出。通過這種額外的氣體輸入的可能性，使得在筒內(nèi)部形成壓力沖擊，從而使過濾介質(zhì)膨脹，從而使過濾介質(zhì)外側(cè)上的密集體掉落。所述壓力沖擊還可以通過其他方式形成，例如通過活塞氣缸單元形成。此外可能的是，使用其他的機械式激發(fā)，從而形成過濾材料的彈性變形。尤其可以規(guī)定，僅彈性材料產(chǎn)生擺動。這可以通過頻率發(fā)生器、例如超聲波發(fā)生器完成。
[0011 ] 此外，本發(fā)明還涉及帶有振動裝置的顆粒分離器在CVD設(shè)備、尤其MOCVD設(shè)備中的應(yīng)用，所述振動裝置用于使顆粒過濾器產(chǎn)生擺動，其中，鎵金屬有機化合物或氫化物被用作處理氣體。然而也可以應(yīng)用在PVD設(shè)別中。優(yōu)選地，在設(shè)備中使用顆粒分離器，利用所述設(shè)備，通過使用鎵金屬有機化合物和氨氣沉積出亞硝酸鎵。尤其設(shè)有機械器件，通過使用所述機械器件使顆粒過濾器或者說過濾介質(zhì)產(chǎn)生運動，從而使聚集在過濾介質(zhì)的表面上的密集體從過濾介質(zhì)上剝離。
[0012]以下借助附圖對本發(fā)明的實施例進行闡述。在附圖中:
[0013]圖1示意性示出具有第一實施例的顆粒分離器的CVD反應(yīng)器；
[0014]圖2示出根據(jù)圖1中的剖切線I1-1I的剖視圖；
[0015]圖3示出根據(jù)圖1中的剖切線II1-1II的剖視圖；
[0016]圖4示出顆粒分離器的第二實施例的視圖；
[0017]圖5示出沿圖7中的剖切線V-V穿過圖4所示的顆粒分離器的縱向剖視圖；
[0018]圖6示出沿圖7中的剖切線V1-VI剖切顆粒分離器的立體圖；
[0019]圖7示出根據(jù)圖5中的剖切線VI1-VII的剖視圖。
[0020]CVD反應(yīng)器I具有進氣機構(gòu)11，所述進氣機構(gòu)通過管連接裝置與未示出的氣體供應(yīng)單元相連。氣體供應(yīng)單元提供處理氣體，所述處理氣體借助進氣機構(gòu)11導(dǎo)入CVD反應(yīng)器I的處理室8中。待涂覆的基板放置在可加熱的基座9上。處理氣體可以在氣相中熱解或者在放置于基座9上的基板的表面上分解，從而在該處生長單晶層。優(yōu)選地，通過進氣機構(gòu)11導(dǎo)入運載氣體、例如氫氣以及反應(yīng)氣體。為了沉積亞硝酸鎵，將氨氣和鎵金屬有機化合物、例如TMGa(三甲基鎵)導(dǎo)入處理室8中。處理氣體作為反應(yīng)產(chǎn)物GaN不僅沉積在基板表面上。處理氣體還在基座9上方的氣相中相互發(fā)生反應(yīng)，從而形成顆粒。
[0021]可能包含顆粒的廢氣流通過排氣機構(gòu)10從處理室8排出，并且通過氣體管道12進入冷卻器2。在冷卻器2中具有冷卻螺旋管13，例如液氮流動穿過所述冷卻螺旋管。廢氣被冷卻。在此可能會出現(xiàn)冷凝，從而在冷卻廢氣時也會形成顆粒。
[0022]顆粒分離器殼體3位于冷卻器2的下方。顆粒分離器殼體3具有排氣部15，顆粒分離器殼體3利用所述排氣部與真空裝置、例如真空泵相連。利用未示出的真空泵可以將處理室8、冷卻器2和顆粒分離器殼體3中的總壓保持在I至950mbar的水平上。然而總壓還可以保持在例如I至5mbar的真空水平上。
[0023]為顆粒分離器殼體3的底部21配置了排氣通道6。所述排氣通道6在底部21的下方延伸并通向排氣部15。在該實施例中，三個顆粒過濾器放置在底部21上，所述顆粒分離器分別具有過濾筒4的形狀。
[0024]顆粒分離器殼體3在與底部21對置的一側(cè)具有開口，廢氣流能夠通過所述開口進入顆粒分離器殼體3中。冷卻器2緊鄰地位于該開口的上方。
[0025]過濾筒4具有圓柱形的形狀和氣體排放口，被過濾的廢氣能通過所述氣體排放口流入排氣通道6中。過濾筒4分別通過硅波紋件5與底部21相連。通過硅波紋件5的管口可以使被過濾的廢氣流從過濾筒4的內(nèi)部流入排氣通道6中。
[0026]中空圓柱形的過濾筒4的罩壁由薄壁狀、褶皺的過濾介質(zhì)16構(gòu)成。由圖2可知，過濾介質(zhì)16曲折線狀地褶皺并且構(gòu)成相互平行延伸的內(nèi)折線18和外折線17。折線17以及18的間距在10至12mm的范圍內(nèi)。
