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用于檢查半導(dǎo)體晶片的X光檢查設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):11850895閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
一種x光檢查系統(tǒng),包括:x光源(100);用于支撐將被檢查的樣品的樣品支撐件(200);x光檢測(cè)器(300);包括用于使所述樣品支撐件(200)沿第一軸線朝著和遠(yuǎn)離所述x光源(100)移動(dòng)的第一定位機(jī)構(gòu)(210)的樣品定位組件(210);被構(gòu)造成提供所述x光源(100)和所述樣品支撐件(200)上的樣品表面之間的距離測(cè)量值的、被固定至所述x光源(100)的接近傳感器(400);以及被連接至所述接近傳感器(400)的控制器(500)。能夠在圖像處理計(jì)算中使用來(lái)自所述接近傳感器(400)的測(cè)量值,從而防止樣品和所述x光源(100)之間的碰撞。

技術(shù)研發(fā)人員:威廉·T·瓦爾克;西蒙·懷特
受保護(hù)的技術(shù)使用者:諾信公司
文檔號(hào)碼:201580018595
技術(shù)研發(fā)日:2015.04.03
技術(shù)公布日:2016.11.23

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