技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及用于調(diào)節(jié)在電鍍中的方位角均勻性的裝置和方法。用于在半導(dǎo)體襯底上以改善的方位角均勻性電鍍金屬的裝置在一個方面包括：電鍍室，其被配置成容納電解液和陽極；襯底支架，其配置成在電鍍期間保持半導(dǎo)體襯底；離子阻性離子可穿透元件(“元件”)，其被配置成鄰近襯底定位；和屏蔽件，其被配置用于提供方位角不對稱屏蔽并定位在襯底支架和元件之間，使得所述屏蔽件的面對襯底的表面和所述襯底的工作表面之間的最近距離為小于約2mm。在一些實(shí)施方式中，在電鍍期間，在所述屏蔽件的面對襯底的表面和所述屏蔽件之間存在填充電解液的間隙。所述屏蔽件的面對襯底的表面可以設(shè)置輪廓使得從屏蔽件的不同位置到襯底的距離是變化的。

技術(shù)研發(fā)人員：加布里埃爾·?！じ窭?蔡李鵬;史蒂文·T·邁耶;羅伯特·拉什;亞倫·貝爾克
受保護(hù)的技術(shù)使用者：朗姆研究公司
文檔號碼：201610394032
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.06
技術(shù)公布日：2016.12.21