1的接觸面積小于第三表面213的面積。又由于第三表面213與框架區(qū)域200的蒸鍍基板11的第二表面112接觸，即本發(fā)明實(shí)施例中，移動(dòng)桿22與支撐板21的第四表面的接觸面積小于第三表面213與框架區(qū)域200的蒸鍍基板11的第二表面112的接觸面積。則由于支撐板21與蒸鍍基板11的接觸面積較大，則蒸鍍基板11受到的移動(dòng)桿22的支撐力比較均勻，從而改善現(xiàn)有的“點(diǎn)燈”缺陷的問題。
[0039]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍系統(tǒng)，在蒸鍍機(jī)構(gòu)中蓋板和蒸鍍基板黏著在一起，蒸鍍完成后需要將蓋板和蒸鍍基板分離。本發(fā)明實(shí)施例中的蓋板形成為一個(gè)包圍的框架區(qū)域，分離機(jī)構(gòu)的支撐板與該框架區(qū)域的蒸鍍基板接觸使得蒸鍍基板向框架區(qū)域的上方移動(dòng)從而與蓋板分離，由于本發(fā)明實(shí)施例中支撐板與蒸鍍基板的接觸方式為面接觸，從而避免蒸鍍基板因受力不均導(dǎo)致的“點(diǎn)燈”缺陷等問題。
[0040]考慮到較大尺寸的蒸鍍基板，若和圖2所示的蓋板黏著時(shí)，中間區(qū)域由于重力會(huì)下沉，導(dǎo)致蒸鍍薄膜厚度不均勻。
[0041]本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選的，如圖4所示，蓋板13還包括:位于框架區(qū)域200的至少一個(gè)連接桿132，連接桿132與邊框131連接、將框架區(qū)域200劃分為至少兩個(gè)框架子區(qū)域201。圖4中以蓋板13包括兩個(gè)連接桿132，且兩個(gè)連接桿132將圖2所示的框架區(qū)域200劃分為三個(gè)框架子區(qū)域201為例。
[0042]當(dāng)然，連接桿132的設(shè)置位置和方式也不局限于圖4所示的方式，還可以是如圖5所示，連接桿132位于框架區(qū)域200的對(duì)角線位置處，將框架區(qū)域200劃分為兩個(gè)框架子區(qū)域201。
[0043]優(yōu)選的，至少兩個(gè)框架子區(qū)域的面積相等?？梢允侨鐖D4所示，兩個(gè)連接桿132將框架區(qū)域200劃分為三個(gè)面積相等的框架子區(qū)域201。從而使得蓋板13對(duì)蒸鍍基板11支撐力分散均勻，提高蒸鍍薄膜的厚度一致性。
[0044]如圖6所示，分離機(jī)構(gòu)包括與框架子區(qū)域201--對(duì)應(yīng)的支撐板21，支撐板21的第三表面213與對(duì)應(yīng)的框架子區(qū)域201的蒸鍍基板11的第二表面112接觸。如圖6所示，三個(gè)框架子區(qū)域201分別對(duì)應(yīng)一個(gè)支撐板21，此時(shí)，一個(gè)支撐板21與一個(gè)移動(dòng)桿22連接。
[0045]即連接桿132將框架區(qū)域200劃分為三個(gè)框架子區(qū)域201，相應(yīng)的，分離機(jī)構(gòu)在對(duì)應(yīng)每個(gè)框架子區(qū)域201分別設(shè)置一個(gè)支撐板21，每個(gè)支撐板21與一個(gè)移動(dòng)桿22連接，以使得在每個(gè)框架子區(qū)域201的蒸鍍基板11均可以通過一個(gè)支撐板21與蓋板13分離。
[0046]支撐板與蒸鍍基板的接觸面積在小于框架子區(qū)域面積的情況下盡量大，以進(jìn)一步增大支撐板與蒸鍍基板的接觸面積。優(yōu)選的，支撐板21的第三表面213的面積大于框架子區(qū)域201面積的二分之一。
[0047]需要說明的是，如圖4、圖6所示，支撐板21的第三表面213和第四表面214的面積相等。當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例中的支撐板21還可以是如圖7所示，第三表面213和第四表面214的面積可以不相等。且本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選使得支撐板21與蒸鍍基板11的接觸面積盡量大，則支撐板21的第三表面213的面積大于等于第四表面214的面積。
[0048]優(yōu)選的，蒸鍍基板用于形成顯示面板的母板，蒸鍍基板劃分有多個(gè)顯示面板單元，框架子區(qū)域與顯示面板單元一一對(duì)應(yīng)。由于在連接桿213的位置處，支撐板21不能與蒸鍍基板11接觸，則對(duì)應(yīng)連接桿位置處的蒸鍍基板與框架區(qū)域的蒸鍍基板受力不同。若框架子區(qū)域與顯示面板單元一一對(duì)應(yīng)，則每個(gè)顯示面板單元的受力均勻，避免顯示面板單元出現(xiàn)顯示問題。
[0049]優(yōu)選的，蒸鍍系統(tǒng)還包括:冷卻器件;冷卻器件用于降低蒸鍍基板的溫度。由于蒸鍍過程是將蒸鍍的材料等離子化后噴涂在蒸鍍基板上，因此形成的蒸鍍薄膜的溫度較高，比較容易變形。冷卻期間將蒸鍍基板的溫度降低后，蒸鍍基本上的薄膜的溫度隨之降低，而薄膜冷卻后不易發(fā)生變形。
[0050]優(yōu)選的，如圖8所示，冷卻器件包括冷卻管23，氣體和/或液體可在冷卻管23內(nèi)流動(dòng)，冷卻管23設(shè)置在支撐板21未與蒸鍍基板接觸的表面上。優(yōu)選的，如圖7所示，冷卻管23設(shè)置在支撐板21的第四表面214上。即通過冷卻管內(nèi)低溫氣體和/或液體的流動(dòng)降低支撐板的溫度，從而支撐板與蒸鍍基板接觸后，降低蒸鍍基板的溫度。
