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聚合物網(wǎng)絡的制作方法

文檔序號:11284669閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結(jié)
本發(fā)明提供用于形成空穴傳輸或發(fā)光聚合物網(wǎng)絡的可光聚合或可光交聯(lián)的反應性液晶基元,所述液晶基元具有結(jié)構(III),其中M是發(fā)色團的芳族或雜環(huán)的部分;A1和A2是在咔唑環(huán)的3位中被取代的咔唑基團,并且可以是相同的或不同的;S1和S2是間隔基,并且可以是相同的或不同的;B1和B2是可聚合的基團,并且可以是相同的或不同的;且m和n獨立地是從1至10的整數(shù)。本發(fā)明還提供用于形成發(fā)光或電荷傳輸聚合物網(wǎng)絡的包括可光聚合或可光交聯(lián)的反應性液晶基元的材料;通過液晶基元的聚合或交聯(lián)獲得的電荷傳輸或發(fā)光聚合物網(wǎng)絡;用于經(jīng)由液晶基元的合適端基的光聚合或光交聯(lián)制備聚合物的工藝;包括由電荷傳輸或發(fā)光聚合物網(wǎng)絡形成的聚合物層的裝置;用于將電荷傳輸或發(fā)光聚合物網(wǎng)絡應用至表面的工藝;以及包含電荷傳輸或發(fā)光聚合物網(wǎng)絡的背光源或顯示器。(B1?S1?A1)n?M?(A2?S2?B2)m(III)。

技術研發(fā)人員:斯蒂芬·馬爾科姆·凱利;瑪麗·奧尼爾;斯圖爾特·保羅·基特尼
受保護的技術使用者:赫爾大學
技術研發(fā)日:2016.04.14
技術公布日:2017.09.26
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