子被雜原子例如氮、氧、硅、磷、硼、硫或鹵素原子取代的部分。烴基部 分可以被一個或多個以下取代基取代：鹵素、雜環(huán)、烷氧基、烯氧基、炔氧基、芳氧基、羥基， 經(jīng)保護的羥基，羥基羰基、酮、?；?、酰氧基、硝基、氨基、酰胺基、硝基、膦?；?、氰基、巰基、 縮酮、縮醛、酯基及醚基。
[0027] 優(yōu)選的添加劑為其中根據(jù)式VII.的添加劑的R4和RlO獨立選自H、甲基、鈉、鉀、 鹵離子、硫酸根、磷酸根和磺酸根。
[0028] 優(yōu)選的添加劑為其中根據(jù)式VII.的添加劑的R5、R6、R8和R9獨立選自H、甲基、 乙基、正丙基和異丙基。
[0029] 優(yōu)選的添加劑為其中根據(jù)式VII.的添加劑的R7選自由式IX.和X.表示的基團：
且其中Rll和R12選自H、甲基、乙基、正丙基和異丙基。
[0030] 特別優(yōu)選提高所述至少一種具有下式的含磷化合物的溶解度的添加劑：
且其中η的 范圍為1-20,優(yōu)選3-8 ;
且其中 η的范圍為1-20,優(yōu)選2-10 ;
其中η 的范圍為1-20,優(yōu)選2-7。
[0031] 所述至少一種提高所述至少一種含磷化合物的溶解度的任選添加劑的濃度的優(yōu) 選范圍為 〇· 0001-0. lmol/1，更優(yōu)選 0· 0005-0. 05mol/l 且最優(yōu)選 0· 001-0. 005mol/l。
[0032] 包含至少一種含磷化合物的水溶液還任選包含可以提高所述至少一種含磷化合 物在主要溶劑（水）中的溶解度的共溶劑。任選的共溶劑優(yōu)選為極性有機溶劑，所述極性 有機溶劑選自：醇，例如乙醇、異丙醇、丁醇；二醇的烷基醚(例如1-甲氧基-2-丙醇；乙二 醇、二乙二醇、丙二醇、丁二醇的單烷基醚）；酮，例如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異佛爾酮； 酯和醚，例如乙酸2-乙氧基乙基酯和2-乙氧基乙醇。
[0033] 任選的共溶劑濃度（由存在的所有溶劑(水和共溶劑）的總量計算）的優(yōu)選范圍為 0· 0001-40 wt%，更優(yōu)選 0· 01-20 wt% 且最優(yōu)選 0· 1-10 wt%。
[0034] 在本發(fā)明的一個實施方案中，所述水溶液包含至少一種含磷化合物、至少一種提 高所述至少一種含磷化合物的溶解度的添加劑和至少一種共溶劑。
[0035] 所述水溶液還可以包含本領(lǐng)域已知的消泡添加劑和導(dǎo)電鹽(例如乙酸鈉和/或乙 酸銨或磷酸鈉和/或磷酸銨）以及陰離子表面活性劑(例如十二烷基硫酸鈉)。
[0036] 包含至少一種含磷化合物的水溶液的pH值的優(yōu)選范圍為1-8,更優(yōu)選1. 5-6. 5且 最優(yōu)選3-6。
[0037] 通過將所述基材浸到所述水溶液中、通過將所述水溶液噴到所述基材上或通過將 所述水溶液刷到所述基材上使包含鉻表面的基材與水溶液接觸。
[0038] 而且，使電流通過包含鉻表面的基材和包含至少一種含磷化合物的水溶液。包含 鉻表面的基材在根據(jù)本發(fā)明的用于腐蝕保護方法中用作陰極。只有這樣才能獲得需要的腐 蝕保護，并同時保持所需要的鉻表面光學(xué)性質(zhì)，例如光澤和顏色。
[0039] 施加到包含鉻表面的基材（陰極）的電流密度的優(yōu)選范圍為0. 005_5A/dm2,更優(yōu)選 0· 01-2A/dm2且最優(yōu)選(λ 02-lA/dm2。
[0040] 當(dāng)在包含鉻表面的基材(實施例3)之間不施加電流時，無法獲得充分提高的抗腐 蝕。如果所施加的電流密度太高(實施例2)或如果包含鉻表面的基材用作陽極(實施例4)， 那么在鉻表面上形成不期望的模糊沉積物和/或不需要的暗渾濁。
[0041] 陽極可以例如由選自不銹鋼、鉬或鍍鉑鈦的材料制得。
[0042] 將電流施加到包含鉻表面的基材歷時10-900S，更優(yōu)選15-600S且最優(yōu)選 30 _300s 〇
[0043] 當(dāng)包含鉻表面的基材與所述水溶液接觸時，包含至少一種含磷化合物的水溶液的 溫度優(yōu)選保持在20-80°C、更優(yōu)選30-70°C且最優(yōu)選40-60°C范圍的溫度下。 實施例
[0044] 現(xiàn)在將參考以下非限制性的實施例來闡述本發(fā)明。
[0045] 在所有實施例中使用包含銅、半光亮鎳、光亮鎳、不導(dǎo)電的含鎳顆粒("微孔鎳"）的 多層涂層的相同尺寸的ABS基材和由鉻層組成的頂層。鉻層為光亮鉻層或暗鉻層，如在各 自的實施例中說明，其已從基于三價鉻的電解質(zhì)沉積。
[0046] 在中性鹽噴霧試驗之前，目視檢查鉻表面的光學(xué)外觀。
[0047] 根據(jù)ISO 9227 NSS進行中性鹽噴霧試驗。給出各自的實施例的結(jié)果。
[0048] 在中性鹽噴霧試驗之后基材用水沖洗并干燥，且隨后目視檢查。在鹽噴霧測試室 中在給定的時間之后沒有可見的外觀改變被認為是合乎需要的，且在超過5%的鉻表面(用 測量板（caliber plate)測定）上發(fā)生光學(xué)外觀改變被認為是未通過腐蝕測試。
