、鼠標(biāo)和鍵盤(pán)等，但并不限于此。作為觸摸 面板，例如可以列舉設(shè)在電視裝置、個(gè)人計(jì)算機(jī)、移動(dòng)設(shè)備（例如智能手機(jī)、平板PC(只u - 卜PC)等）和相架等上的觸摸面板，但并不限于此。
[0042] 作為電子設(shè)備，優(yōu)選具有顯示裝置、輸入裝置和筐體等的至少1種的電子設(shè)備。作 為這樣的電子設(shè)備，例如可以列舉電視裝置、個(gè)人計(jì)算機(jī)（PC)、移動(dòng)設(shè)備（例如智能手機(jī)、 平板PC等）和相架等，但并不限于此。
[0043] 防污性基材或防污層12的使用對(duì)象并不限于上述裝置，只要是具有用手或指頭 觸摸的表面的物品均適合使用。作為除上述裝置以外的物品（防污性物品）的例子，例如 可以列舉紙、塑料、玻璃、金屬制品（具體而言，例如照片、相框、塑料箱、金屬箱、玻璃窗、塑 料窗、畫(huà)框、透鏡、家具、電化制品）等，但并不限于此。
[0044] (基材） 基材11例如是具有透明性的無(wú)機(jī)基材或塑料基材。作為基材11的形狀，例如可以采用 薄膜狀、片狀、板狀、塊狀等。作為無(wú)機(jī)基材的材料，例如可以列舉石英、藍(lán)寶石、玻璃等。作 為塑料基材的材料，例如可以使用公知的高分子材料。作為公知的高分子材料，具體而言， 例如可以列舉：三乙?；w維素（TAC)、聚酯（TPEE)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚萘二 甲酸乙二醇酯（PEN)、聚酰亞胺（PI)、聚酰胺（PA)、芳族聚酰胺、聚乙烯（PE)、聚丙烯酸酯、 聚醚砜、聚砜、聚丙烯（PP)、聚苯乙烯、二乙?；w維素、聚氯乙烯、丙烯酸樹(shù)脂（PMMA)、聚 碳酸酯（PC)、環(huán)氧樹(shù)脂、脲樹(shù)脂、氨基甲酸乙酯樹(shù)脂、三聚氰胺樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、丙烯腈/ 丁 二烯/苯乙烯共聚物、環(huán)烯烴聚合物（COP)、環(huán)烯烴共聚物（COC)、PC/PMMA層合體、添加了 橡膠的PMM等。可以在基材上印刷或蒸鍍圖案或花紋。用于外皮用途時(shí)，基材11可以不 具有透明性。作為材料，例如可以列舉不銹鋼、鎂合金、鋁、鋁合金、鈦合金、鍍鋁鋅鋼、碳纖 維強(qiáng)化塑料等。
[0045] 基材11可以作為電子設(shè)備等的外皮或顯示器的一部分來(lái)加工。另外，基材11的 表面形狀并不限于平面，可以是凹凸面、多角形面、曲面或這些形狀的組合。作為曲面，例如 可以列舉球面、橢圓面、拋物面、自由曲面等。例如，可以利用模內(nèi)成型工藝將防污性基材成 型成上述曲面。模內(nèi)成型是指，將防污性基材設(shè)置在模具內(nèi)，進(jìn)行塑料等樹(shù)脂的射出，同時(shí) 進(jìn)行成型和表面修飾的工藝?；蛘?，使用加壓模具對(duì)防污性基材本身進(jìn)行加壓加工，可以成 型成上述曲面。通過(guò)這些成型工藝，為了保護(hù)防污性基材表面的突起不受損傷，可以在防污 性基材的防污層上設(shè)置保護(hù)膜。另外，例如可以通過(guò)UV轉(zhuǎn)印、熱轉(zhuǎn)印、壓轉(zhuǎn)印、熔融擠出等 對(duì)基材11的表面賦予規(guī)定的結(jié)構(gòu)。
