1.一種金色膜，所述金色膜包括用蒸發(fā)鍍膜法設(shè)置在透明基底(1)上的金屬層(2)和先后設(shè)置在金屬層兩側(cè)的第一鈦氧化物層(3)和第二鈦氧化物層(4)，其中第一鈦氧化物層更靠近透明基底，所述金色膜還包括設(shè)置在第一鈦氧化物層和/或第二鈦氧化物層另一側(cè)的氧化硅層(5)，所述金屬層中鍍設(shè)的金屬為選自銦、錫、鉻、銅和鈦中的一種或多種，所述金屬層的厚度為10～90nm，所述第一鈦氧化物層的厚度為0.5～50nm，第二鈦氧化物層的厚度為5～50nm，所述氧化硅層的厚度為1～100nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述金色膜，其特征在于，所述金屬層的厚度為40～80nm，所述第一鈦氧化物層的厚度為20～40nm，第二鈦氧化物層的厚度為10～35nm，所述氧化硅層的厚度為10～30nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述金色膜，其特征在于，所述鈦氧化物為二氧化鈦和/或五氧化三鈦，所述透明基底為玻璃或PET。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述金色膜，其特征在于，所述金屬膜上最遠(yuǎn)離透明基底的鍍膜層的外側(cè)還設(shè)置有油墨層(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述金色膜，其特征在于，所述第一鈦氧化物層和透明基底間設(shè)置有氧化硅層，使得所述金色膜包括依次設(shè)置在透明基底(1)上的氧化硅層(5)、第一鈦氧化物層(3)、金屬層(2)和第二鈦氧化物層(4)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述金色膜，其特征在于，所述金屬層中鍍設(shè)的金屬為銦。