本實(shí)用新型屬于光伏設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種新型硅晶爐加熱器裝置。

背景技術(shù)：

硅晶爐內(nèi)的加熱單元是硅晶爐的主要部件，目前硅單元的加熱爐主要是使用加熱線(xiàn)圈環(huán)繞加熱爐形成環(huán)形熱場(chǎng)，環(huán)形熱場(chǎng)的熱場(chǎng)溫度均勻，具有易于使用，便于控制的優(yōu)點(diǎn)，但是加熱線(xiàn)圈無(wú)法針對(duì)某個(gè)部位進(jìn)行加熱，只可均勻加熱，因此無(wú)法自主調(diào)控?zé)釄?chǎng)，造成諸多不便。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于多角度針對(duì)性加熱，提供了一種新型硅晶爐加熱器裝置，其實(shí)現(xiàn)了多角度針對(duì)性增溫，具有良好的調(diào)控能力。

本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：提供了一種新型硅晶爐加熱器裝置，其包括第一U型臂和第二U型臂，第二U型臂的中心點(diǎn)樞接在第一U型臂的中心處，第二U型臂可沿著樞接點(diǎn)自轉(zhuǎn)，在第一U型臂和第二U型臂的內(nèi)壁上都設(shè)有多個(gè)側(cè)壁加熱電極，在第二的中心點(diǎn)出設(shè)有底壁加熱電極。

進(jìn)一步的，所述的第二U型臂的寬度小于第一U型臂的寬度。

進(jìn)一步的，所述的第一U型臂和第二U型臂都有底臂和沿著底壁的兩端向上延伸的側(cè)臂組成，所述的第一U型臂和第二U型臂的側(cè)壁的內(nèi)表面各設(shè)有三個(gè)加熱電極。

進(jìn)一步的，還包括加熱圈，所述的加熱圈固定在第一U型臂的開(kāi)口內(nèi)，所述的第二U型壁位于加熱圈內(nèi)。

進(jìn)一步的，所述的加熱圈的內(nèi)表面均勻設(shè)置有多個(gè)加熱電極。

本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言具有的優(yōu)點(diǎn)在于：

自動(dòng)調(diào)控?zé)釄?chǎng)，配合溫度檢測(cè)系統(tǒng)，可以針對(duì)某處進(jìn)行重點(diǎn)加熱，可以加配驅(qū)動(dòng)電機(jī)及其陀螺儀，保證旋角精度。

雙U型臂可以達(dá)到任何所需求角度，U型臂剛好包裹坩堝，實(shí)現(xiàn)均溫加熱。

還設(shè)有加熱圈，實(shí)現(xiàn)均勻熱場(chǎng)，使用過(guò)程中雙U型臂始終旋轉(zhuǎn)當(dāng)出現(xiàn)硅料難融等情況時(shí)，可以針對(duì)某處重點(diǎn)增溫。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型俯視雙臂具有擺角結(jié)構(gòu)圖；

圖2為本實(shí)用新型雙臂正交結(jié)構(gòu)圖；

圖3為本實(shí)用新型側(cè)視圖；

圖4為圖3中A處放大圖；

附圖標(biāo)記：第一U型臂1、第二U型臂2、加熱圈3、側(cè)壁加熱電極a、底壁加熱電極1a。

具體實(shí)施方式

以下根據(jù)附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明：

如圖1,圖2所示，一種新型硅晶爐加熱器裝置，其包括第一U型臂1和第二U型臂2，所述的第二U型臂的寬度小于第一U型臂的寬度，還設(shè)有加熱圈3，所述的加熱圈固定在第一U型臂的開(kāi)口內(nèi)，所述的第二U型壁位于加熱圈內(nèi)，所述的加熱圈的內(nèi)表面均勻設(shè)置有多個(gè)加熱電極，第二U型臂的中心點(diǎn)樞接在第一U型臂的中心處，第一U型臂和第二U型臂通過(guò)樞軸相連接，二者相對(duì)自轉(zhuǎn)，第二U型臂可沿著樞接點(diǎn)自轉(zhuǎn)，第二U型臂的最大旋轉(zhuǎn)角度為90度，在第一U型臂和第二U型臂的內(nèi)壁上都設(shè)有多個(gè)側(cè)壁加熱電極a，在第二的中心點(diǎn)出設(shè)有底壁加熱電極1a。

所述的第一U型臂和第二U型臂為U形，第一U型臂和第二U型臂都由底臂和沿著底壁的兩端向上延伸的側(cè)臂組成，所述的第一U型臂和第二U型臂的側(cè)壁的內(nèi)表面各設(shè)有三個(gè)加熱電極。

在第一U型臂下設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，驅(qū)動(dòng)電機(jī)與樞軸相連接，位于加熱爐內(nèi)設(shè)有卡具，當(dāng)卡緊某一U形臂后另一個(gè)U型臂既可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)。