液濃度是5.75MHF和1.54MHN〇3。
[0031] 獲得兩個50mmX50mmEagleXG?玻璃試樣片，并測量它們的厚度。這次在40kHz的 超聲攪拌下，將試樣片同時在溶液中蝕刻約5分鐘。在DIW中充分淋洗蝕刻的樣品，干燥，并 再次測量它們的厚度。蝕刻速率是5.7μπι/分鐘，這通過除去的材料的量與在蝕刻溶液中的 停留時間的比例來測定。
[0032] 比較例3:40°C下不含Η3Ρ〇4但有超聲的HF+HN03溶液
[0033] 通過首先向2000ml的燒杯添加700ml去離子水(DIW)，來在該2000ml燒杯中制備包 含20體積％HF和10體積％HN〇3的一千毫升（1000ml)溶液。將約100ml的63 %母液HN〇3溶液添 加到DIW，然后添加約200ml的49體積％HF母液溶液。使最終溶液在加熱的水浴中靜置，直到 蝕刻溶液溫度穩(wěn)定在40±2°C。這樣制備的溶液濃度是5.75MHF和1.54MHN〇3。
[0034] 獲得兩個50mmX50mmEagleXG.玻璃試樣片，并測量它們的厚度。使用40kHz的超 聲攪拌，將試樣片同時在穩(wěn)定為約40°C的溶液中蝕刻約5分鐘。在DIW中充分淋洗蝕刻的樣 品，干燥，并再次測量它們的厚度。蝕刻速率是8.lMi/分鐘，這通過除去的材料的量與在蝕 刻溶液中的停留時間的比例來測定。
[0035] 批露的實施例1:25°C下含20%H3P〇4且沒有超聲的HF+HN03溶液
[0036] 通過首先向2000ml的燒杯添加500ml去離子水(DIW)，來在該2000ml燒杯中制備包 含20體積％HF和10體積％HN〇3的一千毫升（1000ml)溶液。將約100ml的63 %母液HN〇3溶液添 加到DIW，然后添加約200ml的85 %母液H3P〇4溶液。最后，添加200ml的49 %母液HF溶液來獲 得最終混合物，其由20體積％ : 10體積％ : 20體積％的冊:HN〇3:H3P〇4組成。使最終溶液在水 浴中靜置，直到其冷卻且溫度是約25 ± 2°C。這樣制備的溶液濃度是5.75MHF、1.54MHN〇3 和2.92MH3PO4。
[0037] 獲得兩個50mmx50mmEagle 玻璃試樣片，并測量它們的厚度。在不使用超聲 攪拌的情況下，將試樣片同時在溶液中蝕刻約5分鐘。在DIW中充分淋洗蝕刻的樣品，干燥， 并再次測量它們的厚度。蝕刻速率是6.7μπι/分鐘，這通過除去的材料的量與在蝕刻溶液中 的停留時間的比例來測定。
[0038]批露的實施例2:40°C下含40%Η3Ρ〇4且沒有超聲的HF+HN03溶液[0039] 通過首先在2000ml的燒杯中添加300ml去離子水(DIW)，來在該2000ml燒杯中制備 包含20體積％HF和10體積％HN〇3的一千毫升（1000ml)溶液。將約100ml的63 %母液HN〇3溶液 添加到DIW，然后添加約400ml的85 %母液H3P〇4溶液。最后，添加200ml的49 %母液HF溶液來 獲得最終混合物，其由20體積％ : 10體積％ : 40體積％的冊:HN〇3:H3P〇4組成。使最終溶液在 水浴中靜置，直到其冷卻且溫度是約25±2°C。這樣制備的溶液濃度是5.75MHF和1.54M HN〇3和5.85MH3P〇4。
[0040] 獲得兩個50mmx50mmEagleXG?:玻璃試樣片，并測量它們的厚度。在不使用超聲 攪拌的情況下，將試樣片同時在溶液中蝕刻約5分鐘。在DIW中充分淋洗蝕刻的樣品，干燥， 并再次測量它們的厚度。蝕刻速率是8.lwn/分鐘，這通過除去的材料的量與在蝕刻溶液中 的停留時間的比例來測定。
[0041]應(yīng)注意，以下權(quán)利要求書中的一項或多項權(quán)利要求使用術(shù)語"其特征在于"作為過 渡語。出于限定本發(fā)明的技術(shù)目的，應(yīng)當(dāng)指出，在權(quán)利要求中用該術(shù)語作為開放式過渡短語 來引出對一系列結(jié)構(gòu)特征的描述，應(yīng)當(dāng)對其作出與更常用的開放式引導(dǎo)語"包含"類似的解 釋。
[0042]應(yīng)理解，指派給性質(zhì)的任何兩個定量的數(shù)值可構(gòu)造該性質(zhì)的范圍，且本文設(shè)想了 給定性質(zhì)的由全部所述定量數(shù)值形成的范圍的全部組合。
[0043]在結(jié)合【具體實施方式】詳細描述了本發(fā)明的主題之后，應(yīng)當(dāng)指出，本文披露的各種 細節(jié)，甚至在各實施方式中顯示了特定元件的情況下，不應(yīng)理解為暗示著這些細節(jié)涉及屬 于本文所述各種實施方式的實質(zhì)性組成的要素。相反，本文所附權(quán)利要求書應(yīng)理解為唯一 表達了本發(fā)明的廣度和本文所述各項實施方式的相應(yīng)范圍。此外，在不背離所附權(quán)利要求 書的范圍的前提下，顯然可以作出各種改變和變化。
