本發(fā)明涉及電鍍，尤其涉及一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法及裝置、電鍍?cè)O(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著電鍍技術(shù)的快速發(fā)展及具有改善導(dǎo)電性、耐磨性等優(yōu)點(diǎn)，其在各個(gè)領(lǐng)域得以廣泛應(yīng)用，如工業(yè)制造領(lǐng)域、航空航天領(lǐng)域等領(lǐng)域。

2、目前，產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中，當(dāng)需要進(jìn)行電量調(diào)節(jié)時(shí)，往往是工作人員根據(jù)產(chǎn)品的電鍍要求及自身的電鍍經(jīng)驗(yàn)，對(duì)產(chǎn)品電鍍過(guò)程中的電量進(jìn)行人工調(diào)節(jié)，以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的電鍍，完成產(chǎn)品的生產(chǎn)。

3、然而，實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，通過(guò)人工進(jìn)行電流調(diào)節(jié)，往往需要花費(fèi)大量時(shí)間和精力，且由于人具有主觀因素和疲勞性，往往很容易導(dǎo)致所調(diào)節(jié)的電流準(zhǔn)確性低。因此，亟需提出一種在產(chǎn)品電鍍過(guò)程中智能調(diào)節(jié)其電量參數(shù)，以提高產(chǎn)品的電鍍效率及準(zhǔn)確性的技術(shù)方案。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供了一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法及裝置、電鍍?cè)O(shè)備，能夠在產(chǎn)品電鍍過(guò)程中智能調(diào)節(jié)其電量參數(shù)，以提高產(chǎn)品的電鍍效率及準(zhǔn)確性。

2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明第一方面公開(kāi)了一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法，所述方法包括：

3、采集目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電鍍參數(shù)，并判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)是否滿足預(yù)先確定出的電鍍需求；

4、當(dāng)判斷出所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)不滿足所述電鍍需求時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)及所述電鍍需求，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)；

5、根據(jù)確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)執(zhí)行調(diào)節(jié)操作。

6、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)包括在電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍層的方阻時(shí)，所述判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)是否滿足預(yù)先確定出的電鍍需求，包括：

7、判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻是否在預(yù)先確定出的方阻范圍內(nèi)；

8、當(dāng)判斷出所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻不在所述方阻范圍內(nèi)時(shí)，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)不滿足預(yù)先確定出的電鍍需求。

9、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，所述根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)及所述電鍍需求，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，包括：

10、獲取所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)，所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)包括預(yù)先確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電鍍層厚度、在電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍生產(chǎn)速度；

11、根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)、所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)及所述電鍍需求，生成所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)。

12、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)為方阻、所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)為電流調(diào)節(jié)參數(shù)且所述電鍍需求為所述方阻范圍時(shí)，所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)的計(jì)算公式如下：

13、a＝[15hs(x-y)]/3；

14、式中，a為所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電流調(diào)節(jié)參數(shù)，h為所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電鍍層厚度，s為所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍生產(chǎn)速度，x為所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻，y為所述方阻范圍。

15、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)至少一個(gè)導(dǎo)電模塊，每個(gè)所述導(dǎo)電模塊用于作為所述目標(biāo)產(chǎn)品電鍍過(guò)程中的電量調(diào)整依據(jù)；

16、所述方法還包括：

17、從所有所述導(dǎo)電模塊中，確定需要進(jìn)行電量參數(shù)調(diào)節(jié)的至少一個(gè)目標(biāo)導(dǎo)電模塊；

18、根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，為每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊分配對(duì)應(yīng)的電量調(diào)節(jié)參數(shù)；

19、其中，所述根據(jù)確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)執(zhí)行調(diào)節(jié)操作，包括：

20、根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊對(duì)應(yīng)的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，生成該目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量調(diào)節(jié)控制參數(shù)，并根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量調(diào)節(jié)控制參數(shù)，對(duì)該目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)調(diào)節(jié)。