[0046] (防污層） 防污層12在耐指紋表面S具備多個(gè)突起12a。防污層12可以在基材11與多個(gè)突起 12a之間進(jìn)一步具備基底層12b。基底層12b是在突起12a的底面?zhèn)扰c突起12a形成一體 的層，由與突起12a相同的材料構(gòu)成。防污層12是包含末端以外的部分具有酯鍵的第1化 合物和具有環(huán)狀烴基的第2化合物的至少一個(gè)的表面改質(zhì)層。由于防污層12具有第1化 合物和第2化合物的至少一種，因此可以提高指紋擦拭性。這里，末端是指主鏈和側(cè)鏈的末 端。防污層12例如是通過(guò)濕式工藝或干式工藝形成的涂層。
[0047] 當(dāng)防污層12包含第2化合物時(shí)，優(yōu)選防污層12在包含第2化合物的同時(shí)，還包含 末端具有鏈狀烴基的第3化合物。由此，可以進(jìn)一步提高指紋擦拭性。這里，末端是指主鏈 和側(cè)鏈的末端。對(duì)防污層12中的第2化合物與第3化合物的含有比率沒(méi)有特別限定，但由 于第3化合物具有在耐指紋性表面S上比較容易聚集的性質(zhì)，所以?xún)?yōu)選考慮該性質(zhì)來(lái)選擇 上述含有比率。
[0048] 防污層12例如包含選自能量線固化性樹(shù)脂組合物、熱固化性樹(shù)脂組合物和熱塑 性樹(shù)脂組合物的至少1種。這些樹(shù)脂組合物例如包含第1化合物和第2化合物的至少一種。 當(dāng)這些樹(shù)脂組合物包含第2化合物時(shí)，優(yōu)選在包含該第2化合物的同時(shí)還包含第3化合物。
[0049] 根據(jù)需要，防污層12可以進(jìn)一步包含聚合引發(fā)劑、光穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑、催化 劑、著色劑、抗靜電劑、潤(rùn)滑劑、流平劑、消泡劑、聚合促進(jìn)劑、抗氧化劑、阻燃劑、紅外線吸收 劑、表面活性劑、表面改質(zhì)劑、觸變劑、增塑劑等添加劑。另外，為了對(duì)耐指紋表面S賦予 AG(Anti-Glare)功能，防污層12可以進(jìn)一步包含散射光的有機(jī)樹(shù)脂填料等光散射顆粒。賦 予AG功能時(shí)，即使光散射顆粒從防污層12的耐指紋表面S突出，也可以被防污層12中所 含的樹(shù)脂等覆蓋。另外，光散射顆?？梢耘c作為下層的基材11接觸也可以不與其接觸。防 污層12的平均膜厚例如為單分子厚度以上且Imm以下、優(yōu)選單分子厚度以上且100 以 下、特別優(yōu)選為單分子厚度以上且10 以下的范圍內(nèi)。
[0050] 第1化合物和/或第2化合物例如是防污層12的構(gòu)成材料的主成分和副成分的至 少一種。這里，當(dāng)防污層12是通過(guò)濕式工藝形成的層時(shí)，主成分例如是基質(zhì)樹(shù)脂，副成分例 如是上述的流平劑等添加劑等。第1化合物、第2化合物和第3化合物優(yōu)選為添加劑。這 是由于：由此可以抑制基質(zhì)樹(shù)脂的硬度劣化等。這樣，當(dāng)化合物為添加劑時(shí)，添加劑優(yōu)選為 流平劑。當(dāng)?shù)?化合物、第2化合物和第3化合物為流平劑等添加劑時(shí)，第1化合物、第2 化合物和第3化合物優(yōu)選通過(guò)聚合反應(yīng)等與基質(zhì)樹(shù)脂結(jié)合。這是由于：可以提高耐指紋性 表面S的耐久性。
[0051] (突起） 圖IB是顯示設(shè)于基材11表面的多個(gè)突起的排列之一例的平面圖。如圖IB所示，多個(gè) 突起12a在基材11的表面二維排列。排列可以是規(guī)則排列和隨機(jī)排列的任一種，但在通過(guò) 后述的制造方法制作防污性基材時(shí)，優(yōu)選規(guī)則排列。
