開(kāi)門(mén)7時(shí)，安全開(kāi)關(guān)8停止磁控管、各加熱器的工作。
[0049]圖2是去除了外箱6的、實(shí)施方式I的加熱烹調(diào)器I的立體圖。在圖2中，示出了將蒸汽發(fā)生裝置27暴露出來(lái)的情況。
[0050]在圖2中，在門(mén)7上配置有觸摸屏57和操作部58。觸摸屏57是由可供使用者接觸的畫(huà)面構(gòu)成的。使用者能夠通過(guò)用手指接觸觸摸屏57的畫(huà)面，對(duì)烹調(diào)菜單、烹調(diào)時(shí)間進(jìn)行詳細(xì)設(shè)定。操作部58能夠通過(guò)被使用者操作而執(zhí)行“返回”、“取消”、“開(kāi)始”的基本操作。另外，在實(shí)施方式I中，雖然設(shè)置有觸摸屏57，但也可以只采用液晶顯示屏來(lái)代替觸摸屏57。在采用液晶顯示屏來(lái)代替觸摸屏57時(shí)，使用者使用操作部58的十字鍵、號(hào)碼盤(pán)鍵來(lái)選擇在液晶顯示屏上顯示出來(lái)的烹調(diào)菜單、烹調(diào)時(shí)間。
[0051]圖3是表示去除了外箱6的、實(shí)施方式I的加熱烹調(diào)器I的主剖視圖。
[0052]如圖3所示，加熱烹調(diào)器I具有載置臺(tái)14和加熱室加熱器15。載置臺(tái)14是用于載置食品的臺(tái)，固定于加熱室10而構(gòu)成加熱室10的底面。載置臺(tái)14是由微晶玻璃形成的。加熱室加熱器15是設(shè)置在加熱室10的頂面附近的3根平行的加熱器。在3根加熱室加熱器15中，配置于中央部的加熱室加熱器15的波長(zhǎng)的峰值比其他兩根加熱室加熱器15的波長(zhǎng)峰值短。
[0053]構(gòu)成加熱室10的壁面利用地線(xiàn)(未圖示)接地，與加熱室10 —體成型的軌道12也接地。
[0054]在作為加熱室10內(nèi)部的背面?zhèn)仍O(shè)置有循環(huán)風(fēng)扇16和對(duì)流加熱器17。循環(huán)風(fēng)扇16是用于攪拌加熱室10內(nèi)的空氣而使其循環(huán)的風(fēng)扇。對(duì)流加熱器17是用于對(duì)在加熱室10內(nèi)循環(huán)的空氣進(jìn)行加熱的室內(nèi)空氣加熱器，以包圍循環(huán)風(fēng)扇16的方式設(shè)置。
[0055]在加熱室10的背面中央附近，在彼此不同的區(qū)域設(shè)置有多個(gè)吸氣用通風(fēng)口 18和多個(gè)送風(fēng)用通風(fēng)口 19。吸氣用通風(fēng)口 18是用于從加熱室10側(cè)向循環(huán)風(fēng)扇16側(cè)進(jìn)行吸氣的孔。反之，送風(fēng)用通風(fēng)口 19是用于從循環(huán)風(fēng)扇16側(cè)向加熱室10側(cè)進(jìn)行送風(fēng)的孔。吸氣用通風(fēng)口 18和送風(fēng)用通風(fēng)口 19是由許多沖孔形成的。
[0056]在圖3中的加熱室10的右上方設(shè)置有紅外線(xiàn)傳感器21和箱內(nèi)熱敏電阻22。紅外線(xiàn)傳感器21通過(guò)設(shè)置于加熱室10的壁面的檢測(cè)用孔20來(lái)檢測(cè)加熱室10內(nèi)的食品的溫度。箱內(nèi)熱敏電阻22用于檢測(cè)加熱室10的溫度(箱內(nèi)溫度)。
[0057]在圖3中的加熱室10的下方設(shè)置有磁控管23、波導(dǎo)管24、旋轉(zhuǎn)天線(xiàn)25以及電動(dòng)機(jī)
