1.一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，包括水槽、清洗架、擋片、水噴頭，其特征在于：所述水槽上方設(shè)有清洗架，所述清洗架為長(zhǎng)條盒形，其底部開(kāi)設(shè)有若干通孔，在清洗架兩內(nèi)側(cè)壁對(duì)應(yīng)均勻設(shè)有若干擋片，所述清洗架頂部滑動(dòng)連接水噴頭；所述水噴頭為方形，其頂部連接水管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于：所述的擋片兩兩之間的間距大于單晶硅片厚度，小于二倍單晶硅片厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于：所述的清洗架兩側(cè)壁間距等于單晶硅片寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于：所述的水噴頭卡接在清洗架兩側(cè)壁上方。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于：所述的清洗架與水槽可拆卸式連接。