1.一種鑄造鎂合金表面微弧氧化膜層的制備方法，其特征在于所述方法采用雙極性正、負(fù)恒流微弧氧電源，以鑄造鎂合金零件為陽(yáng)極，以鋼板為陰極，所述陽(yáng)極和所述陰極插入電解液中，所述電解液中含有質(zhì)量含量為2~3%的Na2SiO3和1%的KOH，控制正恒流值和負(fù)恒流值的比值為1:1，獲得微弧氧化膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鑄造鎂合金表面微弧氧化膜層的制備方法，其特征在于所述雙極性正、負(fù)恒流模式的電壓設(shè)置為520~550V，通電時(shí)間為35~45min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鑄造鎂合金表面微弧氧化膜層的制備方法，其特征在于所述電解液的溫度控制在15~45℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鑄造鎂合金表面微弧氧化膜層的制備方法，其特征在于所述微弧氧化膜層的顯微硬度441~563Hv，厚度為20～50μm。