技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種制備石墨/碳化硅致密復(fù)合材料的方法，在石墨件表面沉積碳化硅之前，先在石墨件表面涂刷一層碳化硅顆粒層作為過渡層，再CVD沉積碳化硅涂層。本發(fā)明通過在石墨件表面涂刷一層碳化硅顆粒作為過渡層，再CVD沉積碳化硅涂層，因為碳化硅顆粒過渡層存在小的孔洞，其表面上沉積的碳化硅滲透進入孔洞，使得涂層與基體結(jié)合更為緊密；同時，本發(fā)明的方法周期短、電耗低，有效解決石墨件的純度和涂層結(jié)合力問題，防止給后續(xù)工段引入雜質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員：張春偉;田新;于偉華;蔣立民;朱建中
受保護的技術(shù)使用者：江蘇協(xié)鑫特種材料科技有限公司
文檔號碼：201610803513
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.05
技術(shù)公布日：2017.02.22