，然后向該體系中加入2.4 mmol三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯，1.2 gKH570修飾的三氧化二鐵納米花，超聲10 min，加入偶氮二異丁腈，通入氮氣除氧后，密封，于65 °C下反應21 h。反應結(jié)束后，將表面印跡的納米花用丙酮、甲苯洗滌，然后用甲醇-乙酸溶液洗脫除去模板分子雷公藤甲素，再用乙醇沖洗印跡納米花，然后真空干燥得到三氧化二鐵納米花表面雷公藤甲素分子印跡聚合物，所得聚合物中具有特有的孔穴，該聚合物能夠選擇性吸附雷公藤甲素。
[0050]實施例10三氧化二鐵納米花材料表面雷公藤紅素分子印跡聚合物的制備實例
[1]三氧化二鐵納米花的合成:同實施例9(I)。
[0051](2)三氧化二鐵納米花的修飾:同實施例9(2)。
[0052](3)三氧化二鐵納米花表面雷公藤紅素分子印跡聚合物的制備
將0.1 mmol雷公藤紅素,0.6 mmol 4-乙烯基卩比唳加入到20 mL乙酸乙酯中，攪拌20min，然后室溫下靜置12 h，讓功能單體4-乙烯基吡啶與模板分子雷公藤紅素形成超分子復合物，然后向該體系中加入2.4 mmol三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯，1.2 g KH570修飾的三氧化二鐵納米花，超聲10 min，加入偶氮二異丁腈，通入氮氣除氧后，密封，于60 °C下反應25 h。反應結(jié)束后，將表面印跡的納米花用丙酮、甲苯洗滌，然后用甲醇-乙酸溶液洗脫除去模板分子雷公藤紅素，再用乙醇沖洗印跡納米花，然后真空干燥得到三氧化二鐵納米花表面雷公藤紅素分子印跡聚合物，所得聚合物中具有特有的孔穴，該聚合物能夠選擇性吸附雷公藤紅素。
[0053]本發(fā)明中[]內(nèi)的數(shù)字分別相應地表示如下參考文獻。這些文獻的全部內(nèi)容都全文引入本發(fā)明作為本發(fā)明說明書中的一部分。
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【主權項】
1.納米花材料表面分子印跡聚合物，其特征在于，所述納米花材料表面分子印跡聚合物是在模板分子、交聯(lián)劑、功能單體、表面連接有偶聯(lián)劑的納米花材料和引發(fā)劑存在下，在溶劑中發(fā)生聚合反應得到聚合物，然后去除所述聚合物中的所述模板分子而得。
2.根據(jù)權利要求1所述的納米花材料表面分子印跡聚合物，其特征在于，所述納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法如下:(1)首先，模板分子與功能單體在溶劑中通過氫鍵、范德華力或靜電力形成“模板分子-功能單體”超分子復合物；(2)然后，加入交聯(lián)劑、表面連接有偶聯(lián)劑的納米花材料和引發(fā)劑，通入氮氣除氧5飛O min，密封，在4(T85°C下進行聚合反應得到聚合物；(3)洗脫除去聚合物中的模板分子得到所述的納米花材料表面分子印跡聚合物。
3.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述納米花材料為氧化鋅、氧化銅、羥基磷酸鈣、四氧化三鈷、三氧化二鐵、氫氧化鈣或二氧化鈦納米花。
4.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述的偶聯(lián)劑為乙烯基三甲氧硅烷或Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，所述引發(fā)劑是偶氮二異丁腈。
5.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述交聯(lián)劑為乙二醇二甲基丙烯酸甲酯或三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯。
6.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述功能單體為4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶、甲基丙烯酸、丙烯酰胺或甲基丙烯酰安替比林。
7.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，模板分子、功能單體、交聯(lián)劑的摩爾比為1:2?8: 12飛O。
8.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，模板分子為獸藥分子，包括氯霉素、利福平、紅霉素、玉米赤霉醇、氯丙嗪、己烯雌酚、克倫特羅。
9.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，模板分子是農(nóng)藥分子，包括三唑酮、敵百蟲、甲胺膦、甲基對硫磷、乙基對硫磷、氧樂果、莠去津、單嘧磺隆。
10.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，模板分子是天然產(chǎn)物分子，包括紫杉醇、齊墩果酸、喜樹堿、綠原酸、水飛薊素、長春堿、β_谷甾醇、雷公藤甲素、雷公藤紅素、木犀草素、芹菜素。
11.權利要求2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，模板分子是有機噻吩硫分子，包括噻吩、甲基噻吩、苯并噻吩、二苯并噻吩。
12.權利要求1和2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物可用作模板分子的選擇性吸附。
13.權利要求1和2所述的納米花材料表面分子印跡聚合物可作為色譜填料。
【專利摘要】本發(fā)明涉及以納米花材料為基體的表面分子印跡聚合物及其制備和應用，其是在致孔溶劑中，在交聯(lián)劑作用下，以乙烯基吡啶、甲基丙烯酸或丙烯酰胺等為功能單體，在納米花材料外表面和內(nèi)部孔表面嫁接反應得到以納米花多孔材料為基體的表面分子印跡聚合物。本發(fā)明的納米花材料表面分子印跡聚合物對模板分子具有高的選擇性吸附能力，并具有良好的穩(wěn)定性和動力學吸附性能。
【IPC分類】C08F292-00, C08F226-06, C08F222-14, C08F220-06, C08F222-20, B01J20-30, B01J20-285, B01J20-26, C08J9-26, C08J9-28
【公開號】CN104558409
【申請?zhí)枴緾N201310495803
【發(fā)明人】雷建都, 何靜, 王璐瑩, 劉靜, 鄧立紅, 戴林
【申請人】北京林業(yè)大學
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2013年10月22日