26。磁控管23是使微波產(chǎn)生的微波發(fā)生部的一個(gè)例子，在從左方觀(guān)察時(shí)，具有80mmX80mm的形狀，并且設(shè)置在水平方向上。磁控管23與波導(dǎo)管24相連。波導(dǎo)管24是用于傳送來(lái)自磁控管23的微波的管，使鍍鋁鋼板彎曲成大致字母L狀，而形成內(nèi)部通路。旋轉(zhuǎn)天線(xiàn)25是設(shè)置于加熱室10的水平方向中央附近的電波攪動(dòng)單元的一個(gè)例子，由鋁構(gòu)成。旋轉(zhuǎn)天線(xiàn)25與電動(dòng)機(jī)26相連。
[0058]另外，在實(shí)施方式I中，磁控管23、旋轉(zhuǎn)天線(xiàn)25、電動(dòng)機(jī)26以及波導(dǎo)管24設(shè)置于加熱室10的下側(cè)，但并不限于此。例如，也可以將這些構(gòu)件設(shè)置在加熱室10的上側(cè)或者側(cè)面?zhèn)?。另外，這些構(gòu)件的設(shè)置方向也能夠設(shè)定成任何方向。另外，并非一定需要旋轉(zhuǎn)天線(xiàn)25和電動(dòng)機(jī)26。
[0059]在實(shí)施方式I中，在波導(dǎo)管24的下方設(shè)置有控制部34。控制部34基于使用者對(duì)烹調(diào)菜單的選擇來(lái)控制磁控管23、電動(dòng)機(jī)26、循環(huán)風(fēng)扇16、加熱室加熱器15、第I蒸汽發(fā)生加熱器50、第2蒸汽發(fā)生加熱器51、對(duì)流加熱器17、箱內(nèi)熱敏電阻22、貯水室熱敏電阻33、紅外線(xiàn)傳感器21、供水泵41、觸摸屏57、操作部58以及箱內(nèi)燈(未圖示)等。
[0060]在加熱室10的左方設(shè)置有蒸汽發(fā)生裝置27。蒸汽發(fā)生裝置27具有貯水室28、貯水室密封件29、貯水室罩30、蒸汽導(dǎo)入通路31以及蒸汽噴出口 32。貯水室28是儲(chǔ)存用于產(chǎn)生蒸汽的水的容器，由鋁壓鑄件形成。貯水室罩30以與貯水室28相對(duì)的方式設(shè)置，借助有機(jī)硅制的貯水室密封件29安裝于貯水室28。另外，貯水室罩30設(shè)置在比貯水室28靠近加熱室10側(cè)的位置，由鋁壓鑄件形成。有時(shí)也將貯水室28和貯水室罩30這兩者合稱(chēng)為“貯水室”。蒸汽導(dǎo)入通路31是在貯水室28的上方與貯水室28相連的管，從加熱室10的上方的側(cè)面向加熱室10內(nèi)供給蒸汽。蒸汽導(dǎo)入通路31是由內(nèi)徑Φ 1mm的有機(jī)硅管形成。蒸汽噴出口 32與蒸汽導(dǎo)入通路31相連，從加熱室10的側(cè)面的、處于最上段的軌道12上方的部位向加熱室10內(nèi)吹送蒸汽。即，蒸汽噴出口 32將貯水室28內(nèi)產(chǎn)生的蒸汽向加熱室10內(nèi)噴出。蒸汽噴出口 32是由PPS樹(shù)脂形成的。
[0061]蒸汽噴出口 32是從蒸汽導(dǎo)入通路31朝向加熱室10以自水平方向向下方傾斜大致30°的方式延伸，并與加熱室10的凹面相連。蒸汽噴出口 32的頂端未從加熱室10的側(cè)面向加熱室10內(nèi)突出。在蒸汽噴出口 32的頂端部設(shè)置有兩個(gè)日文假名“3”字狀的缺口。在實(shí)施方式I中，蒸汽噴出口 32自水平方向向下方傾斜大致30°，但角度不限于30°。
