1.一種漲型法高精度低熔脂殼體的熔敷裝置，所述殼體包括上環(huán)組件(50)和下環(huán)組件(60)，所述熔敷裝置包括上下依次疊置的上模塊(10)、加熱模塊(20)和下模塊(30)，所述上模塊與下模塊之間通過導柱(40)活動連接，所述上模塊(10)用于定位上環(huán)組件(50)，所述下模塊(30)用于定位下環(huán)組件(60)，其特征在于，所述上模塊(10)與下模塊(30)對稱設(shè)置，該上、下模塊內(nèi)均設(shè)置有托板(71)以及通過滑塊(72)在該托板相應(yīng)滑槽(73)中沿著徑向朝外運動的外漲型模塊(80)，上、下模塊中的外漲型模塊之間通過內(nèi)漲芯(90)連接，該內(nèi)漲芯通過上下移動能驅(qū)動外漲型模塊沿徑向運動，所述外漲型模塊(80)的外部圓弧面與所述上環(huán)組件(50)和下環(huán)組件(60)的內(nèi)面相適配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述外漲型模塊(80)包括第一模塊(81)和第二模塊(82)，該第一模塊與所述內(nèi)漲芯(90)接觸，所述第一模塊(81)沿徑向朝外運動時能帶動第二模塊(82)同時沿徑向朝外運動，共同運動時第一模塊和第二模塊的外部圓弧面構(gòu)成一個整圓。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熔敷裝置，其特征在于，所述第一模塊(81)的兩側(cè)設(shè)置有用于帶動第二模塊(82)運動的楔形凸耳(811)，該第一模塊的徑向內(nèi)部開設(shè)有與所述內(nèi)漲芯(90)的楔形導塊(91)配合的楔形導槽(812)，該第一模塊的徑向外部形成有與相鄰第二模塊間隙相適配的插塊(813)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述上模塊(10)和下模塊(30)內(nèi)均設(shè)置有用于向內(nèi)收縮外漲型模塊(80)的壓緊裝置(74)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熔敷裝置，其特征在于，所述壓緊裝置(74)采用設(shè)置在托板(71)內(nèi)的壓簧，該壓簧的一端設(shè)置有用于固定和密封該壓簧的沉頭彈簧擋柱，該壓簧的另一端與所述滑塊(72)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述上環(huán)組件(50)和下環(huán)組件(60)與所述內(nèi)漲芯(90)同心設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述下模塊(30)內(nèi)設(shè)置有用于定位下環(huán)組件(60)的夾緊機構(gòu)(31)，該夾緊機構(gòu)包括至少兩個呈左右對稱水平設(shè)置的夾緊氣缸以及與該夾緊氣缸連接的定位銷，該定位銷與所述下環(huán)組件的定位孔相適配。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述上模塊(10)內(nèi)設(shè)置有用于定位上環(huán)組件(50)的吸附機構(gòu)(11)，該吸附機構(gòu)包括至少三個吸附氣缸以及與該吸附氣缸連接的氣嘴，該氣嘴用于吸附上環(huán)組件的表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔敷裝置，其特征在于，所述托板(71)的滑槽(73)采用燕尾槽結(jié)構(gòu)，所述滑塊(72)的形狀與該燕尾槽相適配。