí)刻觀(guān)察研磨程度，大概研磨15分鐘，可看到大部分(60% -80% )磷灰石顆粒已暴露于外部；
[0038]第四步:將磨盤(pán)上15 μπι的金剛石砂紙更換成9 μπι的金剛石砂紙進(jìn)行精磨，以純凈水為潤(rùn)滑劑，壓力為18Ν，磨盤(pán)轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm，每隔2分鐘透過(guò)雙目鏡觀(guān)察研磨效果，待磨至大部分顆粒(50% -70% )最大面為止；
[0039]第五步:將磨盤(pán)上9 μπι的金剛石砂紙更換成3 μπι金剛石砂紙進(jìn)行細(xì)磨，仍然以純凈水為潤(rùn)滑劑，但壓力參數(shù)設(shè)置為12Ν(以防壓力過(guò)大，壓碎礦物顆粒)，磨盤(pán)轉(zhuǎn)速降為3000-3500rpm，繼續(xù)研磨，目的是除去粗磨產(chǎn)生的大的擦痕；通過(guò)雙目鏡觀(guān)察研磨效果，大概10分鐘后，此時(shí)樹(shù)脂和礦物上的擦痕已很少；
[0040]第六步:研磨結(jié)束后，將磨盤(pán)3 μm金剛石砂紙更換成拋光布(Struers A/S公司的MD-Chem拋光布)，并以I μ HiAl2O3拋光液為潤(rùn)滑劑，拋光大概20分鐘，除去精磨中殘留的細(xì)微擦痕，制得裂變徑跡薄片。
[0041]利用裂變徑跡Autoscan自動(dòng)測(cè)試儀將上述徑跡裂變薄片放大1000倍進(jìn)行觀(guān)察，發(fā)現(xiàn)樹(shù)脂及磷灰石顆粒拋光面非常光滑，無(wú)明顯地擦痕和凹坑。薄片經(jīng)化學(xué)蝕刻后，可以在磷灰石顆粒表面很容易地識(shí)別出哪些是裂變徑跡痕跡，極大地減小了由制片效果差帶來(lái)的統(tǒng)計(jì)誤差。圖5為制作的薄片蝕刻后在裂變徑跡自動(dòng)測(cè)試儀反射光下看到的徑跡蝕刻坑(即黑點(diǎn))。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種裂變徑跡薄片的制備方法，該方法包括以下步驟: 先用自動(dòng)研磨設(shè)備將薄片初品粗磨至60% -80%顆粒露于薄片表面，再精磨至使粗磨露出的顆粒中的50% -70%的最大面露于薄片表面，然后通過(guò)細(xì)磨、拋光得到裂變徑跡薄片; 所述自動(dòng)研磨設(shè)備設(shè)有可監(jiān)視樣品研磨狀態(tài)的觀(guān)察部件。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述粗磨操作中，自動(dòng)研磨設(shè)備所用的研磨材料是粒度為15 μ m的砂紙，研磨壓力為15-18N，轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述精磨操作中，自動(dòng)研磨設(shè)備所用的研磨材料是粒度為9 μπι的砂紙，研磨壓力為15-18Ν，轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述細(xì)磨操作中，自動(dòng)研磨設(shè)備所用的研磨材料是粒度為3 μπι的砂紙，研磨壓力為10-12Ν，轉(zhuǎn)速為3000-3500rpm。5.如權(quán)利要求2-4任意一項(xiàng)所述的方法，其中，所述砂紙為金剛石砂紙；研磨中使用潤(rùn)滑劑進(jìn)行潤(rùn)滑，潤(rùn)滑劑優(yōu)選為水；所述自動(dòng)研磨設(shè)備優(yōu)選為L(zhǎng)eica EM TXP精磨一體機(jī)。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述拋光操作中，使用拋光布進(jìn)行拋光，拋光壓力為5N，轉(zhuǎn)速為2500-3000rpm，使用的潤(rùn)滑劑為I μ HiAl2O3拋光液，其中，拋光布優(yōu)選為Struers A/S公司的MD-Chem拋光布。7.