[0051]優(yōu)選的，如圖8所示，冷卻管23在支撐板21的表面上彎折排布。冷卻管23彎折排布能進(jìn)一步增大冷卻管23與支撐板21的接觸面積，從而更加迅速的降低支撐板21的溫度。
[0052]優(yōu)選的，支撐板為金屬板。相對(duì)于塑料等材料的導(dǎo)熱性能，金屬的導(dǎo)熱性更快，從而更有利于能量的傳遞和平衡，從而更加迅速的降低支撐板的溫度。
[0053]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，包括:蒸鍍機(jī)構(gòu)以及分離機(jī)構(gòu)，其中， 所述蒸鍍機(jī)構(gòu)用于在蒸鍍基板的第一表面蒸鍍薄膜，包括蒸鍍?cè)匆约耙来挝挥谒稣翦冊(cè)凑翦兎较騻?cè)的蒸鍍基板和蓋板;所述蓋板包括:邊框，所述邊框形成一個(gè)包圍的框架區(qū)域，所述邊框和所述蒸鍍基板的接觸表面形成有黏著部，所述蒸鍍基板與所述蓋板黏著在一起； 所述分離機(jī)構(gòu)用于在薄膜蒸鍍完成后將所述蒸鍍基板與所述蓋板分離，包括:至少一個(gè)支撐板和與所述支撐板連接的至少一個(gè)移動(dòng)桿，所述支撐板包括相對(duì)的第三表面和第四表面，所述支撐板的第三表面與所述框架區(qū)域的蒸鍍基板的第二表面接觸，其中，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)； 所述移動(dòng)桿與所述支撐板的第四表面連接，用于帶動(dòng)所述支撐板在所述框架區(qū)域上下方向移動(dòng)，且所述第三表面的面積大于所述移動(dòng)桿和所述支撐板的接觸面積。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述蓋板還包括:位于所述框架區(qū)域的至少一個(gè)連接桿，所述連接桿與所述邊框連接、將所述框架區(qū)域劃分為至少兩個(gè)框架子區(qū)域； 所述分離機(jī)構(gòu)包括與所述框架子區(qū)域一一對(duì)應(yīng)的支撐板，所述支撐板的第三表面與對(duì)應(yīng)的框架子區(qū)域的蒸鍍基板的第二表面接觸。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述至少兩個(gè)框架子區(qū)域的面積相等。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐板的第三表面的面積大于所述框架子區(qū)域面積的二分之一。5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸鍍基板用于形成顯示面板的母板，所述蒸鍍基板劃分有多個(gè)顯示面板單元，所述框架子區(qū)域與所述顯示面板單元一一對(duì)應(yīng)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸鍍系統(tǒng)還包括:冷卻器件;所述冷卻器件用于降低所述蒸鍍基板的溫度。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述冷卻器件包括冷卻管，氣體和/或液體可在所述冷卻管內(nèi)流動(dòng)，所述冷卻管設(shè)置在所述支撐板未與所述蒸鍍基板接觸的表面上。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述冷卻管設(shè)置在所述支撐板的第四表面上。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述冷卻管在所述支撐板的表面上彎折排布。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐板為金屬板。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種蒸鍍系統(tǒng)，涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中將蒸鍍基板與蓋板分離，出現(xiàn)的基板點(diǎn)燈缺陷等問題。一種蒸鍍系統(tǒng)，蒸鍍機(jī)構(gòu)包括蒸鍍?cè)匆约耙来挝挥谡翦冊(cè)凑翦兎较騻?cè)的蒸鍍基板和蓋板；蓋板包括：邊框，邊框形成一個(gè)包圍的框架區(qū)域，邊框和蒸鍍基板的接觸表面形成有黏著部，蒸鍍基板與蓋板黏著在一起；分離機(jī)構(gòu)包括：至少一個(gè)支撐板和與支撐板連接的至少一個(gè)移動(dòng)桿，支撐板包括相對(duì)的第三表面和第四表面，支撐板的第三表面與框架區(qū)域的蒸鍍基板的第二表面接觸，其中，第二表面與第一表面相對(duì)；移動(dòng)桿與支撐板的第四表面連接，用于帶動(dòng)支撐板在框架區(qū)域上下方向移動(dòng)，且第三表面的面積大于移動(dòng)桿和支撐板的接觸面積。
【IPC分類】C23C14/24, C23C14/56
【公開號(hào)】CN105543784
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610006738
【發(fā)明人】胡長(zhǎng)奇, 郭書鵬, 鄒清華, 卜斌
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請(qǐng)日】2016年1月4日