1.納米氧化鋅連續(xù)式制備裝置，其特征在于：包括納米氧化鋅晶體生長(zhǎng)襯底制作槽(1)、噴霧裝置(2)、機(jī)械手(3)、氣動(dòng)爪(4)、納米氧化鋅高壓反應(yīng)釜(5)、馬弗爐(6)和自動(dòng)控制器(7)，所述噴霧裝置(2)通過(guò)支架固定安裝在納米氧化鋅晶體生長(zhǎng)襯底制作槽(1)的頂部，所述機(jī)械手(3)設(shè)置在納米氧化鋅晶體生長(zhǎng)襯底制作槽(1)一側(cè)，且機(jī)械手(3)的活動(dòng)范圍覆蓋納米氧化鋅晶體生長(zhǎng)襯底制作槽(1)，所述納米氧化鋅高壓反應(yīng)釜(5)設(shè)有A電動(dòng)蓋(5-1)，所述馬弗爐(6)設(shè)有B電動(dòng)蓋(6-1)，所述納米氧化鋅高壓反應(yīng)釜(5)和馬弗爐(6)分別設(shè)置在機(jī)械手(3)的兩側(cè)，且位于機(jī)械手(3)的活動(dòng)臂的活動(dòng)范圍內(nèi)，所述自動(dòng)控制器(7)分別與噴霧裝置(2)、A電動(dòng)蓋(5-1)、B電動(dòng)蓋(6-1)、機(jī)械手(3)和氣動(dòng)爪(4)的執(zhí)行器控制相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述納米氧化鋅連續(xù)式制備裝置，其特征在于：還有一組溫度傳感器(8)，所述一組溫度傳感器(8)分別監(jiān)測(cè)米氧化鋅晶體生長(zhǎng)襯底制作槽(1)、納米氧化鋅高壓反應(yīng)釜(5)和馬弗爐(6)的溫度，并與自動(dòng)控制器(7)通信相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述納米氧化鋅連續(xù)式制備裝置，其特征在于：所述自動(dòng)控制器(7)是基于PLC的自動(dòng)控制器，所述自動(dòng)控制器(7)上設(shè)有計(jì)時(shí)單元、機(jī)械手控制單元和測(cè)溫單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述納米氧化鋅連續(xù)式制備裝置，其特征在于：所述機(jī)械手(3)是五軸伺服機(jī)械手。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述納米氧化鋅連續(xù)式制備裝置，其特征在于：還有監(jiān)控?cái)z像頭(9)，所述監(jiān)控?cái)z像頭(9)監(jiān)測(cè)納米氧化鋅各生產(chǎn)設(shè)備的工作情況。