[0062]另外，在實(shí)施方式I中，蒸汽導(dǎo)入通路31和蒸汽噴出口 32的截面形狀是圓形形狀，但也可以是橢圓形形狀、矩形形狀。蒸汽噴出口 32在加熱室10的側(cè)面的上方設(shè)置有I個(gè)，但其設(shè)置位置、數(shù)量并不限于此。只要是能夠向加熱室10供給蒸汽的位置，就可以將蒸汽噴出口 32配置在任何一處，例如加熱室10的頂面、底面以及里面等。另外，蒸汽噴出口32可以不只設(shè)置I個(gè)而是設(shè)置多個(gè)。蒸汽發(fā)生裝置27的位置也不限于加熱室10的側(cè)方，也可以設(shè)置在加熱室10的上側(cè)、下側(cè)以及里側(cè)等。
[0063]另外，蒸汽噴出口 32的孔的最大內(nèi)徑優(yōu)選的是微波的波長(zhǎng)的1/2以下，以使加熱室10內(nèi)的微波不會(huì)泄漏。在實(shí)施方式I中，微波的波長(zhǎng)大約是120_，因此期望蒸汽噴出口32的孔的最大內(nèi)徑為60mm以下。
[0064]圖4A是表示實(shí)施方式I的蒸汽發(fā)生裝置27的整體結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖，圖4B是實(shí)施方式I的蒸汽發(fā)生裝置27的主要部分的放大圖。
[0065]如圖4A、圖4B所示，蒸汽發(fā)生裝置27具有第I蒸汽發(fā)生加熱器50和第2蒸汽發(fā)生加熱器51。第I蒸汽發(fā)生加熱器50是用于對(duì)貯水室28內(nèi)的水進(jìn)行加熱以產(chǎn)生蒸汽的第I加熱部的一個(gè)例子，由輸出650W的直線(xiàn)狀的夾套加熱器構(gòu)成。第I蒸汽發(fā)生加熱器50以相對(duì)于貯水室28的高度方向在中央附近沿大致水平方向延伸的方式熔鑄于貯水室28的鋁壓鑄件。第2蒸汽發(fā)生加熱器51是用于對(duì)貯水室28內(nèi)的水進(jìn)行加熱以產(chǎn)生蒸汽的第2加熱部的一個(gè)例子，由輸出350W的直線(xiàn)狀的夾套加熱器構(gòu)成。第2蒸汽發(fā)生加熱器51在第I蒸汽發(fā)生加熱器50的上方沿著大致水平方向設(shè)置。第2蒸汽發(fā)生加熱器51與第I蒸汽發(fā)生加熱器50—樣，熔鑄于貯水室28的鋁壓鑄件。另外，加熱部也可以是加熱器以外的構(gòu)件，例如，可以是IH式的加熱部。
[0066]貯水室28內(nèi)的相對(duì)的第I側(cè)面53和第2側(cè)面54之間的間隔在比第I蒸汽發(fā)生加熱器50靠下方的位置變大(L1>L2)。S卩，對(duì)于貯水室28和貯水室罩30之間的距離而言，與貯水室28的位于第I蒸汽發(fā)生加熱器50和第2蒸汽發(fā)生加熱器51附近的部分相比，位于第I蒸汽發(fā)生加熱器50的下方的貯水室凹部28a處較大，截面積也較大。另外，在貯水室罩30的內(nèi)壁面中的、與第I蒸汽發(fā)生加熱器50相對(duì)的位置設(shè)有凹部30a。S卩，貯水室罩30在與第I蒸汽發(fā)生加熱器50相對(duì)的位置形成有以與第I蒸汽發(fā)生加熱器50呈同心圓的形狀向右方鼓出的凹部30a。
[0067]在第I蒸汽發(fā)生加熱器50和第2蒸汽發(fā)生加熱器51之間設(shè)置有貯水室熱敏電阻33。貯水室熱敏電阻33是用于檢測(cè)貯水室28的溫度的溫度檢測(cè)部的一個(gè)例子，涂布有導(dǎo)熱油脂，并且與貯水室28相接觸地設(shè)置。
[0068]在實(shí)施方式I中，作為加熱部的第I蒸汽發(fā)生加熱器50和第2蒸汽發(fā)生加熱器51使用兩根輸出不同的直線(xiàn)狀的夾套加熱器，合計(jì)輸出為1000W(下方為650W、上方為350W)。但并不限于這樣的情況，也可以根據(jù)所需的蒸汽量等，設(shè)置具有所期望的輸出的加熱器。例如，可以使用輸出合計(jì)超過(guò)100W的加熱器或者輸出相同的多根加熱器或者3根以上的加熱器或者僅I根加熱器。另外，對(duì)于加熱器的形狀，可以使用直線(xiàn)狀的加熱器以外的各種形狀的加熱器，例如能夠使用字母U形形狀的加熱器、字母L形形狀的加熱器等。另外，也可以是位于上方的加熱器的輸出比位于下方的加熱器的輸出大。