[0049] 實施例1 (對照) 在沒有任何后處理的情況下通過根據(jù)ISO 9227 NSS的中性鹽噴霧試驗研究光亮鉻表 面。
[0050] 當(dāng)在480小時中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，未處理的鉻表面未通過腐蝕測 試，原因是在超過5%的鉻表面上外觀顯著改變。
[0051] 實施例2 (對照) 在40°C下在未向所述鉻表面施加外部電流的情況下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正 十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6 wt%乙醇的水溶液處理光亮鉻表面60s。
[0052] 當(dāng)在480小時中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，經(jīng)處理的鉻表面未通過腐蝕測 試，原因是超過5%的鉻表面顯示可見的外觀改變。
[0053] 實施例3 (對照) 在40 °C同時向作為陽極的鉻表面施加0. 05A/dm2的電流密度下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6 wt%乙醇的水溶液處理光 亮鉻表面30s。這個對照實施例是根據(jù)EP 2186928 Al中的教導(dǎo)。
[0054] 鉻表面在后處理之后在其表面上包含不需要的模糊沉積物。用水沖洗不能從鉻表 面除去該不需要的模糊沉積物。因此，這個處理對工業(yè)用途是不可接受的。
[0055] 實施例4 在40 °C同時向作為陰極的鉻表面施加0. 05A/dm2的電流密度下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6 wt%乙醇的水溶液處理光 亮鉻表面30s。
[0056] 鉻表面的光學(xué)外觀在后處理之后不改變。
[0057] 當(dāng)在480h中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，經(jīng)處理的鉻表面通過了腐蝕測試。
[0058] 實施例5 (對照) 在沒有任何后處理的情況下通過根據(jù)ISO 9227 NSS的中性鹽噴霧試驗研究暗鉻表面。
[0059] 當(dāng)在480h中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，未處理的鉻表面未通過腐蝕測試。
[0060] 實施例6 (對照) 在40°C下在未向所述鉻表面施加外部電流的情況下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正 十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6 wt %乙醇的水溶液處理暗鉻表面60s。
[0061] 當(dāng)在480h中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，未處理的鉻表面未通過腐蝕測試，原 因是超過5%的鉻表面顯示外觀的可見變化。
[0062] 實施例7 (對照) 在40 °C同時向作為陽極的鉻表面施加0. 05A/dm2的電流密度下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6 wt %乙醇的水溶液處理 暗鉻表面30s。這個對照實施例是根據(jù)EP 2186928 Al中的教導(dǎo)。
[0063] 鉻表面在后處理之后在其表面上包含不需要的閃光層。用水沖洗不能從鉻表面除 去不需要的閃光層。因此，這種處理對工業(yè)用途是不可接受的。
[0064] 實施例8 在40 °C同時向作為陰極的鉻表面施加0. 05A/dm2的電流密度下，用包含0. 93g/l (3. 7mmol/l)正十二烷基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑和6wt. -%乙醇的水溶液處理 暗絡(luò)表面30s。
[0065] 鉻表面的光學(xué)外觀在后處理之后不改變。
[0066] 當(dāng)在480h中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，經(jīng)處理的鉻表面通過了腐蝕測試。
[0067] 實施例9 (對照) 在50°C下在未向所述鉻表面施加外部電流的情況下，用包含0. 75g/l (4. Ommol/1)正 辛基磷酸、7. 5g/l根據(jù)式XII.的添加劑、0.6 wt%異丙二醇和9. 3g/l乙酸銨的水溶液處理 暗絡(luò)表面60s。
[0068] 當(dāng)在240h中性鹽噴霧試驗之后目視檢查時，經(jīng)處理的鉻表面未通過腐蝕測試，原 因