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一種增透與抗原子氧剝蝕的聚合物復合薄膜及其制備方法與流程

文檔序號:11271358閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明公開了一種增透與抗原子氧剝蝕的聚合物復合薄膜,所述聚合物復合薄膜包括聚合物薄膜層和鑲嵌有空心SiO2納米粒子的有機無機復合層,通過在所述聚合物薄膜層的至少一面均勻鑲嵌空心SiO2納米粒子,在聚合物薄膜層表面形成所述鑲嵌有空心SiO2納米粒子的有機無機復合層。還公開了所述聚合物復合薄膜的制備方法,包括:依次在剛性基材上制備空心SiO2納米粒子層和聚合物薄膜層,固化后剝離剛性基材,得到單面鑲嵌空心SiO2納米粒子的聚合物復合薄膜,在單面鑲嵌空心SiO2納米粒子的聚合物復合薄膜的基礎上可進一步制備雙面鑲嵌空心SiO2納米粒子的聚合物復合薄膜。所得聚合物復合薄膜能同時實現(xiàn)增透與抗原子氧剝蝕的性能,制備操作簡單。

技術研發(fā)人員:宋偉杰;張景;張賢鵬;魯越暉;艾玲;李嘯
受保護的技術使用者:中國科學院寧波材料技術與工程研究所
技術研發(fā)日:2017.04.24
技術公布日:2017.09.26
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