使得第一電極102b的外周面不與被處理水109直接接觸。例如，絕緣體206的厚度可以為0.1mm0
[0132][工作(液體處理方法)]
[0133]對(duì)實(shí)施方式2的液體處理裝置的工作、S卩、通過(guò)實(shí)施方式2的液體處理裝置實(shí)施的液體處理方法的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。
[0134]向介電管101內(nèi)供給待處理的被處理水109。供給到介電管101內(nèi)的被處理水109在介電管101內(nèi)由上游側(cè)(圖1所示的箭頭130)向下游側(cè)(圖1所示的箭頭131)流通。
[0135]通過(guò)氣體供給部105，向第一電極102b的空間208供給氣體110。供給的氣體110通過(guò)由第一電極102b的開(kāi)口部207釋放到介電管101的被處理水109中，從而在介電管101內(nèi)的被處理水109中形成氣泡111。氣泡111通過(guò)其內(nèi)部的氣體110將第一電極102b的開(kāi)口部207覆蓋。氣泡111從第一電極102b的開(kāi)口部207開(kāi)始遍及一定距離地形成。因此，實(shí)施方式2中，第一電極102b的開(kāi)口部207還作為氣泡產(chǎn)生部發(fā)揮功能。通過(guò)調(diào)整由氣體供給部105供給的氣體110的量，能夠得到第一電極102b的開(kāi)口部207的周圍、即第一電極102b中金屬露出的端面被氣泡111內(nèi)的氣體覆蓋的狀態(tài)。覆蓋第一電極102b的端面的氣泡111不僅受氣泡111內(nèi)的氣體110與其周圍的被處理水109接觸的氣-液界面在液體中的限定，還受氣泡111內(nèi)的氣體110與絕緣體206接觸的界面限定。即，限定氣泡111的氣-液界面在被處理水109中未“閉合”。氣泡111在第一電極102b的開(kāi)口部207附近與絕緣體206相接。如前所述，在第一電極102b的外側(cè)表面，導(dǎo)電體僅在開(kāi)口部207附近的端面露出。因此，通過(guò)產(chǎn)生覆蓋該端面的氣泡111，第一電極102b的外側(cè)表面通過(guò)氣泡111和絕緣體206而與被處理水109隔離。此外，第一電極102b的內(nèi)周面由于在形成氣泡111時(shí)被供給的氣體110覆蓋，因此不與被處理水109直接接觸。
[0136]接著，在第一電極102b的導(dǎo)電體露出部分被氣泡111覆蓋的狀態(tài)下，電源104在第一電極102b與第二電極103之間施加電壓。通過(guò)在第一電極102b與第二電極103之間施加電壓，在氣泡111內(nèi)引起放電，在第一電極102b的附近產(chǎn)生等離子體。等離子體擴(kuò)展到氣泡111的整體，特別是在第一電極102b的附近生成高濃度的等離子體112。另外，由于在第一電極102b的中空部分的空間208中也產(chǎn)生等離子體，因此，不僅能有效利用前端，還能有效利用電極整體。
[0137][效果]
[0138]實(shí)施方式2的液體處理裝置具備包括第一電極102b的電極單元150b、和向第一電極102b的空間208供給氣體110的氣體供給部105。由此，實(shí)施方式2的液體處理裝置能夠從第一電極102b的開(kāi)口部207產(chǎn)生氣泡111。并且，實(shí)施方式2的液體處理裝置通過(guò)在氣泡111內(nèi)引起放電，產(chǎn)生等離子體112，能夠生成壽命長(zhǎng)的OH自由基。因此，實(shí)施方式2中也能夠在氣泡111內(nèi)高效地產(chǎn)生等離子體112，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行被處理水109的處理。
[0139]本發(fā)明的液體處理裝置在被處理水流通的介電管內(nèi)配置第一電極和第二電極。第二電極相對(duì)于第一電極配置在上游側(cè)。第一電極上連接有供給氣體的氣體供給部。液體處理裝置具備在第一電極與第二電極之間施加電壓的電源。通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的液體處理裝置由氣體供給部向第一電極附近供給氣體，能夠產(chǎn)生覆蓋第一電極的導(dǎo)電體露出部的氣泡。因此，本發(fā)明的液體處理裝置通過(guò)電源在第一電極與第二電極之間施加電壓時(shí)，在介電管內(nèi)的被處理水中產(chǎn)生的氣泡內(nèi)能夠高效地產(chǎn)生等離子體。
[0140]因此，本發(fā)明的液體處理裝置通過(guò)利用等離子體所生成的OH自由基，能夠高效地將被處理水中的細(xì)菌除去、和/或高效地將被處理水中的化學(xué)物質(zhì)等分解。因此，本發(fā)明的液體處理裝置能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行被處理水(液體)的處理。
[0141 ] 本發(fā)明的液體處理裝置由于能夠在被處理水在介電管內(nèi)流通的同時(shí)進(jìn)行處理，因此與現(xiàn)有的具備處理槽的液體處理裝置相比，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的小型化。
[0142]本發(fā)明的液體處理裝置的電極單元并不限定于上述所示的結(jié)構(gòu)，可以使用各種結(jié)構(gòu)。包括第一電極的電極單元只要是可通過(guò)在液體中產(chǎn)生等離子體而生成自由基的結(jié)構(gòu)即可。
[0143]如上所示的第一電極以相對(duì)于液體在介電管內(nèi)流通的方向垂直的方式配置，但本發(fā)明的液體處理裝置的第一電極可以以任意的角度配置在介電管中。例如，第一電極也可以以第一電極的長(zhǎng)度方向相對(duì)于液體在介電管內(nèi)流通的方向不平行的方式配置。