21、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，每個(gè)所述導(dǎo)電模塊由導(dǎo)電槽和導(dǎo)電件組成，且每個(gè)所述導(dǎo)電槽用于放置導(dǎo)電液，每個(gè)所述導(dǎo)電槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電件置于該導(dǎo)電槽的導(dǎo)電液中且用于作為電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電極。

22、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第一方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)為方阻時(shí)，所述采集目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電鍍參數(shù)，包括：

23、獲取用于測(cè)量所述目標(biāo)產(chǎn)品電鍍層的方阻的方阻儀的工作參數(shù)，所述方阻儀的工作參數(shù)包括所述方阻儀的頻率；

24、根據(jù)所述方阻儀的工作參數(shù)，采集所述目標(biāo)產(chǎn)品已經(jīng)完成電鍍的目標(biāo)部位的多個(gè)位置的方阻；

25、根據(jù)所有所述位置的方阻，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的方阻。

26、本發(fā)明第二方面公開(kāi)了一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的裝置，所述裝置包括：

27、采集模塊，用于采集目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電鍍參數(shù)；

28、判斷模塊，用于判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)是否滿足預(yù)先確定出的電鍍需求；

29、確定模塊，用于當(dāng)判斷出所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)不滿足所述電鍍需求時(shí)，根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)及所述電鍍需求，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)；

30、調(diào)節(jié)模塊，用于根據(jù)確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)執(zhí)行調(diào)節(jié)操作。

31、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)包括在電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍層的方阻時(shí)，所述判斷模塊判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)是否滿足預(yù)先確定出的電鍍需求的具體方式包括：

32、判斷所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻是否在預(yù)先確定出的方阻范圍內(nèi)；

33、當(dāng)判斷出所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻不在所述方阻范圍內(nèi)時(shí)，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)不滿足預(yù)先確定出的電鍍需求。

34、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，所述確定模塊根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)及所述電鍍需求，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)的具體方式包括：

35、獲取所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)，所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)包括預(yù)先確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電鍍層厚度、在電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍生產(chǎn)速度；

36、根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)、所述目標(biāo)產(chǎn)品的目標(biāo)參數(shù)及所述電鍍需求，生成所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)。

37、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)為方阻、所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)為電流調(diào)節(jié)參數(shù)且所述電鍍需求為所述方阻范圍時(shí)，所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)的計(jì)算公式如下：

38、a＝[15hs(x-y)]/3；

39、式中，a為所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電流調(diào)節(jié)參數(shù)，h為所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電鍍層厚度，s為所述目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍生產(chǎn)速度，x為所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的方阻，y為所述方阻范圍。

40、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)至少一個(gè)導(dǎo)電模塊，每個(gè)所述導(dǎo)電模塊用于作為所述目標(biāo)產(chǎn)品電鍍過(guò)程中的電量調(diào)整依據(jù)；

41、所述確定模塊，還用于從所有所述導(dǎo)電模塊中，確定需要進(jìn)行電量參數(shù)調(diào)節(jié)的至少一個(gè)目標(biāo)導(dǎo)電模塊；

42、所述裝置還包括：

43、分配模塊，用于根據(jù)所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，為每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊分配對(duì)應(yīng)的電量調(diào)節(jié)參數(shù)；

44、其中，所述調(diào)節(jié)模塊根據(jù)確定出的所述目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)執(zhí)行調(diào)節(jié)操作的具體方式包括：

45、根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊對(duì)應(yīng)的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，生成該目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量調(diào)節(jié)控制參數(shù)，并根據(jù)每個(gè)所述目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量調(diào)節(jié)控制參數(shù)，對(duì)該目標(biāo)導(dǎo)電模塊的電量參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)調(diào)節(jié)。

