本發(fā)明涉及半導體設備技術(shù)領域，尤其涉及一種用于半導體磨削臺的清潔裝置。

背景技術(shù)：

半導體磨削需要借助于磨削臺，例如，磨削減薄晶圓需要在陶瓷臺表面進行。由于陶瓷臺表面的清潔度會影響晶圓磨削的精度，因此，需要對陶瓷臺表面進行清潔。目前，常用的對磨削臺表面的清潔方法包括水沖方法和手動油石清潔方法。其中，水沖方法不能清潔掉附著在磨削臺上面的磨削材料，清潔效果差；手動油石清潔方法也存在清潔效果差、耗費時間長的缺陷。可見，現(xiàn)有半導體磨削臺的清潔方法存在清潔效果差的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種用于半導體磨削臺的清潔裝置，以解決現(xiàn)有半導體磨削臺的清潔方法存在清潔效果差的問題。

本發(fā)明實施例提供了一種用于半導體磨削臺的清潔裝置，包括：升降動力總成、電機總成、轉(zhuǎn)軸及清潔頭；

其中，所述升降動力總成包括氣缸及連接板；

所述電機總成包括電機座及電機，所述電機固定設置于所述電機座上；

所述連接板的一端與所述氣缸固定連接，另一端與所述電機座固定連接；

所述轉(zhuǎn)軸包括分別位于所述轉(zhuǎn)軸兩端的第一連接部及第二連接部，所述轉(zhuǎn)軸還包括位于所述第一連接部與所述第二連接部之間的轉(zhuǎn)軸中段，所述第一連接部與所述電機固定連接，所述第二連接部與所述清潔頭配合連接，所述第二連接部用于使所述清潔頭隨所述轉(zhuǎn)軸共同轉(zhuǎn)動；

所述清潔頭具有清潔平面，用于與半導體磨削臺的表面相接觸。

本發(fā)明實施例的清潔裝置適用于半導體磨削設備中磨削臺的清潔，通過升降動力總成靈活控制清潔頭上下移動至與磨削臺接觸，并依靠電機總成控制清潔頭轉(zhuǎn)動以實現(xiàn)對磨削臺的清潔，其結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，能有效清潔附著于磨削臺表面的磨削殘留物。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，下面將對本發(fā)明實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲取其他的附圖。

圖1是本發(fā)明實施例提供的清潔裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實施例提供的清潔裝置的轉(zhuǎn)軸的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明實施例提供的清潔裝置的清潔頭彈性連接的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明實施例提供的清潔裝置的連接架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本發(fā)明實施例提供的清潔裝置的清潔頭的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲取的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

如圖1所示，一種用于半導體磨削臺的清潔裝置，包括：升降動力總成、電機總成、轉(zhuǎn)軸及清潔頭8；其中，升降動力總成包括氣缸1及連接板3；電機總成包括電機座4及電機16，電機16固定設置于電機座4上；連接板3的一端與氣缸1固定連接，另一端與電機座4固定連接；轉(zhuǎn)軸包括分別位于轉(zhuǎn)軸兩端的第一連接部14及第二連接部10，轉(zhuǎn)軸還包括位于第一連接部14與第二連接部10之間的轉(zhuǎn)軸中段13，第一連接部14與電機16固定連接，第二連接部10與清潔頭8配合連接，第二連接部10用于使清潔頭8隨轉(zhuǎn)軸共同轉(zhuǎn)動；清潔頭8具有清潔平面9，用于與半導體磨削臺的表面相接觸。

具體的，清潔頭8可以是用油石加工而成的清潔頭，油石是用磨料和結(jié)合劑等制成的固體磨具，其對于半導體磨削臺如陶瓷臺的清潔效果較好。

具體的，連接板3可以直接與氣缸1的活塞進行連接，也可以通過一墊塊2與氣缸1的活塞進行連接。

具體的，第一連接部14可以通過聯(lián)軸器15與電機16進行連接。

半導體磨削過程中，會有基片殘留物附著在磨削臺上，若不對磨削臺上的殘留物及時進行清理，會影響基片表面加工精度。因此，在磨削基片之前要清潔磨削臺，以提高磨削半導體材料的精度和效率。

本發(fā)明實施例的清潔裝置裝配于半導體磨削臺的上方，當需要對半導體磨削臺進行清潔時，先啟動氣缸1，使氣缸1的活塞做下降運動，隨著氣缸1的活塞下降，連接板3帶動電機16、轉(zhuǎn)軸及清潔頭8共同下降，使清潔頭8下降至半導體磨削臺。在確保清潔頭8的清潔平面9與半導體磨削臺的表面相接觸時，可以先將氣缸1關(guān)閉，然后再啟動電機16，電機16的轉(zhuǎn)動帶動轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，清潔頭8隨轉(zhuǎn)軸共同轉(zhuǎn)動，旋轉(zhuǎn)的清潔頭8對半導體磨削臺進行摩擦，從而使半導體磨削臺表面的磨削材料附著物從半導體磨削臺表面脫離，達到清潔的目的。

待半導體磨削臺清潔完畢后，可以將清潔裝置進行歸位，具體過程為：將電機16關(guān)閉，并開啟氣缸1，使氣缸1的活塞做上升運動，隨著氣缸1的活塞上升，連接板3帶動電機16、轉(zhuǎn)軸及清潔頭8共同上升。