[0144]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0145]本發(fā)明的液體處理裝置以及液體處理方法例如在空調(diào)機(jī)、加濕器、電動(dòng)剃須刀洗滌器、餐具洗滌器、水培用處理裝置、營(yíng)養(yǎng)液循環(huán)裝置、清潔馬桶座、凈水器、洗衣機(jī)、電水壺、或者空氣凈化器等液體處理裝置的用途中有用。
[0146]符號(hào)說(shuō)明
[0147]100液體處理裝置
[0148]101介電管
[0149]102，102a，102b 第一電極
[0150]103第二電極
[0151]104電源
[0152]105氣體供給部
[0153]106，206絕緣體
[0154]107，207開(kāi)口部
[0155]108，208空間
[0156]109被處理水
[0157]110氣體
[0158]111氣泡
[0159]112等離子體
[0160]121保持塊
[0161]122金屬電極部
[0162]123金屬固定部
[0163]124螺紋部
[0164]125貫通孔
[0165]126螺紋部
[0166]150，150a，150b電極單元
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液體處理裝置，其具備: 被處理水流通的介電管； 至少一部分配置在所述介電管內(nèi)的第一電極； 至少一部分配置在所述介電管內(nèi)且在所述第一電極的上游的第二電極； 供給氣體的氣體供給部，所述氣體用于產(chǎn)生覆蓋所述第一電極的導(dǎo)電體露出部的氣泡；以及 在所述第一電極與所述第二電極之間施加電壓的電源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其中，所述第一電極的長(zhǎng)度方向與所述被處理水在所述介電管內(nèi)由所述第二電極向所述第一電極流通的方向相交。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液體處理裝置，其中，所述電源通過(guò)在所述第一電極與所述第二電極之間施加電壓，從而使所述氣泡內(nèi)放電，產(chǎn)生等離子體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任意一項(xiàng)所述的液體處理裝置，其中，所述介電管中，對(duì)流路設(shè)置如下:所述被處理水由第二電極向第一電極流通，且所述被處理水和所述氣泡由所述第一電極向下游流通。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任意一項(xiàng)所述的液體處理裝置，其中，進(jìn)一步具備絕緣體，所述絕緣體以在所述第一電極的周圍形成空間的方式配置在所述介電管內(nèi)，具有以將所述介電管與所述空間連通的方式設(shè)置的開(kāi)口部， 所述氣體供給部通過(guò)向所述空間供給所述氣體，由所述絕緣體的所述開(kāi)口部向所述被處理水中產(chǎn)生所述氣泡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體處理裝置，其中，所述第一電極具備配置在所述介電管內(nèi)的金屬電極部、和將所述第一電極固定并與所述電源連接的金屬固定部， 所述金屬電極部和所述金屬固定部由不同的材料形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液體處理裝置，其中，所述金屬固定部具有由所述氣體供給部向所述空間供給氣體的貫通孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任意一項(xiàng)所述的液體處理裝置，其中，進(jìn)一步具備與所述第一電極的外周面相接而配置的絕緣體， 所述第一電極為具有開(kāi)口部、和與所述開(kāi)口部連通的中空的空間的筒狀， 所述氣體供給部通過(guò)向所述空間供給所述氣體，由所述第一電極的開(kāi)口部向所述被處理水中產(chǎn)生所述氣泡。
9.一種液體處理方法，其包括: 準(zhǔn)備介電管、至少一部分配置在所述介電管內(nèi)的第一電極、以及至少一部分配置在所述介電管內(nèi)的第二電極的工序； 在所述介電管內(nèi)以所述第二電極成為所述第一電極的上游的方向流通被處理水的工序; 供給氣體的工序，所述氣體用于產(chǎn)生覆蓋所述第一電極的導(dǎo)電體露出部的氣泡；以及 在所述第一電極與所述第二電極之間施加電壓的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液體處理方法，其中，在所述施加電壓的工序中，使所述氣泡內(nèi)放電，產(chǎn)生等離子體。
【專利摘要】本發(fā)明的液體處理裝置(100)具備：被處理水流通的介電管(101)；至少一部分配置在介電管(101)內(nèi)的第一電極(102)；至少一部分配置在介電管(101)內(nèi)且在第一電極(102)的上游的第二電極(103)；供給氣體的氣體供給部(105)，所述氣體用于產(chǎn)生覆蓋第一電極(102)的導(dǎo)電體露出部的氣泡(111)；以及在第一電極(102)與第二電極(103)之間施加電壓的電源(104)。
【IPC分類】C02F1-46, C02F1-00
【公開(kāi)號(hào)】CN104583131
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480001801
【發(fā)明人】藤金正樹(shù), 小野寺真里, 今井伸一
【申請(qǐng)人】松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年7月24日
【公告號(hào)】US20150225264, WO2015072049A1