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一種制備含Cr的晶粒均勻的超細(xì)WC粉的方法與流程

文檔序號:40546459發(fā)布日期:2025-01-03 11:05閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,包括以下步驟:將bet粒度為80-150nm的超細(xì)氧化鉻與部分氧化鎢進(jìn)行預(yù)混合,然后加入剩余氧化鎢進(jìn)行擴(kuò)散混合,實(shí)現(xiàn)固-固混合摻雜,最后經(jīng)過氫氣還原、鎢粉混合、配炭、碳化、冷卻、破碎過篩后得到含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,所述超細(xì)氧化鉻的制備方法如下:將鉻酐破碎至直徑≤0.8um后,在700-900℃溫度下,通入壓力≥5000pa、流量2-8m3/h的壓縮空氣,煅燒2-5h,制備得到bet粒度為80-150nm的超細(xì)氧化鉻。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,破碎過程為將鉻酐采用球料比10:1的配比在球磨機(jī)內(nèi)破碎。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,所述超細(xì)氧化鉻的松裝密度為40-80g/l。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,預(yù)混合時超細(xì)氧化鉻與氧化鎢的質(zhì)量比為1:10-1:20,混合30-60min。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,擴(kuò)散混合時,已摻雜混合完全的超細(xì)氧化鉻與氧化鎢的混合物與剩余氧化鎢的質(zhì)量比為1:30-1:10,混合1-3h。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,氫氣還原過程中還原溫度為600-900℃,還原時間4-9h,還原后得到鎢粉和cr2o3粉末的混合物;氫氣還原后得到鎢粉的bet粒度為40-250nm,將氫氣還原后得到鎢粉和cr2o3粉末的混合物繼續(xù)混合0.5-1h。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,所述氧化鎢選自黃色氧化鎢wo3、藍(lán)色氧化鎢wo2.9或紫色氧化鎢wo2.72中的一種或多種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,所述氧化鎢的fsss粒度為9-13um,所述氧化鎢中大于120目的質(zhì)量含量為小于0.5%,200目至325目的質(zhì)量含量為45-65%。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備含cr的晶粒均勻的超細(xì)wc粉的方法,其特征在于,所述配炭是將經(jīng)過混合后得到的鎢粉和cr2o3粉末的混合物與碳黑進(jìn)行混合;所述碳化是將配炭混合后粉末裝入石墨舟皿,在碳化爐中進(jìn)行碳化,碳化氣氛為非氧化性氣氛,碳化溫度為1200-1600℃,碳化時間為1-3h;所述冷卻為碳化完成后保持非氧化性氣氛條件下自然冷卻;所述破碎為將碳化冷卻后的物料進(jìn)行氣流破碎,破碎壓力6.5-9.0kpa,分級輪轉(zhuǎn)速3000-5000r/min,將塊狀物料氣流破碎,破碎好的物料經(jīng)過細(xì)篩網(wǎng),以除去雜質(zhì)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種制備含Cr的晶粒均勻的超細(xì)WC粉的方法,通過制備BET粒度為80?150nm的超細(xì)氧化鉻,在氧化鎢中采用超細(xì)氧化鉻,兩次固?固混合的方式摻雜鉻,經(jīng)過還原、鎢粉混合均勻、碳化和氣流破碎制備成WC?Cr<subgt;3</subgt;C<subgt;2</subgt;粉末,Cr<subgt;3</subgt;C<subgt;2</subgt;粉末的粒度細(xì),而且在碳化鎢中分布均勻。采用本發(fā)明制備的WC?Cr<subgt;3</subgt;C<subgt;2</subgt;粉末制備成超細(xì)硬質(zhì)合金,Cr<subgt;3</subgt;C<subgt;2</subgt;在合金中分布均勻,無偏析或聚集,能有效地抑制WC晶粒在燒結(jié)過程中的異常晶粒長大,明顯降低合金的晶粒度。

技術(shù)研發(fā)人員:肖成林,陸必志,何新陽
受保護(hù)的技術(shù)使用者:株洲硬質(zhì)合金集團(tuán)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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