46、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，每個(gè)所述導(dǎo)電模塊由導(dǎo)電槽和導(dǎo)電件組成，且每個(gè)所述導(dǎo)電槽用于放置導(dǎo)電液，每個(gè)所述導(dǎo)電槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電件置于該導(dǎo)電槽的導(dǎo)電液中且用于作為電鍍過(guò)程中所述目標(biāo)產(chǎn)品的電極。

47、作為一種可選的實(shí)施方式，在本發(fā)明第二方面中，當(dāng)所述目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)為方阻時(shí)，所述采集模塊采集目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電鍍參數(shù)的具體方式包括：

48、獲取用于測(cè)量所述目標(biāo)產(chǎn)品電鍍層的方阻的方阻儀的工作參數(shù)，所述方阻儀的工作參數(shù)包括所述方阻儀的頻率；

49、根據(jù)所述方阻儀的工作參數(shù)，采集所述目標(biāo)產(chǎn)品已經(jīng)完成電鍍的目標(biāo)部位的多個(gè)位置的方阻；

50、根據(jù)所有所述位置的方阻，確定所述目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的方阻。

51、本發(fā)明第三方面公開(kāi)了另一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的裝置，所述裝置包括：

52、存儲(chǔ)有可執(zhí)行程序代碼的存儲(chǔ)器；

53、與所述存儲(chǔ)器耦合的處理器；

54、所述處理器調(diào)用所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的所述可執(zhí)行程序代碼，執(zhí)行本發(fā)明第一方面公開(kāi)的任意一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法中的部分或全部步驟。

55、本發(fā)明第四方面公開(kāi)了一種計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)指令，所述計(jì)算機(jī)指令被調(diào)用時(shí)，用于執(zhí)行本發(fā)明第一方面公開(kāi)的任意一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法中的部分或全部步驟。

56、本發(fā)明第五方面公開(kāi)了一種電鍍?cè)O(shè)備，所述電鍍?cè)O(shè)備用于執(zhí)行本發(fā)明第一方面公開(kāi)的任意一種自動(dòng)調(diào)節(jié)電鍍過(guò)程中電量參數(shù)的方法中的部分或全部步驟。

57、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例具有以下有益效果：

58、本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)將自動(dòng)采集到的目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電鍍參數(shù)(如方阻)與目標(biāo)產(chǎn)品所需的電鍍需求進(jìn)行比較，并在比較出其產(chǎn)品不滿足所需的電鍍需求時(shí)，自動(dòng)根據(jù)采集到的目標(biāo)產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電鍍參數(shù)及電鍍需求，確定目標(biāo)產(chǎn)品所需的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，如電流調(diào)節(jié)參數(shù)，以提高目標(biāo)產(chǎn)品所需電量調(diào)節(jié)參數(shù)的確定準(zhǔn)確性及效率，從而根據(jù)確定出的電量調(diào)節(jié)參數(shù)，對(duì)目標(biāo)產(chǎn)品在電鍍過(guò)程中的電量參數(shù)，如電流，執(zhí)行調(diào)節(jié)操作，以提高目標(biāo)產(chǎn)品電鍍過(guò)程中的電量調(diào)節(jié)效率及準(zhǔn)確性，從而提高目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍效率及準(zhǔn)確性，進(jìn)而有利于提高目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍參數(shù)的均勻性及導(dǎo)電性，有利于提高目標(biāo)生產(chǎn)過(guò)程中電鍍參數(shù)的管控精準(zhǔn)性，有利于提高目標(biāo)產(chǎn)品的生產(chǎn)效率及準(zhǔn)確性；以及通過(guò)自動(dòng)采集目標(biāo)產(chǎn)品的電鍍參數(shù)，如電鍍層的方阻，無(wú)需通過(guò)破壞性取樣測(cè)量目標(biāo)產(chǎn)品的首末件電鍍參數(shù)，保證目標(biāo)產(chǎn)品的完好性的同時(shí)提高了電鍍參數(shù)的測(cè)量靈活性及效率。