1.一種x光檢查系統(tǒng)，包括：
x光源；
樣品支撐件，所述樣品支撐件用于支撐將被檢查的樣品；
x光檢測器；
樣品定位組件，所述樣品定位組件包括第一定位機構，用于使所述樣品支撐件沿第一軸線朝著和遠離所述x光源移動；
接近傳感器，所述接近傳感器被固定至所述x光源，所述接近傳感器被構造成提供所述x光源和所述樣品支撐件上的樣品的表面之間的距離測量；以及
控制器，所述控制器被連接至所述接近傳感器。
2.根據(jù)權利要求1所述的x光檢查系統(tǒng)，其中所述接近傳感器包括激光源，所述激光源引導平行于所述第一軸線的激光束。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的x光檢查系統(tǒng)，其中所述控制器包括圖像處理器，所述圖像處理器被構造成在圖像處理計算中使用所述接近傳感器提供的距離測量。
4.根據(jù)任一項上述權利要求所述的x光系統(tǒng)，其中所述定位組件包括第二定位機構，所述第二定位機構被構造成使所述樣品支撐件在與所述第一軸線正交的平面中移動，并且
其中所述控制器被構造成相對于所述接近傳感器操作所述第二定位機構，以便對所述樣品支撐件上的樣品的頂部表面執(zhí)行掃描。
5.根據(jù)權利要求4所述的x光系統(tǒng)，其中所述掃描為光柵掃描。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的x光系統(tǒng)，其中所述控制器被構造成記錄在所述掃描期間記錄的所述樣品的最接近點。
7.根據(jù)權利要求6所述的x光系統(tǒng)，其中所述控制器被構造成基于所述最接近點計算所述第一定位機構與所述x光源的最接近安全位置；并且控制所述第一定位組件，以防止所述第一定位組件被移動成比所計算的最接近安全位置更接近所述x光源。
8.根據(jù)任一項上述權利要求所述的x光系統(tǒng)，其中所述控制器被構造成基于所述接近傳感器提供的距離測量來校準所述第一定位機構。
9.根據(jù)上述權利要求中的任一項所述的x光檢查系統(tǒng)，其中所述x光源位于所述樣品支撐件上方。
10.根據(jù)上述權利要求中的任一項所述的x光系統(tǒng)，其中所述控制器被構造成使用所述接近傳感器確定的距離來執(zhí)行放大率計算。
11.根據(jù)上述權利要求中的任一項所述的x光檢查系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)被構造成對所述x光檢測器記錄的圖像執(zhí)行層析計算。
12.一種控制x光檢查系統(tǒng)的方法，所述x光檢查系統(tǒng)包括：x光源；樣品支撐件，用于支撐將被檢查的樣品，其中所述樣品支撐件包括支撐表面；x光檢測器；樣品定位組件，包括用于使所述樣品支撐件沿第一軸線朝著以及遠離所述x光源移動的第一定位機構以及被構造成使所述樣品支撐件在與所述第一軸線正交的平面中移動的第二定位機構；以及被固定至所述x光源的接近傳感器，用于確定所述x光源和所述樣品支撐件上的樣品的表面之間的距離，
所述方法包括：
a)將樣品置于所述樣品支撐件上；
b)使用所述第一定位機構將所述樣品支撐件定位在所述第一定位機構的第一位置處；
c)使所述樣品支撐件在與所述第一軸線正交的平面中移動經(jīng)過所述接近傳感器，并且隨著所述樣品支撐件在所述平面中移動，在多個位置處記錄所述樣品的表面距所述x光源的距離；
d)基于所記錄的距離，計算所述第一定位機構距所述x光源的最接近安全位置；以及
e)控制所述第一定位組件，以防止所述第一定位組件被移動成比所計算的最接近安全位置更接近所述x光源。
13.根據(jù)權利要求12所述的控制x光檢查系統(tǒng)的方法，還包括：基于所記錄的距離執(zhí)行放大率計算。
14.根據(jù)權利要求12或13所述的控制x光檢查系統(tǒng)的方法，其中移動所述樣品支撐件的步驟包括：使所述樣品支撐件在光柵掃描構造中移動。
15.一種控制x光檢查系統(tǒng)的方法，所述x光檢查系統(tǒng)包括：x光源；樣品支撐件，用于支撐將被檢查的樣品，其中所述樣品支撐件包括支撐表面；x光檢測器；樣品定位組件，包括用于使所述樣品支撐件沿第一軸線朝著以及遠離所述x光源移動的第一定位機構以及被構造成使所述樣品支撐件在與所述第一軸線正交的平面中移動的第二定位機構；以及被固定至所述x光源的接近傳感器，用于確定所述x光源和所述樣品支撐件上的樣品的表面之間的距離，
所述方法包括：
a)將樣品置于所述樣品支撐件上；
b)使用所述第一定位機構將所述樣品支撐件定位在所述第一定位機構的第一位置處；
c)在所述第一位置處記錄所述樣品的表面距x光源的距離；以及
d)基于所記錄的距離執(zhí)行放大率計算。