[0027]硅波紋件5構(gòu)成彈性的支承元件，過濾筒4利用所述支承元件可擺動地固定在底部21上。三個過濾筒4的向上指向的敞開的端部與振動裝置7的殼體14相互連接。在振動裝置17的殼體14內(nèi)部具有電動機19，回轉(zhuǎn)質(zhì)量20布置在電動機的軸上。回轉(zhuǎn)質(zhì)量20這樣相對于電動機19的軸的旋轉(zhuǎn)軸線偏心地布置，以至于電動機19的轉(zhuǎn)動使由三個過濾筒4構(gòu)成的整體發(fā)生擺動，所述擺動具有約為Imm的振幅。擺動頻率優(yōu)選位于約50至60Hz的范圍內(nèi)。然而擺動頻率也可以高達3000Hz。然而還可行的是，過濾筒4應(yīng)被調(diào)節(jié)至超聲波范圍內(nèi)。利用在該實施例中所設(shè)置的振動裝置7使得由三個過濾筒構(gòu)成的裝置產(chǎn)生往復(fù)運動。然而還規(guī)定，過濾筒4或過濾筒裝置沿過濾筒4的軸線產(chǎn)生縱向擺動。
[0028]過濾介質(zhì)16是薄壁狀、裙皺的材料。過濾介質(zhì)的孔徑位于I至50 μ m的范圍內(nèi)?？讖絻?yōu)選為10ym。過濾介質(zhì)可以是紙或由以紙為基質(zhì)的材料構(gòu)成。還可以規(guī)定，過濾介質(zhì)是聚合無紡布。過濾介質(zhì)可以被涂覆。優(yōu)選被特氟龍涂覆。過濾介質(zhì)的表面這樣完成，從而使處于廢氣流中的顆粒能聚集在該處。那些最小的顆粒粘附在過濾介質(zhì)16的表面上，而不會在過濾介質(zhì)16的微孔中生長。個別粘附在過濾介質(zhì)16的表面上的細小顆粒構(gòu)成生長核，其他細小顆?？梢哉掣皆谠撋L核上。在此構(gòu)成密集體，所述密集體可以達到0.5至5mm的尺寸。擺動頻率和擺動振幅這樣設(shè)置，從而使密集體一旦達到毫米范圍內(nèi)的尺寸就從過濾介質(zhì)16的表面上剝離。密集體就掉落在顆粒分離器殼體3的底部21上。由于在過濾介質(zhì)16的表面上形成的密集體從過濾介質(zhì)16上剝離，之前被密集體所占據(jù)的面積就重新成為可用于廢氣的氣體流通面。由此提高了顆粒過濾器的效能。
[0029]從過濾介質(zhì)16上掉落的密集體聚集在顆粒分離器殼體3的底部21上。通過未示出的維修口將顆粒取出。
[0030]振動電機也可以位于過濾筒的內(nèi)部，也就是說位于過濾介質(zhì)16的下游側(cè)上。
[0031 ] 在未示出的實施例中，其中，過濾筒或者說設(shè)備具有如圖1至3所示大體上相同的結(jié)構(gòu)，設(shè)有用于使氣流進入過濾筒4中的器件。例如額外的進氣管道可以通向排氣通道6。排氣部15可以設(shè)有閥門，所述閥門在沉積工作期間打開。如果關(guān)閉所述閥門，氣體向排氣通道16的輸入導(dǎo)致過濾筒4內(nèi)部的過壓。這導(dǎo)致過濾介質(zhì)16沿向外方向上的彈性變形。通過所述變形可以使聚集在過濾介質(zhì)16的外側(cè)上的密集體掉落。隨著壓力輸入形成沿相反方向、也即由內(nèi)向外穿過過濾介質(zhì)16的氣流。
[0032]利用額外的通向例如排氣通道16或直接通向過濾筒4的輸入管道，除了逆著正常的氣流方向的氣流之外還可以形成在筒內(nèi)部的壓力沖擊。通過所述壓力沖擊使過濾材料膨脹。這一彈性變形導(dǎo)致密集體從過濾介質(zhì)16的表面掉落。
[0033]壓力沖擊還可以通過活塞氣缸單元形成。例如活塞氣缸單元可以與排氣通道6相連。氣缸向著排氣通道6開放。當(dāng)活塞在氣缸內(nèi)部移動時，根據(jù)移動方向的不同而使氣體進入排氣通道6中或使氣體離開排氣通道6。相對迅速的移動導(dǎo)致壓力沖擊。活塞的擺動導(dǎo)致對過濾材料的機械式激發(fā)，從而使過濾材料彈性變形。還可以設(shè)計周期式激發(fā)，利用所述周期式激發(fā)使得過濾介質(zhì)16產(chǎn)生擺動。也可以考慮在過濾介質(zhì)上的其他耦聯(lián)，過濾介質(zhì)利用所述耦聯(lián)產(chǎn)生擺動。
[0034]圖4至7示出顆粒過濾器的第二實施例。外部的由不銹鋼制成的殼體具有外壁25、可從外壁25上取下的蓋子26和底部區(qū)段，所述底部區(qū)段具有排氣部15。在蓋子26上安裝有構(gòu)成冷卻器2的殼體區(qū)段，氣體管道12從CVD反應(yīng)器通入所述冷卻器。
[0035]借助兩個在直徑上對置布置的固定夾33將顆粒過濾器的殼體固定在固持裝置32的支承件35上。固定夾33通過彈性的橡膠緩沖件34與支承件35相連。支承件35位于支承柱36上。橡膠緩沖件34能夠緩沖顆粒分離器殼體3的豎向運動。
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