可見，本發(fā)明實施例的清潔裝置結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，能有效清潔附著于磨削臺表面的磨削殘留物。

可選的，清潔頭8可沿第二連接部10做平移運動，清潔頭8與第二連接部10之間設置有限制清潔頭8朝轉(zhuǎn)軸中段13方向運動的彈性機構(gòu)。

由于半導體磨削臺的表面附著有殘留物，使得磨削臺的表面并不是很平整。若清潔頭8與磨削臺為硬性接觸，當殘留物與磨削臺之間的附著力較牢固時，不僅容易損壞清潔頭8，還容易損壞磨削臺。

考慮到以上因素，為了更好地保護磨削臺，本發(fā)明實施方式中，可以通過設置彈性機構(gòu)，使清潔頭8與第二連接部10之間的連接為彈性連接，清潔頭8可以借助彈性機構(gòu)的伸縮沿第二連接部10做平移運動。這樣，清潔頭8與磨削臺之間的接觸方式可以由硬性接觸改進為彈性接觸，具有保護清潔頭8及磨削臺的有益效果。

此外，彈性接觸的方式還可以靈活調(diào)節(jié)清潔頭8與磨削臺之間的摩擦力度，例如，當磨削臺上的殘留物較難去除時，可以控制氣缸1將清潔頭8下降的高度更低，這樣，在彈性機構(gòu)的作用下，清潔頭8與磨削臺之間的摩擦力將提高，有利于更輕松地將殘留物去除。若磨削臺上的殘留物較易去除時，可以控制氣缸1將清潔頭8高度稍微抬高，以更好地保護磨削臺。

如圖2至圖4所示，本發(fā)明實施方式中，清潔頭8與第二連接部10的彈性連接可以有至少以下兩種具體的實現(xiàn)方式。

第一種具體的實現(xiàn)方式為：第二連接部10外壁成型有圓弧面及平面，第二連接部10圓弧面的直徑小于轉(zhuǎn)軸中段13的直徑，清潔頭8開設有與第二連接部10外壁相配合的連接孔；彈性機構(gòu)為彈簧18，彈簧18套于第二連接部10上，彈簧18一端抵接于轉(zhuǎn)軸中段13，彈簧18另一端抵接于清潔頭8。

第二種具體的實現(xiàn)方式為：第二連接部10外壁成型有圓弧面及平面，第二連接部10圓弧面的直徑小于轉(zhuǎn)軸中段13的直徑，清潔裝置還包括連接架7，連接架7開設有與第二連接部10外壁相配合的連接孔19，清潔頭8通過連接架7與第二連接部10配合連接；彈性機構(gòu)為彈簧18，彈簧18套于第二連接部10上，彈簧18一端抵接于轉(zhuǎn)軸中段13，彈簧18另一端抵接于連接架7。

可選的，如圖5所示，清潔頭8具有多個凸臺20，每個凸臺20的表面形成清潔平面，每兩個凸臺20之間形成凹陷空間。

本發(fā)明實施方式中，清潔頭8可以具有多個凸臺20以形成齒狀的清潔頭8，每兩個凸臺20之間的凹槽更加有利于清潔磨削臺上的殘留物。

可選的，如圖5所示，所有凸臺20呈環(huán)形排布。

本發(fā)明實施方式中，清潔頭8所有的凸臺20可以呈環(huán)形排布。

可選的，如圖1所示，清潔裝置還包括軸承6及軸承座5，轉(zhuǎn)軸中段13的外壁上套有軸承6，軸承6固定設置于軸承座5內(nèi)。

本發(fā)明實施方式中，為了使轉(zhuǎn)軸更加平穩(wěn)順暢地旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)軸中段13的外壁上可以套有軸承6。

可選的，如圖1所示，連接板3延伸至軸承座5與并軸承座5固定連接。

這樣，依靠連接板3的固定，可以進一步使轉(zhuǎn)軸平穩(wěn)順暢地旋轉(zhuǎn)。

可選的，如圖1所示，清潔裝置還包括防松動軸承帽11，防松動軸承帽11設置于軸承座5下方并套于轉(zhuǎn)軸中段13上。

為了進一步使轉(zhuǎn)軸平穩(wěn)順暢地旋轉(zhuǎn)，本發(fā)明實施方式中，可以在軸承座5下方的轉(zhuǎn)軸中段13上套一防松動軸承帽11。

可選的，如圖1所示，清潔裝置還包括防塵軸承蓋12，防塵軸承蓋12設置于防松動軸承帽11與軸承座5之間。

為了防止灰塵進入軸承6，進一步確保轉(zhuǎn)軸平穩(wěn)順暢地旋轉(zhuǎn)，可以在防松動軸承帽11與軸承座5之間設置防塵軸承蓋12。

可選的，如圖1所示，清潔裝置還包括防水罩17，防水罩17分別與墊塊2及軸承座5連接，并與連接板3共同形成一容置室，將電機總成、轉(zhuǎn)軸及軸承座5容置于其中，以起到防塵防水，保護電機總成、轉(zhuǎn)軸及軸承座5的作用。

以上，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以權(quán)利要求的保護范圍為準。