【主權(quán)項】
1. 一種蝕刻玻璃材料的方法，該方法包括： 提供蝕刻劑，該蝕刻劑包含10-30體積％HF、5-15體積％HN〇3，和至少10體積％H3P〇4，且 其中HF:HN〇3的體積比例是1.7:1到2.3:1; 提供待蝕刻的玻璃材料;和 使該玻璃材料接觸該蝕刻劑。2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以下步驟:將蝕刻劑的溫度 控制到20-30°C的溫度。3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述提供待蝕刻的玻璃材料的步驟包含 提供待蝕刻的鋁硅酸鹽玻璃材料。4. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法，其特征在于，所述提供蝕刻劑的步驟包含提供 蝕刻劑，其中HF:HN〇3的體積比例是1.8:1到2.2:1。5. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供蝕刻 劑，其中HF:HN〇3的體積比例是1.9:1到2.1:1。6. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供蝕刻 劑，其中HF:HN〇3的體積比例是1.95:1到2.05:1。7. 如權(quán)利要求1-6中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供包含 至少20體積％H3P〇4的蝕刻劑。8. 如權(quán)利要求1-6中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供包含 至少40體積％H3P〇4的蝕刻劑。9. 如權(quán)利要求1-8中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供包含 15-25體積％HF和7.5-12.5體積％HN〇3的蝕刻劑。10. 如權(quán)利要求1-8中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供包 含19-21體積％HF和9.5-10.5體積％HN〇3的蝕刻劑。11. 如權(quán)利要求1-10中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供蝕 刻劑，該蝕刻劑只包含3種酸組分:HF、HN〇3和H3P〇4。12. 如權(quán)利要求1-11中任一項所述的方法，其特征在于，提供蝕刻劑的步驟包含提供蝕 刻劑，該蝕刻劑只包含水和以下3種酸組分:HF、HN〇3和H3P〇4。13. 如權(quán)利要求1-12中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包含以下步驟:將 蝕刻劑的溫度控制到22-28°C內(nèi)的溫度。14. 如權(quán)利要求1-13中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包含以下步驟:對 蝕刻劑施加超聲。15. 如權(quán)利要求1-14中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包含以下步驟:對 待蝕刻的玻璃材料施加超聲。
【專利摘要】一種蝕刻玻璃材料的方法，該方法包含提供蝕刻劑，該蝕刻劑包含10-30體積％HF、5-15體積％HNO3,和至少10體積％H3PO4，構(gòu)成該蝕刻劑從而HF:HNO3的體積比例是1.7:1到2.3:1,提供待蝕刻的玻璃材料,和使該玻璃材料接觸所述蝕刻劑。理想地，該蝕刻劑不具有其它酸組分。該方法可在20-30℃的蝕刻劑溫度下實施。玻璃材料可為鋁硅酸鹽玻璃。可將超聲能量施加到蝕刻劑、玻璃材料或兩者。
【IPC分類】C03C15/00
【公開號】CN105473522
【申請?zhí)枴緾N201480046056
【發(fā)明人】R·C·伯克特, B·Y·約翰遜, S·O·澳烏蘇, T·L·佩特里司凱
【申請人】康寧股份有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2014年6月20日
【公告號】US20160145149, WO2014205301A2, WO2014205301A3