如權(quán)利要求1所述的方法，在自動(dòng)研磨設(shè)備工作中，所述粗磨、精磨、細(xì)磨、拋光步驟分別包括通過(guò)自動(dòng)研磨設(shè)備的觀(guān)察部件觀(guān)察薄片的研磨狀態(tài)的操作。8.如權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的方法，其中，所述薄片初品的制備方法為:取2-3ml樹(shù)脂滴在載玻片上，將1000-2000顆直徑為60-200 μ m的磷灰石顆粒注入樹(shù)脂中，待樹(shù)脂凝固后制得薄片初品。9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中，該方法還包括:在所述磷灰石顆粒注入樹(shù)脂中后，通過(guò)攪拌使磷灰石顆粒發(fā)散性地分布于樹(shù)脂底部的步驟。10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，該方法包括以下步驟: 步驟一:取2-3ml樹(shù)脂滴在載玻片上，然后將1000-2000顆直徑為60-200 μ m的磷灰石顆粒注入樹(shù)脂中； 步驟二:通過(guò)攪拌使磷灰石顆粒發(fā)散性地分布于樹(shù)脂底部，待樹(shù)脂凝固后制得薄片初品; 步驟三:用Leica EM TXP精磨一體機(jī)對(duì)薄片初品進(jìn)行粗磨，至薄片初品的60% -80%顆粒露于薄片表面為止，粗磨中選用粒度為15 μπι的金剛石砂紙，潤(rùn)滑劑為純凈水，壓力為15-18Ν，轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm，研磨過(guò)程中通過(guò)觀(guān)察部件觀(guān)察薄片的研磨程度并確定粗磨終占.z、 V ， 步驟四:對(duì)粗磨后的薄片進(jìn)行精磨，至粗磨露出的顆粒中的50% -70%的最大面露于薄片表面為止，精磨中選用粒度為9 μπι的金剛石砂紙，潤(rùn)滑劑為純凈水，壓力為15-18Ν，轉(zhuǎn)速為5000-6000rpm，研磨過(guò)程中通過(guò)觀(guān)察部件觀(guān)察薄片的研磨程度并確定精磨終點(diǎn)； 步驟五:對(duì)精磨后的薄片進(jìn)行細(xì)磨，除去精磨過(guò)程中薄片上殘留的粗擦痕，細(xì)磨中選用粒度為3 μ m的金剛石砂紙，潤(rùn)滑劑為純凈水，壓力為10-12N，轉(zhuǎn)速為3000_3500rpm，研磨過(guò)程中通過(guò)觀(guān)察部件觀(guān)察薄片的研磨程度并確定細(xì)磨終點(diǎn)； 步驟六:對(duì)細(xì)磨后的薄片進(jìn)行拋光，除去細(xì)磨過(guò)程中薄片上殘留的細(xì)微擦痕，制得裂變徑跡薄片；拋光中使用Struers A/S公司的MD-Chem拋光布，潤(rùn)滑劑為I μ mAl203拋光液，拋光壓力為5N，轉(zhuǎn)速為2500-3000rpm，期間通過(guò)觀(guān)察部件觀(guān)察薄片的拋光程度并確定拋光終點(diǎn)。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了一種裂變徑跡薄片的制備方法，該方法包括以下步驟：先用自動(dòng)研磨設(shè)備將薄片初品粗磨至大部分顆粒露于薄片表面，再精磨至大部分顆粒的最大面露于薄片表面，然后通過(guò)細(xì)磨、拋光得到裂變徑跡薄片；所述自動(dòng)研磨設(shè)備設(shè)有可監(jiān)視樣品研磨狀態(tài)的觀(guān)察部件。與現(xiàn)有的方法相比，本發(fā)明提供的方法可有效提高裂變徑跡薄片的制樣效率和精度。
【IPC分類(lèi)】B24B1/00
【公開(kāi)號(hào)】CN104942660
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510259524
【發(fā)明人】常健, 邱楠生, 劉念, 周圓圓
【申請(qǐng)人】中國(guó)石油大學(xué)(北京)
【公開(kāi)日】2015年9月30日
【申請(qǐng)日】2015年5月20日