[0069]另外，在實(shí)施方式I中，貯水室罩30的凹部30a形成為以與第I蒸汽發(fā)生加熱器50呈同心圓的形狀向右方鼓出的形狀，但并不限于這樣的情況。例如，也可以在貯水室罩30上，在與第2蒸汽發(fā)生加熱器51或其他的加熱器相對(duì)的位置上設(shè)置成與上述加熱器相同的形狀，能獲得與凹部30a相同的效果。
[0070]另外，為了減少水垢附著，可以在利用氟、有機(jī)硅等使貯水室28的內(nèi)表面或者貯水室罩30的內(nèi)表面形成表面涂層。
[0071]另外，使用貯水室熱敏電阻33那樣的溫度檢測(cè)部，與用于直接檢測(cè)水位的浮標(biāo)等的水位檢測(cè)部不同，即使在檢測(cè)部上附著水垢，也能夠長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)地檢測(cè)溫度。由此，能夠提高對(duì)于抵抗水垢的可靠性。
[0072]圖5是表示從蒸汽發(fā)生部27側(cè)觀(guān)察具有實(shí)施方式I的蒸汽發(fā)生裝置27的加熱烹調(diào)器I的側(cè)視圖。
[0073]如圖5所示，蒸汽導(dǎo)入通路31從蒸汽發(fā)生裝置27的中央部向上方延伸，并向大致水平方向(圖5中的右方)彎曲。在蒸汽發(fā)生裝置27的左上部設(shè)置有兩個(gè)溫度開(kāi)關(guān)60。溫度開(kāi)關(guān)60是當(dāng)溫度達(dá)到135°C以上時(shí)就不使蒸汽的導(dǎo)通的開(kāi)關(guān)。溫度開(kāi)關(guān)60隔著厚度Imm的鋁板被螺絲固定于貯水室28。在貯水室28的左下方設(shè)置有供水口 38、供水路40、供水泵41以及供水罐42。供水路40是配置在供水口 38的上游側(cè)的管，由半透明的有機(jī)硅彈性體形成。供水路40的內(nèi)徑是Φ3πιπι、外徑是Φ5πιπι。供水泵41是用于輸送水的泵。供水罐42是用于儲(chǔ)存從供水泵41輸送到貯水室28的水的罐。像這樣，設(shè)置有供水泵41作為將水經(jīng)由供水路40和設(shè)置于貯水室28的供水口 38進(jìn)行輸送的供水裝置。
[0074]另一方面，在貯水室28的右下方設(shè)置有排水口 39、排水路43、排水路出口 46以及排水罐47。排水路43是連接于排水口 39的管，排水路43是由半透明的彈性體有機(jī)硅形成的，其內(nèi)徑為Φ7πιπι、外徑為排水路43從排水口 39沿大致水平方向向右方延伸，然后向鉛垂方向彎曲，一邊稍微向右上方傾斜一邊延伸。而且，排水路43還以排水路頂點(diǎn)44為頂點(diǎn)，借助管彎曲構(gòu)件61彎曲180°，向大致鉛垂方向下方延伸。排水路頂點(diǎn)44位于與設(shè)置于貯水室28上側(cè)的蒸汽噴出口 45的高度大致相同的高度處。之后，排水路43 —邊稍微向右下方傾斜一邊延伸，并在與排水口 39的高度大致相同的高度的位置連接于排水路出口 46 (內(nèi)徑Φ8πιπι)。在排水路出口 46的下方設(shè)置有用于儲(chǔ)存排水的排水罐47。像這樣，具有將貯水室28內(nèi)的水經(jīng)由設(shè)置于貯水室28的排水口 39排出的排水路43。
[0075]在實(shí)施方式中，排水路43由有機(jī)硅形成，但并不限于此，例如也可以由氟、聚丙稀、聚乙稀等形成。