[0052] 在基材11的表面多個(gè)突起12a具有分別形成多個(gè)徑跡T的配置形態(tài)。在本技術(shù) 中，徑跡是指多個(gè)突起12a連接而成的列。作為徑跡T的形狀，可以采用直線狀、圓形狀、圓 弧狀等，可以使這些形狀的徑跡T搖擺（々才7''少）（蛇行）。通過(guò)如此地使徑跡T搖擺，可 以抑制在外觀上產(chǎn)生斑點(diǎn)（Λ 7 )。
[0053] 使徑跡T搖擺時(shí)，基材11上的各徑跡T的搖擺可以同期進(jìn)行。即，搖擺優(yōu)選為同 步搖擺。通過(guò)如此地使搖擺同期進(jìn)行，可以保持單元格子Uc的形狀，高度保持填充率。作 為搖擺的徑跡T的波形，例如可以列舉正弦波、三角波等。搖擺的徑跡T的波形并不限于周 期性的波形，可以是非周期性的波形。搖擺的徑跡T的搖擺振幅例如選擇± IOnm左右。
[0054] 以形成多個(gè)徑跡T的方式配置的多個(gè)突起12a可以形成規(guī)則的周期圖案。從提高 填充率的角度考慮，上述的多個(gè)突起12a優(yōu)選以由規(guī)則的周期圖案形成的最密填充結(jié)構(gòu)進(jìn) 行排列。作為規(guī)則的周期圖案，例如可以使用單元格子Uc的圖案。作為單元格子Uc，例如 可以列舉四方格子狀、六方格子狀等格子狀圖案，這些格子狀圖案可以存在變形?？梢允雇?起12a的高度在基材11的表面規(guī)則或不規(guī)則地變化。
[0055] 作為突起12a的形狀，例如可以列舉錐體狀、柱狀、針狀、一部分球體的形狀（例如 半球體狀）、一部分橢圓體的形狀（例如半橢圓體狀）、多角形狀等，但并不限于這些形狀， 可以采用其他形狀。作為錐體狀，例如可以列舉：頂部尖的錐體形狀、頂部平坦的錐體形狀 (錐臺(tái)狀）、頂部具有凸?fàn)罨虬紶畹那娴腻F體形狀，但并不限于這些形狀。作為頂部尖的 錐體形狀，例如可以列舉圓錐、多角錐等。作為多角錐，例如可以列舉三角錐、四角錐、五角 錐、六角錐、其他的多角錐。作為頂部平坦的錐體形狀（錐臺(tái)狀），例如可以列舉圓錐臺(tái)、多 角錐臺(tái)等。作為多角錐臺(tái)，例如可以列舉三角錐臺(tái)、四角錐臺(tái)、五角錐臺(tái)、六角錐臺(tái)、其他的 多角錐臺(tái)。作為頂部具有凸?fàn)钋娴腻F體形狀，例如可以列舉：頂部的斜率平緩而從中央部 向底部斜率逐漸陡峭的錐體形狀（例如拋物面狀）、中央部的斜率較底部和頂部陡峭的錐 體形狀等二次曲面狀等。另外，可以使錐體狀的錐面彎曲成凹狀或凸?fàn)?。作為柱狀，例如?以列舉圓柱、多角柱等。作為多角柱，例如可以列舉四角柱、五角柱、六角柱、其他的多角柱。
[0056] 使用后述的輥式原盤(pán)曝光裝置（參照?qǐng)D3)制作輥式原盤(pán)時(shí)，作為突起12a的形 狀，優(yōu)選采用頂部具有凸?fàn)钋娴臋E圓錐形狀、或頂部平坦的橢圓錐臺(tái)形狀，并使形成這些 底面的橢圓形的長(zhǎng)軸方向與徑跡T的延伸方向一致。這里，圓、橢圓、圓錐、橢圓錐、球體、橢 圓體和拋物面等形狀不僅包括數(shù)學(xué)上定義的完全的圓、橢圓、圓錐、橢圓錐、球體、橢圓體和 拋物面等形狀，還包括賦予了一些變形的圓、橢圓、圓錐、橢圓錐、球體、橢圓體和拋物面等 形狀。
[0057] 需要說(shuō)明的是，在圖IA和圖IB中，各突起12a分別具有相同的大小、形狀、配置間 距、高度和縱橫比，但突起12a的構(gòu)成并不限于此，可以在基材表面設(shè)置具有兩種以上的大 小、形狀、配置間距、高度和縱橫比的突起12a。這里，縱橫比是指突起12a的配置間距P與 突起12a的高度H的比例（P/Η)。突起12a的配置間距P、高度H和/或縱橫比（Η/P)可以 根據(jù)基材表面的面內(nèi)方向而不同。對(duì)相鄰的突起12a彼此之間的位置關(guān)系沒(méi)有特別限定，